本發明涉及液晶顯示器制造領域，尤其涉及TFT陣列基板、TFT液晶顯示面板及制作方法。

背景技術：
目前液晶顯示器的應用越來越廣泛，現有的液晶顯示器一般由上下兩個基板對盒形成，對盒后的上下基板的四周都是用封框膠進行貼合的。為了使貼合后的上下基板形成的顯示面板盒厚均勻，并使上下基板電性導通，一般在外圍封框膠區域設置有硅球和金球，硅球在周邊結構中起支持周邊盒厚的作用，金球用于導通上下基板，如圖1所示為現有的液晶顯示面板周邊結構示意圖。圖1中，液晶顯示面板由彩膜基板和具有TFT陣列的陣列基板對盒形成，TFT陣列基板的玻璃基板2形成有數條掃描線和數條數據線（圖中未標示），數條掃描線與數條數據線相交限定形成陣列排布的像素區域，像素區域內形成有TFT陣列，每一TFT內包括有柵極3，以及依次形成于柵極上的柵絕緣層4、半導體層和源/漏金屬層（通常形成TFT的源極的金屬與形成漏極的金屬在同一個工藝步驟中形成，因此二者位于同一層，統稱為源/漏金屬層，且圖中未標示），陣列基板上還包括形成于TFT陣列之上的絕緣層5。彩膜基板的玻璃基板1上包括色層6和遮光層7。由圖1可知，球形的硅球8和金球9是獨立于TFT陣列基板和彩膜基板的，并摻雜在粘合彩膜基板和陣列基板的封框膠10內，與遮光層7和絕緣層5的接觸面積很小，很難控制周邊盒厚，導致液晶顯示器的周邊盒厚不均勻，影響顯示效果。

技術實現要素：
本發明的目的是提供一種TFT陣列基板、TFT液晶顯示面板及制作方法，以解決現有液晶顯示面板的周邊盒厚不均勻的問題。本發明的目的是通過以下技術方案實現的：本發明一方面提供了一種薄膜晶體管TFT陣列基板，包括形成在基板上的TFT，以及位于所述TFT之上的絕緣層，還包括：與所述絕緣層為一體結構、并以預設方式排布在所述基板待涂布封框膠區域對應位置處、能夠將所述TFT陣列基板和與其相對設置的彩膜基板電連接的若干個支撐物；且所述若干個支撐物具有位于同一水平面用于支撐所述彩膜基板的上頂平面。優選的，所述支撐物包括由樹脂材料形成的支撐部，以及涂覆于所述支撐部表面的、厚度均勻的金屬氧化物薄膜。進一步的，所述支撐部為通過掩膜工藝一體形成在所述絕緣層之上，并與所述絕緣層具有設定接觸面積的規則形狀或不規則形狀，所述支撐部的形狀優選柱狀。進一步優選的，所述TFT陣列基板還包括：像素電極；電連接所述像素電極與TFT漏極、且靠近所述基板待涂布封框膠區域的過孔；以及位于所述過孔內、表面涂覆有厚度均勻的金屬氧化物薄膜的若干個支撐部，且若干個所述支撐部具有位于同一水平面用于支撐所述彩膜基板的上頂平面。其中，位于過孔外的支撐部高度為遮光層和所述絕緣層之間的垂直距離，其中所述遮光層位于與所述TFT陣列基板相對設置的彩膜基板上；位于過孔內的支撐部高度為位于過孔外的支撐部高度與所述絕緣層厚度之和。位于過孔外的支撐部與位于過孔內的支撐部沿所述基板邊緣延伸方向平行排列。本發明還提供了一種液晶顯示面板，該液晶顯示面板包括：上述薄膜晶體管TFT陣列基板；與所述TFT陣列基板相對設置的彩膜基板，所述彩膜基板面向所述TFT陣列基板的一面上形成有遮光層和色層，在所述遮光層對應于所述TFT陣列基板的所述支撐物的位置處形成有支撐物襯墊；以及設置于所述TFT陣列基板與所述彩膜基板之間的液晶層。本發明另一方面還提供了一種薄膜晶體管TFT陣列基板的制造方法，包括：在基板上形成TFT陣列以及絕緣層，該方法還包括：在所述絕緣層之上，形成與所述絕緣層為一體結構，并能夠將TFT陣列基板和與其相對設置的彩膜基板電連接的若干支撐物，其中，所述若干支撐物具有位于同一水平面用于支撐所述彩膜基板的上頂平面，并以預設方式排布在所述基板待涂布封框膠區域對應位置處。上述薄膜晶體管TFT陣列基板的制造方法優選包括：在所述絕緣層上沉積樹脂有機膜；對所述有機膜進行曝光、顯影、刻蝕后，在所述基板待涂布封框膠區域對應位置處一體形成若干所述支撐物的支撐部；在所述支撐部表面沉積厚度均勻的金屬氧化物薄膜。優選的，在所述支撐部表面沉積均勻厚度的金屬氧化物薄膜之前，上述方法還包括：形成像素電極，以及電連接所述像素電極與TFT漏極的過孔；在靠近所述基板待涂布封框膠區域的所述過孔內，一體形成能夠將所述TFT陣列基板和與其相對設置的彩膜基板電連接的若干支撐部，若干所述支撐部具有位于同一水平面用于支撐所述彩膜基板的上頂平面。本發明再一方面還提供了一種液晶顯示面板的制作方法，該方法包括：提供一TFT陣列基板；在所述TFT陣列基板的TFT陣列上形成絕緣層；在所述絕緣層上沉積樹脂有機膜；對所述有機膜進行曝光、顯影、刻蝕后，形成與所述絕緣層為一體結構， 并能夠將TFT陣列基板和與其相對設置的彩膜基板電連接的若干支撐物的支撐部，其中，若干所述支撐部具有位于同一水平面用于支撐所述彩膜基板的上頂平面，并以預設方式排布在所述基板待涂布封框膠區域對應位置處；在所述支撐部表面沉積均勻厚度的金屬氧化物薄膜；提供一形成有密封膠框的彩膜基板，并在所述彩膜基板的遮光層對應于所述TFT陣列基板的所述支撐物的位置處形成支撐物襯墊；在所述密封膠框內滴入液晶，并將所述TFT陣列基板與所述彩膜基板相對貼合，所述TFT基板與所述彩膜基板之間通過所述支撐物支撐，將液晶封裝在所述TFT陣列基板與所述彩膜基板之間。本發明提供的TFT陣列基板、TFT液晶顯示面板及制作方法，在TFT陣列基板待涂布封框膠區域對應位置處，形成與TFT陣列基板絕緣層為一體結構，具有位于同一水平面用于支撐所述彩膜基板的上頂平面，并能夠將TFT陣列基板與其相對設置的彩膜基板電連接的支撐物，該支撐物與絕緣層為一體結構，并以設定方式排布，則相較現有中利用獨立于陣列基板的硅球和金球支撐彩膜基板更穩固，并能夠更好的起到支撐作用，并且該支撐物兼具支撐與導通上下基板的功能，避免單獨選取硅球和金球，更為精確的控制周邊盒厚。附圖說明圖1為現有技術中液晶顯示面板周邊結構示意圖；圖2為本發明實施例一提供的TFT陣列基板周邊結構示意圖；圖3為本發明實施例一提供的另一TFT陣列基板周邊結構示意圖；圖4為本發明實施例一提供的再一TFT陣列基板周邊結構示意圖；圖5為本發明實施例二提供的液晶顯示面板周邊結構示意圖；圖6為本發明實施例三提供的TFT陣列基板制作流程圖；圖7為本發明實施例四提供的液晶顯示面板制作流程圖。具體實施方式本發明實施例提供的TFT陣列基板、TFT液晶顯示面板及制作方法，在待涂布封框膠區域位置處形成兼具支撐作用與導電功能的支撐物，通過該陣列基板與彩膜基板對盒，能夠較精確的控制周邊盒厚。以下將結合附圖，對本發明實施例提供的TFT陣列基板、TFT液晶顯示面板及制作方法的具體實施方式進行詳細地說明，附圖中各區域大小和形狀不反映真實比例，目的只是示意說明本發明內容。如圖2所示，為本發明實施例一提供的TFT陣列基板周邊結構示意圖，本發明實施例中TFT陣列基板包括位于TFT陣列之上的絕緣層5，以及與絕緣層5為一體結構的，能夠將TFT陣列基板和與其相對設置的彩膜基板電連接的支撐物11，且該支撐物11具有位于同一水平面用于支撐所述彩膜基板的上頂平面，并以預設方式排布在陣列基板待涂布封框膠區域對應位置處。本發明實施例提供的TFT陣列基板，在TFT陣列基板待涂布封框膠區域對應位置處具有，與TFT陣列基板絕緣層為一體結構，位于同一水平面用于支撐所述彩膜基板的上頂平面，并能夠將TFT陣列基板與其相對設置的彩膜基板電連接的支撐物，該支撐物與絕緣層為一體結構，并以設定方式排布，則相較現有中利用獨立于陣列基板的硅球和金球支撐彩膜基板更穩固，并能夠更好的起到支撐作用，并且該支撐物兼具支撐與導通上下基板的功能，避免單獨選取硅球和金球，更為精確的控制周邊盒厚。優選的，本發明實施例中支撐物可選用易成型的樹脂材料形成一支撐部110，并且使該支撐部表面涂覆有厚度均勻的金屬氧化物薄膜13，使形成的支撐物相對硬度也較小，減小對絕緣層的擠壓，同時在樹脂材料形成的支撐物表面涂覆有厚度均勻的金屬氧化物薄膜13，使得對盒后的陣列基板與彩膜基板通過該金屬氧化物導通，如圖3所示，即該支撐物兼具硅球和金球的作用，簡化制作工藝。本發明實施例中支撐部110的形狀并不做限定，只要能夠起到支撐作用即可，但為了避免形成的支撐部110受到外力擠壓后，刺破位于其下方的絕緣層 5，本發明實施例中優選該支撐部110為通過掩膜工藝一體形成在絕緣層5之上的規則形狀或不規則形狀，進一步優選與絕緣層5具有設定接觸面積的規則形狀或不規則形狀。進一步優選的，本發明實施例中支撐物的形狀優選柱狀，一方面柱狀支撐物較易形成，另一方面柱狀支撐物具有一定的底面積，增大支撐物與絕緣層之間的有效接觸面積，防止受到外力擠壓時，支撐物刺破比較軟的絕緣層5，由于柱狀支撐物與絕緣層之間的有效接觸面積相較于現有的硅球與絕緣層之間的有效接觸面積較大，一般不會刺破絕緣層5，可減小絕緣層5的厚度。優選的，本發明實施例中位于TFT陣列基板上待涂布封框膠區域位置處的支撐物11的排布密度以及排列方式并不做限定，可根據實際情況進行選擇。進一步優選的，為了進一步增強周邊盒厚的均勻性，本發明實施例提供的TFT陣列基板還包括：像素電極（圖中未標示）；電連接像素電極與TFT漏極、且靠近基板待涂布封框膠區域的過孔12；以及位于該過孔12內的，和與絕緣層為一體結構的支撐物11相同功能的其他若干個支撐物，如圖4所示。為了能夠起到支撐作用，位于過孔外的支撐部111與位于過孔內的支撐部112在靠近彩膜基板一側的上頂平面應位于同一水平面，從而使位于過孔12外的支撐部111和位于過孔12內的支撐部112二者之間在過孔12對應位置處形成段差，根據物理學受力原理，當對盒后形成的液晶顯示面板被擠壓時，通過該段差能夠進一步的保證盒厚的均勻性。進一步優選的，本發明實施例中可將位于過孔12外的支撐部111和位于過孔12內的支撐部112沿基板邊緣延伸方向平行排列，以使被擠壓時受力均勻，進一步控制盒厚的均勻性。進一步的，本發明實施例中位于過孔12外的支撐部111高度為位于彩膜基板上的遮光層7和絕緣層5之間的垂直距離；位于過孔12內的支撐部112 高度為位于過孔12外的支撐部111高度與絕緣層5厚度之和。本發明實施例中通過遮光層7與絕緣層5之間的距離計算位于TFT陣列基板一側的支撐物高度，一方面能夠根據不同TFT液晶面板上遮光層7與絕緣層5之間的距離靈活調整支撐物的高度，另一方面將支撐物高度設定為遮光層7和絕緣層5之間的垂直距離，能夠更精確的控制盒厚。本發明實施例二在實施例一的基礎上提供一種液晶顯示面板，該液晶顯示面板包括實施例一中的TFT陣列基板，本發明實施例二中的TFT陣列基板具有實施例一中的全部技術特征，在此不再贅述。本發明實施例提供的液晶顯示面板還包括與TFT陣列基板相對設置的彩膜基板，其中，彩膜基板的玻璃基板1面向TFT陣列基板的一面上形成有遮光層7和色層6，遮光層7對應于支撐物11的位置處形成有支撐物襯墊（圖中未標示）。在TFT陣列基板與彩膜基板之間還設置有液晶層。如圖5所示為本發明實施例二提供的在TFT陣列基板一側的封框膠區域形成有支撐物的液晶顯示面板周邊結構示意圖。本發明實施例提供的液晶顯示面板，通過TFT陣列基板上待涂布封框膠區域位置處的具有導通上下基板功能的支撐物控制周邊盒厚更精確，減少因周邊硅球和金球間的搭配計算錯誤導致的盒厚不良，提高液晶顯示面板的試做成功率。并且本發明實施例中支撐物形成在TFT陣列基板絕緣層之上，不再是獨立于基板的部件，使得液晶顯示面板周邊受壓時，不會造成絕緣層被刺穿，降低了絕緣層的厚度，并能避免絕緣層被刺穿導致的亮線類不良。進一步的，本發明實施例提供的液晶顯示面板利用樹脂支撐物取代原有周邊結構中的硅球和金球，能夠降低成本。并且將支撐物放置在TFT陣列基板一側，因為封框膠涂布設備的感應器設置在封框膠涂布路徑旁邊一定距離處，所以不會對封框膠涂布造成干擾。若放置在CF側，則有可能在貼合時造成封框膠被擠壓擴散至顯示面板內，造成液晶污染。本發明實施例三還提供了一種TFT陣列基板的制造方法，該方法包括在基 板上形成TFT陣列以及絕緣層，形成與該絕緣層為一體結構，并能夠將TFT陣列基板和與其相對設置的彩膜基板電連接的若干支撐物，其中，若干個支撐物具有位于同一水平面用于支撐彩膜基板的上頂平面，并以預設方式排布在基板待涂布封框膠區域對應位置處。作為一個較佳的實施例，以下將結合具體的實際應用對上述TFT陣列基板的制作方法做進一步詳細的說明，制作流程如圖6所示，并請同時參閱圖4。步驟S601：提供一基板2，在本發明實施例中基板2為玻璃基板。步驟S602：在基板2上形成TFT陣列。具體的，本發明實施例中形成TFT陣列的過程可采用現有的制作方法，包括在基板2上形成數條掃描線和數條數據線，數條掃描線與數條數據線相交限定形成陣列排布的像素區域，在每個像素區域內形成TFT陣列，每一TFT內包括與掃描線電連接的柵極3，以及依次形成在柵極上的柵絕緣層4、半導體層和源漏極（圖中未標示）。步驟S603：在TFT陣列之上沉積形成絕緣層5。步驟S604：在絕緣層5上沉積樹脂有機膜。具體的，本發明實施例中有機膜優選樹脂材料，以使后續形成的支撐物硬度較低。步驟S605：對有機膜進行曝光、顯影、刻蝕后形成與絕緣層5為一體結構的支撐部110。具體的，本發明實施例中形成的支撐部110位于絕緣層5之上，且位于陣列基板待涂布封框膠區域對應位置處，并以預設方式排布，同時本發明實施例中為能夠更好的控制盒厚均勻性，支撐部110具有位于同一水平面用于支撐彩膜基板的上頂平面。本發明實施例中支撐部110的形狀并不做限定，只要能夠起到支撐作用即可，但為了避免形成的支撐部110受到外力擠壓后，刺破位于其下方的絕緣層5，本發明實施例中優選通過掩膜工藝一體形成與絕緣層5具有設定接觸面積 的，并具有規則形狀或不規則形狀的支撐部110。進一步優選的，本發明實施例中優選通過掩膜工藝一體形成柱狀的支撐部110，一方面柱狀支撐物較易形成，另一方面柱狀支撐物具有一定的底面積，增大支撐物與絕緣層之間的有效接觸面積，防止受到外力擠壓時，支撐物刺破比較軟的絕緣層5，由于柱狀支撐物與絕緣層之間的有效接觸面積相較于現有的硅球與絕緣層之間的有效接觸面積較大，一般不會刺破絕緣層5，可減小絕緣層5的厚度。優選的，本發明實施例中位于TFT陣列基板上待涂布封框膠區域位置處的支撐部110的排布密度以及排列方式并不做限定，可根據實際情況進行選擇。優選的，本發明實施例還可在所述支撐部表面沉積均勻厚度的金屬氧化物薄膜之前，形成像素電極，以及電連接所述像素電極與TFT漏極的過孔；在靠近基板待涂布封框膠區域，像素電極與TFT漏極電連接的過孔內一體形成與支撐物11具有相同功能的支撐物，使位于過孔12外的支撐部111和位于過孔12內的支撐部112二者之間在過孔12對應位置處形成段差，當對盒后形成的液晶顯示面板被擠壓時，通過該段差能夠進一步的保證盒厚的均勻性。進一步優選的，本發明實施例中可將位于過孔12外的支撐部111和位于過孔12內的支撐部112沿基板邊緣延伸方向平行排列，以使被擠壓時受力均勻，進一步控制盒厚的均勻性。進一步的，本發明實施例中位于過孔外的支撐物高度為位于彩膜基板一側的遮光層7和TFT陣列基板一側的絕緣層5之間的垂直距離；位于過孔內的支撐物高度為位于過孔外的支撐物高度與TFT陣列基板一側的絕緣層厚度之和。步驟S606：在形成的支撐部表面沉積均勻厚度的金屬氧化物薄膜。具體的，本發明實施例中在樹脂材料制作的支撐部表面沉積金屬氧化物薄膜，使得上下基板對盒后能夠導通，以達到金球的作用，從而形成的支撐 物兼具硅球和金球的作用，簡化制作工藝，并降低工藝成本。需要說明的是本發明實施例中采用樹脂形成支撐物，一方面由于樹脂具有易成型，硬度小的優點，另一方面還由于在液晶顯示面板制作工藝中沉積金屬氧化物薄膜是不可缺少的一個步驟，因此，本發明實施例中相對現有的制作方法，僅僅增加了沉積樹脂有機膜并曝光、顯影和刻蝕的步驟，實現較簡單。本發明實施例提供的TFT陣列基板制造方法，通過在絕緣層之上沉積樹脂有機膜，并對該有機膜進行曝光、顯影、刻蝕后，在待涂布封框膠區域對應位置處形成支撐物，并在支撐部表面沉積金屬氧化物薄膜，使得支撐物同時具有支撐與導電的功能，無需單獨制作，能夠較精確的控制周邊盒厚。本發明實施例四提供了一種液晶顯示面板的制作方法，具體制作過程如圖7所示，請同時參閱圖5。步驟S701：提供一具有TFT陣列的基板。具體的，本發明實施例中TFT陣列的形成可采用現有的形成方法。步驟S702：在TFT陣列上形成絕緣層5。步驟S703：在絕緣層5上沉積樹脂有機膜。優選的，本發明實施例中有機膜優選樹脂材料，以使后續形成的支撐物硬度較低。步驟S704：對有機膜進行曝光、顯影、刻蝕后，在基板待涂布封框膠區域對應位置處形成與絕緣層5為一體結構、具有位于同一水平面的上頂平面的支撐部110。本發明實施例中支撐部110的形狀并不做限定，只要能夠起到支撐作用即可，但為了避免形成的支撐部110受到外力擠壓后，刺破位于其下方的絕緣層5，本發明實施例中優選該支撐部110為通過掩膜工藝一體形成在絕緣層5之上，并與絕緣層5具有設定接觸面積的規則形狀或不規則形狀。進一步優選的，本發明實施例中支撐物的形狀優選柱狀，一方面柱狀支 撐物較易形成，另一方面柱狀支撐物具有一定的底面積，增大支撐物與絕緣層之間的有效接觸面積，防止受到外力擠壓時，支撐物刺破比較軟的絕緣層5，由于柱狀支撐物與絕緣層之間的有效接觸面積相較于現有的硅球與絕緣層之間的有效接觸面積較大，一般不會刺破絕緣層5，可減小絕緣層5的厚度。優選的，本發明實施例中位于TFT陣列基板上待涂布封框膠區域位置處的支撐部110的數量以及排列方式并不做限定，可根據實際情況進行選擇，但為了支撐效果更好，本發明實施例中優選采用支撐物連續排列或間隔排列。優選的，本發明實施例還可在靠近基板待涂布封框膠區域，像素電極與TFT漏極電連接的過孔12內一體形成與支撐部110具有相同功能的其他支撐部，使位于過孔12外的支撐部111和位于過孔12內的支撐部112二者之間在過孔12對應位置處形成段差，當對盒后形成的液晶顯示面板被擠壓時，通過該段差能夠進一步的保證盒厚的均勻性。并可將位于過孔12外的支撐部111和位于過孔12內的支撐部112沿基板邊緣延伸方向平行排列，以使被擠壓時受力均勻，進一步控制盒厚的均勻性。進一步的，本發明實施例中位于過孔外的支撐物高度為位于彩膜基板一側的遮光層7和TFT陣列基板一側的絕緣層5之間的垂直距離；位于過孔內的支撐物高度為位于過孔外的支撐物高度與TFT陣列基板一側的絕緣層厚度之和。步驟S705：在形成的支撐部表面沉積均勻厚度的金屬氧化物薄膜。具體的，本發明實施例中在樹脂材料制作的支撐部表面沉積均勻厚度的金屬氧化物薄膜，使得上下基板對盒后能夠導通，以達到金球的作用，從而形成的支撐物兼具硅球和金球的作用，簡化制作工藝，并降低工藝成本。步驟S706：提供一形成有密封膠框的彩膜基板，并在彩膜基板的遮光層7對應于支撐物11的位置處形成支撐物襯墊。步驟S707：在密封膠框內滴入液晶，并將周邊位置具有支撐物11的TFT陣列基板與彩膜基板相對貼合。具體的，TFT陣列基板與彩膜基板之間通過支撐物11支撐，將液晶封裝在TFT陣列基板與彩膜基板之間，形成最終的液晶顯示面板。本發明實施例提供的液晶顯示面板制作方法，通過TFT陣列基板上待涂布封框膠區域位置處形成的兼具支撐作用和導通上下基板功能的支撐物，使周邊盒厚控制更精確，減少因周邊硅球和金球間的搭配計算錯誤導致的盒厚不良，提高液晶顯示面板的試做成功率。并且本發明實施例中支撐物形成在TFT陣列基板絕緣層之上，不再是獨立于基板的部件，使得液晶顯示面板周邊受壓時，不會造成絕緣層被刺穿，降低了絕緣層的厚度，并能避免絕緣層被刺穿導致的亮線類不良。進一步的，本發明實施例提供的液晶顯示面板利用樹脂支撐物取代原有周邊結構中的硅球和金球，能夠降低成本。并且將支撐物放置在TFT陣列基板一側，因為封框膠涂布設備的感應器設置在封框膠涂布路徑旁邊一定距離處，所以不會對封框膠涂布造成干擾。若放置在CF側，則有可能在貼合時造成封框膠被擠壓擴散至顯示面板內，造成液晶污染。顯然，本領域的技術人員可以對本發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和范圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬于本發明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發明也意圖包含這些改動和變型在內。