1.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，用于制造包括至少兩個色阻圖案的彩膜基板，所述方法包括：
在形成有遮光圖案和第一色阻圖案的襯底基板上形成第二色阻層，所述遮光圖案包括多個像素區(qū)域，每個所述像素區(qū)域包括多個子像素區(qū)域，所述第一色阻圖案包括形成于每個像素區(qū)域的第一子像素區(qū)域中的第一色阻；
對所述第二色阻層同時進行加壓加熱處理，以對所述第二色阻層進行活化并降低所述第二色阻層的粘度以及溶劑含量；
在所述第二色阻層冷卻后，在所述第二色阻層上形成第二色阻圖案，所述第二色阻圖案包括形成于每個像素區(qū)域的第二子像素區(qū)域中的第二色阻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第二色阻層冷卻后，在所述第二色阻層上形成第二色阻圖案之前，所述方法還包括：
通過冷板對所述第二色阻層進行冷卻。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第二色阻層上形成第二色阻圖案之后，所述方法還包括：
對所述第二色阻圖案進行固化處理。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二色阻層的溶劑包括丙二醇甲醚醋酸酯。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述第二色阻層上形成第二色阻圖案，包括：
對所述第二色阻層進行曝光和顯影，以在所述第二色阻層上形成所述第二色阻圖案。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述第二色阻層同時進行加壓加熱處理，包括：
在大于大氣壓的環(huán)境下以80至120度的溫度加熱所述第二色阻層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一所述的方法，其特征在于，所述遮光圖案為黑矩陣圖案。
8.一種彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括至少兩個色阻圖案，所述彩膜基板還包括襯底基板和設(shè)置在所述襯底基板上的遮光圖案、第一色阻圖案和第二色阻圖案，所述第二色阻圖案是在所述遮光圖案和所述第一色阻圖案設(shè)置在所述襯底基板之后，在所述襯底基板上設(shè)置第二色阻層，并對所述第二色阻層同時進行加壓加熱處理，之后在所述第二色阻層冷卻后，在所述第二色阻層上設(shè)置的；
所述第一色阻圖案包括設(shè)置于每個像素區(qū)域的第一子像素區(qū)域中的第一色阻，所述第二色阻圖案包括設(shè)置于每個像素區(qū)域的第二子像素區(qū)域中的第二色阻。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二色阻層的溶劑包括丙二醇甲醚醋酸酯。
10.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權(quán)利要求8或9所述的彩膜基板。