專利名稱：用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置的制作方法
技術領域：
本發明屬于磁控濺射鍍膜設備領域，特別是一種用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置。
背景技術：
在磁控濺射鍍膜設備領域里，影響鍍膜工藝流程因素諸多，比如溫度，鍍膜氣壓， 鍍膜時間，以及靶面與基片距離(又稱靶基距)等。靶基距的大小將影響膜層的沉積速率，膜層均勻性，膜層的質量，以及基片沉積溫度等。在有些磁控濺射設備有可調靶基距裝置，但存在著很大的弊端，對與磁控濺射設備來說，為抽到全真空需要花費很長時間，所以在設備操作基本原則上，盡量減少真空室暴露空氣當中，而傳統調節靶基距方法是在破空的情況下進行的，同時也不是線形調節，這樣的情況下就很難找到最佳的靶基距，從而影響膜層質量和鍍膜效率。在很多的磁控濺射設備沒有可調靶基距裝置，即使有傳統需破空狀態下操作的， 其整個過程復雜，難以尋求最佳工作距離，因此急需一種可調靶基距裝置。

發明內容
本發明就是針對技術的不足，提出用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置，該裝置避免真空室暴露大氣，影響抽真空時間，實現在真空狀態下調節，同時解決傳統的墊塊式調節的不連續性及膜層的縱向不均勻性的問題。本發明所述用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置由可調節密封連接裝置、門板及靶體三部分組成；所述的可調節密封連接裝置由軸、月牙螺母、絕緣套固定塊、 密封裝置及彈簧組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊、下軸封壓塊、支撐軸套、軸封及螺釘組成，上軸封壓和下軸封壓塊通過螺釘固定在門板兩側，上軸封壓塊與下軸封壓塊之間分別依次設置有支撐軸套和軸封；所述的可調節密封連接裝置的軸穿過門板和靶體， 軸的一端安裝有水管接頭，軸通過螺紋與月牙螺母連接，月牙螺母和密封裝置之間設置有絕緣套固定塊；所述的彈簧套裝在軸上，并置于下軸封壓塊與靶體之間；所述的彈簧固定在靶體和下軸封壓塊上；彈簧與靶體接觸點位置處的軸焊接在靶體上。進一步的，所述的軸為中空，并在中空軸中通入冷水。進一步的，所述的月牙螺母上設置有一電極引入固定孔。進一步的，所述的月牙螺母和絕緣套固定塊被絕緣套包裹。進一步的，所述靶體放置彈簧的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊上均有一與彈簧直徑相適應的凹槽。本發明的有益效果在于通過把可調靶基距裝置固定在門板和靶體上，利用彈簧的伸縮性，調整時不要將基體置于空氣中，使調試出最佳的靶基距的時間短，且可以在靶體兩端調整，使得鍍膜層的均勻性得到較大的提高。


圖1為用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置的整體結構示意圖； 圖2為用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基裝置結構圖中1基片、2軸、3彈簧、4軸封、5支撐軸套、6絕緣套固定塊、7螺釘、8水管接頭、9絕緣套、10上軸封壓塊、11可調靶基距裝置、12門板、13靶體、14電極引入固定孔、15、下軸封壓塊、16月牙螺母。
具體實施例方式如圖1和圖2所示，本發明所述用于磁控濺射鍍膜設備的可調靶基距裝置由可調節密封連接裝置11、門板12及靶體13三部分組成；所述的可調節密封連接11裝置由軸2、 月牙螺母16、絕緣套固定塊6、密封裝置及彈簧3組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊10、下軸封壓塊15、支撐軸套5、軸封4及螺釘7組成，上軸封壓塊10通過螺釘7固定在門板12上面，下軸封壓塊15通過螺釘7固定在門板12下面，上軸封壓塊10與下軸封壓塊 15之間分別依次設置有支撐軸套5和軸封4 ；所述的可調節密封連接裝置11的軸2穿過門板12和靶體13，軸2的一端安裝有水管接頭8，軸2通過螺紋與月牙螺母16連接，月牙螺母16和密封裝置之間設置有絕緣套固定塊6 ；所述的彈簧3套裝在軸2上，并置于下軸封壓塊15與靶體13之間；所述的彈簧3固定在靶體13和下軸封壓塊15上；彈簧3與靶體13 接觸點位置處的軸2焊接在靶體13上。進一步的，所述的軸2為中空，并在中空軸中通入冷水。進一步的，所述的月牙螺母16上設置有一電極引入固定孔14。進一步的，所述的月牙螺母16和絕緣套固定塊6被絕緣套9包裹。進一步的，所述靶體13放置彈簧3的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊15 上均有一與彈簧3直徑相適應的凹槽。本發明所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置的工作原理為 基片和門板之間的距離固定不變，調節距離時，通過旋轉月牙螺母16，使月牙螺母
16的受力通過絕緣套固定塊6及軸封裝置傳導到彈簧3上，通過彈簧3的彈力調整門板12 與靶體13之間的距離，實現密封調節。
權利要求
1.用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置由可調節密封連接裝置、門板及靶體三部分組成；所述的可調節密封連接裝置由軸、月牙螺母、絕緣套固定塊、密封裝置及彈簧組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊、下軸封壓塊、支撐軸套、軸封及螺釘組成，上軸封壓和下軸封壓塊通過螺釘固定在門板兩側，上軸封壓塊與下軸封壓塊之間分別依次設置有支撐軸套和軸封；所述的可調節密封連接裝置的軸穿過門板和靶體，軸的一端安裝有水管接頭，軸通過螺紋與月牙螺母連接，月牙螺母和密封裝置之間設置有絕緣套固定塊；所述的彈簧套裝在軸上，并置于下軸封壓塊與靶體之間；所述的彈簧固定在靶體和下軸封壓塊上；彈簧與靶體接觸點位置處的軸焊接在靶體上。
2.如權利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置，其特征在于，所述的軸為中空，并在中空軸中通入冷水。
3.如權利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置，其特征在于，所述的月牙螺母上設置有一電極引入固定孔。
4.如權利要求1所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置，其特征在于，所述的月牙螺母和絕緣套固定塊被絕緣套包裹。
5.所述靶體放置彈簧的位置成凸起狀，且凸起部分和下軸封壓塊上均有一與彈簧直徑相適應的凹槽。
全文摘要
本發明所述的用于磁控濺射平面靶鍍膜設備的可調靶基距裝置由可調節密封連接裝置、門板及靶體三部分組成；所述的可調節密封連接裝置由軸、月牙螺母、絕緣套固定塊、密封裝置及彈簧組成，其中所述的密封裝置包括上軸封壓塊、下軸封壓塊、支撐軸套、軸封及螺釘組成。本發明所述的裝置避免真空室暴露大氣，影響抽真空時間，實現在真空狀態下調節，同時解決傳統的墊塊式調節的不連續性及膜層的縱向不均勻性的問題。
文檔編號C23C14/35GK102517556SQ20121000998
公開日2012年6月27日 申請日期2012年1月13日 優先權日2012年1月13日
發明者劉高水, 周志文, 李民英 申請人:廣東志成冠軍集團有限公司