一種蒸鍍裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型實施例提供了一種蒸鍍裝置，涉及顯示【技術領域】的制造設備，可使金屬掩模板與待蒸鍍基板緊密貼合，從而在子像素單元蒸鍍時形成正確的圖案，在此基礎上，可使作用于金屬掩膜板的磁場均勻，避免由于磁場不均而對上述圖案造成影響。該蒸鍍裝置包括：蒸鍍腔室、設置于蒸鍍腔室內的蒸鍍源、掩模板支撐架和基板支撐架，掩模板支撐架用于承載金屬掩模板，基板支撐架用于承載待蒸鍍基板，且金屬掩模板設置于蒸鍍源和待蒸鍍基板之間；還包括：設置于蒸鍍腔室內的吸附裝置，包括：設置于待蒸鍍基板遠離金屬掩模板一側的多個呈矩陣排列的磁塊，和用于調節每個磁塊上下移動的牽引裝置。用于OLED顯示器制造過程中的蒸鍍工藝。
【專利說明】一種蒸鍍裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及顯示【技術領域】的制造設備，尤其涉及一種蒸鍍裝置。
【背景技術】
[0002]有機發光二極管(Organic Light Emitting Diode,簡稱OLED)是一種有機薄膜電致發光器件，其具有易形成柔性結構、視角寬等優點；因此，利用有機發光二極管的顯示技術已成為一種重要的顯示技術。
[0003]OLED的全彩顯示一般包括R(紅)G(綠)B (藍)子像素獨立發光、或白光OLED結合彩色濾光膜等方式。其中，RGB子像素獨立發光是目前采用最多的彩色模式，其是利用子像素單元中的有機發光材料獨立發光。
[0004]目前，有機發光材料層一般都是通過對有機材料進行真空蒸發鍍膜形成。其中，對于RGB子像素獨立發光的0LED，由于每個RGB子像素單元采用不同的有機發光材料，因而RGB子像素單元的有機發光層需要分別進行蒸鍍，在此過程中一般采用金屬掩模板，使其開口區域與子像素區域對準來在不同子像素區域蒸鍍不同顏色的發光材料。
[0005]然而，由于金屬掩模板比較薄，一般只有幾十微米厚，很容易發生形變，因而在實際使用中不可避免的會導致其與待蒸鍍基板貼合的不緊，從而使得在蒸鍍有機發光材料時，不能形成正確的圖案。
實用新型內容
[0006]本實用新型的實施例提供一種蒸鍍裝置，可使金屬掩模板與待蒸鍍基板緊密貼合，從而在子像素單元蒸鍍時形成正確的圖案；在此基礎上，可使作用于金屬掩膜板的磁場均勻，避免由于磁場不均而對上述圖案造成影響。
[0007]為達到上述目的，本實用新型的實施例采用如下技術方案:
[0008]本實用新型實施例提供了一種蒸鍍裝置，包括:蒸鍍腔室、設置于蒸鍍腔室內的蒸鍍源、掩模板支撐架和基板支撐架，所述掩模板支撐架用于承載金屬掩模板，所述基板支撐架用于承載待蒸鍍基板，且所述金屬掩模板設置于所述蒸鍍源和所述待蒸鍍基板之間；所述蒸鍍裝置還包括:設置于所述蒸鍍腔室內的吸附裝置；
[0009]其中，所述吸附裝置包括:設置于所述待蒸鍍基板遠離所述金屬掩模板一側的多個呈矩陣排列的磁塊，以及用于調節每個所述磁塊相對所述待蒸鍍基板上下移動的牽引裝置。
[0010]可選的，所述牽引裝置包括設置于所述磁塊上方、且與所述磁塊一一對應的多個調節棒；其中，一個所述調節棒與對應的一個所述磁塊連接，用于帶動所述磁塊上下移動。
[0011]進一步可選的，所述調節棒的表面具有螺紋；所述磁塊相對所述調節棒的表面具有螺孔，所述螺孔與所述調節棒表面的螺紋相吻合。
[0012]進一步可選的，所述牽引裝置還包括固定所述調節棒的固定板；其中，所述固定板具有與所述調節棒對應個數的貫穿孔，且所述貫穿孔的表面具有兩個相對的凹槽；所述調節棒穿過所述貫穿孔，且在所述調節棒的高度方向上，所述調節棒的表面具有多對彈性凸起，每對凸起與位于所述貫穿孔表面的所述凹槽相匹配。
[0013]進一步可選的，所述固定板通過與固定在所述蒸鍍腔室上底面的升降機構連接，所述升降機構用于帶動所述固定板上下移動。
[0014]可選的，所述牽弓I裝置還包括控制任一個所述調節棒上下移動的控制器。
[0015]基于上述，可選的，所述蒸鍍裝置還包括設置于所述蒸鍍腔室側壁上的伸縮支撐架，所述伸縮支撐架沿垂直所述蒸鍍腔室側壁的方向伸縮。
[0016]進一步可選的，所述蒸鍍裝置還包括設置于所述蒸鍍腔室外側且與所述伸縮支撐架相連的驅動裝置；其中，所述驅動裝置用于控制所述伸縮支撐架的伸縮。
[0017]可選的，所述吸附裝置還包括用于承載所述磁塊的磁塊支撐板；
[0018]所述磁塊支撐板包括多個活動塊，任一個所述活動塊的表面積大于與所述活動塊接觸的所述磁塊的表面積；所述牽引裝置牽引多個任一個所述活動塊相對所述待蒸鍍基板上下移動。
[0019]進一步可選的，所述牽引裝置包括設置于每個所述活動塊四個角的牽引棒以及與所述牽弓I棒連接的控制裝置，用于帶動所述活動塊上下移動。
[0020]本實用新型實施例提供了一種蒸鍍裝置，包括:蒸鍍腔室、設置于蒸鍍腔室內的蒸鍍源、掩模板支撐架和基板支撐架，所述掩模板支撐架用于承載金屬掩模板，所述基板支撐架用于承載待蒸鍍基板，且所述金屬掩模板設置于所述蒸鍍源和所述待蒸鍍基板之間；所述蒸鍍裝置還包括:設置于所述蒸鍍腔室內的吸附裝置；其中，所述吸附裝置包括:設置于所述待蒸鍍基板遠離所述金屬掩模板一側的多個呈矩陣排列的磁塊，以及用于調節每個所述磁塊相對所述待蒸鍍基板上下移動的牽引裝置。
[0021]通過設置于所述待蒸鍍基板遠離所述金屬掩模板一側的多個磁塊產生的磁場，可以使所述金屬掩模板與位于其上方的待蒸鍍基板緊密貼合，從而在子像素單元蒸鍍時形成正確的圖案；在此基礎上，通過所述牽引裝置對每個磁塊相對所述待蒸鍍基板的高度進行控制，可以使所有磁塊的磁場趨于一致，避免由于磁場不均使所述金屬掩模板發生形變，從而對上述圖案造成影響。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0023]圖1為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍裝置的結構示意圖一；
[0024]圖2為本實用新型實施例提供的包括調節棒的牽引裝置的結構示意圖；
[0025]圖3為本實用新型實施例提供的調節棒與磁塊連接的結構示意圖；
[0026]圖4為本實用新型實施例提供的包括調節棒和固定板的牽引裝置的結構示意圖；
[0027]圖5為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍裝置的結構示意圖二；
[0028]圖6為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍裝置的結構示意圖三；
[0029]圖7為本實用新型實施例提供的一種蒸鍍裝置的結構示意圖四；[0030]圖8為本實用新型實施例提供的包括磁場支撐塊、磁塊和牽引裝置的吸附裝置的結構示意圖。
[0031]附圖標記:
[0032]01-蒸鍍裝置；10_蒸鍍腔室；20_蒸鍍源；30_掩模板支撐架；40_基板支撐架；50-金屬掩模板；60_待蒸鍍基板；701-磁塊；702-牽引裝置；702a_調節棒；702b_固定板；702al-凸起；702bl-貫穿孔；702c_牽引棒；703_升降機構；80_伸縮支撐架；90_驅動裝直；100-磁塊支撐板；IOOa-活動塊。
【具體實施方式】
[0033]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0034]本實用新型實施例提供了一種蒸鍍裝置01，如圖1所示，該蒸鍍裝置01包括:蒸鍍腔室10、設置于蒸鍍腔室內的蒸鍍源20、掩模板支撐架30和基板支撐架40，所述掩模板支撐架30用于承載金屬掩模板50，所述基板支撐架40用于承載待蒸鍍基板60，且所述金屬掩模板50設置于所述蒸鍍源20和所述待蒸鍍基板60之間；進一步，所述蒸鍍裝置01還包括:設置于所述蒸鍍腔室10內的吸附裝置。
[0035]其中，所述吸附裝置包括:設置于所述待蒸鍍基板60遠離所述金屬掩模板50 —側的多個呈矩陣排列的磁塊701，以及用于調節每個所述磁塊相對所述待蒸鍍基板60上下移動的牽引裝置702。
[0036]在待蒸鍍基板60遠離所述金屬掩模板50的一側設置磁塊701的目的，是通過磁塊產生的磁場使所述金屬掩模板50與位于其上方的待蒸鍍基板60緊密貼合。設置所述牽引裝置的目的，是因為當這些磁塊701處于同一個水平面時，有可能會出現磁場不均的情況，因此，通過所述牽引裝置調整各個磁塊701相對所述待蒸鍍基板60的距離，便可以改變這些磁塊701的磁場大小，從而使所有磁塊701的磁場趨于一致，避免由于磁場不均使所述金屬掩模板50發生形變，從而避免對蒸鍍圖案造成影響。
[0037]所述蒸鍍源20設置于所述蒸鍍腔室10的下部，且用于輸出蒸鍍材料，例如紅色發光材料、綠色發光材料、藍色發光材料。當然，對于OLED顯示器的每個子像素單元來說，除包括發光層外，其一般還包括設置于陽極和發光層之間的空穴傳輸層、設置于陰極和發光層之間的電子傳輸層；此外，還可以包括設置于陽極和空穴傳輸層之間的空穴注入層、設置于陰極和電子傳輸層之間的電子注入層等；這些功能層均可以通過所述蒸鍍源20輸出相應的材料進行蒸鍍而得到相應的圖案。
[0038]所述基板支撐架40設置于所述蒸鍍腔室10的上部，所述待蒸鍍基板60的邊緣位于所述基板支撐架40上；其中，所述待蒸鍍基板60可以包括玻璃襯底基板，以及設置在所述玻璃襯底基板上的且位于每個子像素單元的薄膜晶體管等，具體根據所要形成顯示器的功能而定。蒸鍍好的基板或待蒸鍍基板通過設置于蒸鍍腔室10側壁的上的開口進行交換，該開口可以通過活門進行開閉。
[0039]所述掩模板支撐架30設置于所述基板支撐架40的下方，金屬掩膜板50的邊緣位于所述掩模板支撐架40上。
[0040]需要說明的是，第一，不對控制每個磁塊701移動的牽引裝置的結構和位置進行限定，只需能使每個磁塊701靈活的上下移動即可。
[0041]其中，可以先使所有磁塊701處于同一個水平面上，即所有磁塊701到待蒸鍍基板60的距離相等；在此基礎上，可以先通過磁力計測量每個磁塊701的磁場大小，得到一個初始磁場大小分布，根據測得的結果和設定的基準值，分別調整大于基準值或小于基準值的所述磁塊701距離待蒸鍍基板60的距離；其中，若測得的結果小于基準值，則可以調小該磁塊701到待蒸鍍基板60的距離，若測得的結果大于基準值，則可以調大該磁塊701到待蒸鍍基板60的距離。
[0042]第二，所有磁塊701優選為大小相等。
[0043]第三，本實用新型所有實施例的附圖均示意性的繪示出與實用新型點有關的結構，對于與實用新型點無關的結構不進行繪示或僅繪示出部分。
[0044]本實用新型實施例提供了一種蒸鍍裝置01，包括:蒸鍍腔室10、設置于蒸鍍腔室內的蒸鍍源20、掩模板支撐架30和基板支撐架40，所述掩模板支撐架30用于承載金屬掩模板50，所述基板支撐架40用于承載待蒸鍍基板60，且所述金屬掩模板50設置于所述蒸鍍源20和所述待蒸鍍基板60之間；進一步，所述蒸鍍裝置01還包括:設置于所述蒸鍍腔室10內的吸附裝置。其中，所述吸附裝置包括:設置于所述待蒸鍍基板60遠離所述金屬掩模板50 —側的多個呈矩陣排列的磁塊701，以及用于調節每個所述磁塊相對所述待蒸鍍基板60上下移動的牽引裝置702。
[0045]通過設置于所述待蒸鍍基板60遠離所述金屬掩模板50 —側的多個磁塊701產生的磁場，可以使所述金屬掩模板50與位于其上方的待蒸鍍基板60緊密貼合,從而在子像素單元蒸鍍時形成正確的圖案；在此基礎上，通過所述牽引裝置對每個磁塊701相對所述待蒸鍍基板60的高度進行控制，可以使所有磁塊701的磁場趨于一致，避免由于磁場不均使所述金屬掩模板50發生形變，從而對上述圖案造成影響。
[0046]可選的，如圖2所示，所述牽引裝置702包括設置于所述磁塊701上方、且與所述磁塊701——對應的多個調節棒702a。
[0047]其中，一個所述調節棒702a與對應的一個所述磁塊701連接，用于帶動所述磁塊701上下移動。
[0048]這里，多個調節棒702a的長度優選為相同；同時，可以設置所述多個調節棒702a的初始狀態處于同一高度，且與所述多個調節棒702a連接的所有磁塊701也處于相同的高度，這樣才可以根據測量得到的初始磁場大小分布，有選擇的通過相應的調節棒701來調節聞于或低于基準值的磁塊701的聞度，而等于基準值的磁塊701聞度則無需進行調節。
[0049]例如:磁塊701的個數為27行5列，當所有磁塊701處于同一高度時，通過磁力計測量前10行的磁塊701的磁場大小如下表所示:
[0050]
【權利要求】
1.一種蒸鍍裝置，包括:蒸鍍腔室、設置于蒸鍍腔室內的蒸鍍源、掩模板支撐架和基板支撐架，所述掩模板支撐架用于承載金屬掩模板，所述基板支撐架用于承載待蒸鍍基板，且所述金屬掩模板設置于所述蒸鍍源和所述待蒸鍍基板之間；其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括:設置于所述蒸鍍腔室內的吸附裝置； 其中，所述吸附裝置包括:設置于所述待蒸鍍基板遠離所述金屬掩模板一側的多個呈矩陣排列的磁塊，以及用于調節每個所述磁塊相對所述待蒸鍍基板上下移動的牽引裝置。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述牽引裝置包括設置于所述磁塊上方、且與所述磁塊一一對應的多個調節棒； 其中，一個所述調節棒與對應的一個所述磁塊連接，用于帶動所述磁塊上下移動。
3.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述調節棒的表面具有螺紋； 所述磁塊相對所述調節棒的表面具有螺孔，所述螺孔與所述調節棒表面的螺紋相吻口 ο
4.根據權利要求3所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述牽引裝置還包括固定所述調節棒的固定板； 其中，所述固定板具有與所述調節棒對應個數的貫穿孔，且所述貫穿孔的表面具有兩個相對的凹槽；所述調節棒穿過所述貫穿孔，且在所述調節棒的高度方向上，所述調節棒的表面具有多對彈性凸起，每對凸起與位于所述貫穿孔表面的所述凹槽相匹配。
5.根據權利要求4所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述固定板通過與固定在所述蒸鍍腔室上底面的升降機構連接，所述升降機構用于帶動所述固定板上下移動。
6.根據權利要求2所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述牽引裝置還包括控制任一個所述調節棒上下移動的控制器。
7.根據權利要求2至6任一項所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括設置于所述蒸鍍腔室側壁上的伸縮支撐架，所述伸縮支撐架沿垂直所述蒸鍍腔室側壁的方向伸縮。
8.根據權利要求7所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述蒸鍍裝置還包括設置于所述蒸鍍腔室外側且與所述伸縮支撐架相連的驅動裝置；其中，所述驅動裝置用于控制所述伸縮支撐架的伸縮。
9.根據權利要求1所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述吸附裝置還包括用于承載所述磁塊的磁塊支撐板； 所述磁塊支撐板包括多個活動塊，任一個所述活動塊的表面積大于與所述活動塊接觸的所述磁塊的表面積； 所述牽引裝置牽引任一個所述活動塊相對所述待蒸鍍基板上下移動。
10.根據權利要求9所述的蒸鍍裝置，其特征在于，所述牽引裝置包括設置于每個所述活動塊四個角的牽引棒，用于帶動所述活動塊上下移動。
【文檔編號】C23C14/24GK203807547SQ201420222130
【公開日】2014年9月3日 申請日期:2014年4月30日 優先權日:2014年4月30日
【發明者】馬利飛, 張鵬 申請人:京東方科技集團股份有限公司