技術總結
本發明公開了一種多用途的性能穩定的全自動雙面鍍膜裝置，包括真空箱、電子氣壓表、溫度表、冷卻倉、固定傳送輪、冷卻裝置、靶極、烘干倉、數控裝置、傳動軸、傳動鏈帶、底座、定滑輪、放卷裝置、收卷裝置和載物支架，所述真空箱左側設置有電子氣壓表和溫度表，所述真空箱上方安裝有冷卻倉，所述冷卻倉上方設置有固定傳動輪，所述真空箱右側安裝有烘干倉，所述烘干倉右側設置有數控裝置，所述烘干倉右側安裝有傳動軸，所述傳動軸與傳動鏈帶連接，所述真空箱和烘干倉固定在底座上。本設備可以實現對卷狀基片進行鍍膜，也可以對單獨零件進行鍍膜，極大的提高了設備的效率，減少了為實現對不同類型器件鍍膜而購買多種設備所消耗的資金。

技術研發人員：陳建棟
受保護的技術使用者：陳建棟
文檔號碼：201611012247
技術研發日：2016.11.17
技術公布日：2017.02.15