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一種蒸鍍設備及蒸鍍方法與流程

文檔序號:11126667閱讀:來源:國知局
技術總結
本發明提供一種蒸鍍設備及蒸鍍方法,利用支撐臺依次水平承載金屬掩膜板和待蒸鍍基板,通過在金屬掩膜板的下方與金屬掩膜板的非蒸鍍區相對應的位置設置吸附裝置,以吸附金屬掩膜板的下表面,吸附裝置可以向金屬掩膜板施加豎直向下的作用力,增大金屬掩膜板與支撐臺之間的摩擦力。通過在待蒸鍍基板上壓覆蓋板,借助蓋板的重力對待蒸鍍基板施加壓力,增大待蒸鍍基板與金屬掩膜板之間的摩擦力。在蒸鍍過程中,當支撐臺轉動時,可以避免金屬掩膜板與支撐臺間的相對運動,同時,也可以避免待蒸鍍基板與金屬掩膜板間的相對運動,提高金屬掩膜板與待蒸鍍基板的對位精度,使點源蒸鍍材料能夠準確蒸鍍到待蒸鍍基板上,解決OLED混色不良的問題。

技術研發人員:李曉虎;王路
受保護的技術使用者:京東方科技集團股份有限公司
文檔號碼:201611131587
技術研發日:2016.12.09
技術公布日:2017.02.15

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