技術總結
本發明涉及一種用于執行等離子體化學氣相沉積工藝的方法。包括以下步驟：提供設備，該設備包括大體上為圓柱形的共振器，該共振器具備外圓柱壁，該外圓柱壁包圍圍繞圓柱軸線沿圓周方向延伸的共振腔，該共振器還具備在圓柱方向限界共振腔的側壁部分，并且具備在沿圓周方向圍繞圓柱軸線延伸的狹縫結構，該狹縫結構提供從共振腔徑向向內的入口，其中該狹縫結構包括在圓柱方向相互偏移的多個狹縫部分，將襯底管從所述共振腔徑向向內地容納在管狀內部空間中，將微波注入到所述共振腔中，以及使所述襯底管相對于所述共振器的圓柱軸線旋轉。

技術研發人員：I·米利塞維克;M·J·N·范斯特拉倫;J·A·哈特蘇伊克
受保護的技術使用者：德雷卡通信技術公司
文檔號碼：201611148513
技術研發日：2012.12.14
技術公布日：2017.02.15