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一種磁控濺射微納米粉體鍍膜布料裝置的制作方法

文檔序號(hào):12393927閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種磁控濺射微納米粉體鍍膜布料裝置,主要由電機(jī)(1)、布料盤(2)、腔蓋(3g)、腔座(3z)、送料倉(cāng)(4)、受集斗(5)、收料瓶(6)組成,腔蓋(3g)與腔座(3z)相嵌組成封閉腔內(nèi)安裝布料盤(2),所述的送料倉(cāng)(4)、受集斗(5)的匯集出口(5-3)安裝于腔蓋(3g),送料倉(cāng)(4)的小徑段出口對(duì)準(zhǔn)布料盤(2)的環(huán)形凹槽(2-1);

所述的電機(jī)(1)安裝于腔座(3z)圓心位置,收料瓶(6)安裝于電機(jī)(1)徑向右側(cè);

所述的布料盤(2)有環(huán)形凹槽(2-1)、出料孔(2-2)的圓心與環(huán)形凹槽中心環(huán)線D相交,布料盤(2)下方是腔座(3z),布料盤(2)圓心有電機(jī)軸孔(2-3);

所述的腔蓋(3g)的布料孔(3-1)對(duì)準(zhǔn)環(huán)形凹槽,布料孔(3-1)的右側(cè)是刮平板(3-2),刮平板(3-2)套入環(huán)形凹槽(2-1),腔蓋(3g)的落料孔(3-3)對(duì)準(zhǔn)環(huán)形凹槽(2-1),檔刮板(3-4)置于落料孔(3-3)的右側(cè)方向,套入環(huán)形凹槽(2-1)。

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