技術(shù)總結(jié)
一種磁控濺射微納米粉體鍍膜布料裝置，主要由電機(jī)、布料盤、腔蓋、腔座、送料倉(cāng)、受集斗、收料瓶組成，安裝于現(xiàn)有的磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜室使用，將受集斗的氬氣進(jìn)入管與磁控濺射鍍膜設(shè)備的氬氣注入口相向?qū)?zhǔn)安裝，磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜工作時(shí)，總是不斷輸入氬氣，受集斗徑向的氬氣進(jìn)管進(jìn)入氬氣時(shí)，受集斗徑內(nèi)壁導(dǎo)流效應(yīng)，氬氣流沿著受集斗喇叭筒內(nèi)壁旋流，受集斗徑向的氬氣進(jìn)入管與受集斗垂直中心線夾角a≤85°，氬氣氣流以向下傾角流動(dòng)，在腔座下方安裝的收料瓶的排氣口排氣導(dǎo)流作用，氬氣流沿受集斗喇叭筒內(nèi)壁旋流向下流向，受集斗的上方喇叭筒大徑即形成向下氣流，在受集斗的上方喇叭筒大徑即形成向下氣流的導(dǎo)流作用，靶濺射出的原子就會(huì)受到受集斗的喇叭筒大徑導(dǎo)流作用流入受集斗，靶濺射出的原子進(jìn)入受集斗后經(jīng)落料孔進(jìn)入布料盤環(huán)形凹槽，布料盤環(huán)形凹槽分布的微納米粉體就會(huì)形成靶濺射出的原子沉積附著。

技術(shù)研發(fā)人員：鄧昌滬
受保護(hù)的技術(shù)使用者：趙寬
文檔號(hào)碼：201620456847
技術(shù)研發(fā)日：2016.05.12
技術(shù)公布日：2017.01.04