技術(shù)總結(jié)
一種電弧離子源清洗基片裝置，涉及一種清洗基片裝置，包括真空室（7）、工件架（8）、電弧離子源組件A（2）和電弧離子源組件B（4），在真空室（7）內(nèi)設(shè)有工件架（8），在真空室（7）內(nèi)的一側(cè)壁上設(shè)有耐高溫?fù)醢澹?），在真空室（7）的外部設(shè)有并排間隔設(shè)置的電弧離子源組件A（2）與電弧離子源組件B（4），在電弧離子源組件A（2）與電弧離子源組件B（4）上均設(shè)有進(jìn)氣口（3）；本實(shí)用新型通過在真空室內(nèi)設(shè)置耐高溫?fù)醢?，在耐高溫?fù)醢宓南虏吭O(shè)置偏壓電源，實(shí)現(xiàn)了清洗能量高、工作穩(wěn)定、使用成本低的有益效果。

技術(shù)研發(fā)人員：鄒楊;孫蕾;楊宜珍;鄒松東;孫凌
受保護(hù)的技術(shù)使用者：洛陽奧爾材料科技有限公司
文檔號(hào)碼：201620592387
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.17
技術(shù)公布日：2016.12.14