1.一種遮擋裝置，用于在真空鍍膜過程中遮擋一基板的邊緣，其特征在于，包括：
框體，所述框體的中間呈鏤空結構；以及
用于在真空環境下控制所述框體相對于所述基板移動的至少一個第一驅動單元；以及
連接于所述框體的至少一個第二驅動單元。
2.如權利要求1所述的遮擋裝置，其特征在于，所述框體呈長方體或正方體，具有四條邊以及四條邊依次相交形成的四個邊角。
3.如權利要求2所述的遮擋裝置，其特征在于，所述遮擋裝置包括八個所述第一驅動單元，每個所述邊角對應的兩條邊各連接一個所述第一驅動單元。
4.如權利要求2所述的遮擋裝置，其特征在于，所述第一驅動單元包括一螺絲和一馬達，所述螺絲連接至所述邊角，所述馬達帶動所述螺絲旋動，并帶動所述遮擋裝置移動。
5.如權利要求2所述的遮擋裝置，其特征在于，所述第二驅動單元連接于所述四條邊的其中一條邊的中心。
6.如權利要求5所述的遮擋裝置，其特征在于，所述四條邊的中心均連接一所述第二驅動單元。
7.如權利要求1所述的遮擋裝置，其特征在于，所述框體與所述基板平行設置，所述框體的鏤空結構投影在所述基板的中心。
8.如權利要求7所述的遮擋裝置，其特征在于，所述框體的中間具有長方形鏤空結構或正方形鏤空結構。
9.一種真空濺射機，其特征在于，包括：
腔體；
用于放置基板的載臺，所述載臺位于所述腔體中；以及
如權利要求1～8中任意一項所述的遮擋裝置，所述遮擋裝置位于所述載臺的上方。
10.如權利要求9所述的真空濺射機，其特征在于，所述第一驅動單元控制所述遮擋裝置在垂直方向和水平方向上相對于所述載臺移動。