1.緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，包括真空室、柔性基材卷繞機構、磁控濺射裝置、加熱器和離子源，真空室內設有分區隔板，分區隔板將真空室內的空間分隔成卷繞區和鍍膜區，分區隔板上設有供柔性基材通過用的通孔，柔性基材貫穿于整個真空室中，加熱器和離子源設于卷繞區內，磁控濺射裝置設于鍍膜區內；鍍膜區內設有多個單元隔板，多個單元隔板將鍍膜區內的空間分隔成一個柔性基材輸送單元和多個鍍膜單元。
2.根據權利要求1所述的緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述真空室為矩形腔體結構，分區隔板豎直設于真空室內，并將真空室內的空間按左右并排的結構方式分隔成卷繞區和鍍膜區；
或者所述真空室為矩形腔體結構，分區隔板水平設于真空室內，并將真空室內的空間按上下層疊的結構方式分隔成卷繞區和鍍膜區。
3.根據權利要求1所述的緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述柔性基材卷繞機構包括依次連接的放卷輥、收卷輥和主輥，放卷輥和收卷輥設于卷繞區內，主輥設于鍍膜區內，放卷輥與主輥之間設有多個導向輥，主輥與收卷輥之間也設有多個導向輥；分區隔板上的通孔包括進片通孔和出片通孔，放卷輥和主輥之間的柔性基材由進片通孔通過，主輥與收卷輥之間的柔性基材由出片孔通過。
4.根據權利要求3所述的緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述鍍膜區中，各單元隔板圍繞著主輥的外圓周分布，且各單元隔板與主輥的外表面之間留有供柔性基材通過用的間隙，多個鍍膜單元呈扇形狀分布于主輥外周。
5.根據權利要求3所述的緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述離子源為矩形離子源，設于放卷輥輸出端的柔性基材外側，離子源的電離氣體覆蓋住柔性基材寬度方向的表面。
6.根據權利要求3所述的緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述加熱器包括多組加熱管組件，卷繞區內，從放卷輥到分區隔板的進片 通孔之間，柔性基材在多個導向輥上呈豎直平行的纏繞狀態，多組加熱管組件并排分布于上下兩個導向輥之間的柔性基材外側，且各組加熱管組件覆蓋住柔性基材寬度方向的表面。
7.根據權利要求1所述的緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述磁控濺射裝置包括多組濺射陰極，每個鍍膜單元內設有至少一組濺射陰極。
8.根據權利要求1所述的緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述卷繞區和鍍膜區分別外接高真空抽氣系統。
9.根據權利要求3所述的緊湊型柔性基材磁控濺射鍍膜設備，其特征在于，所述收卷輥的輸入端還設有電阻率測量儀和透過率測量儀，電阻率測量儀和透過率測量儀均設于卷繞區內。