1.一種氣相多元強化處理裝置，其特征在于，包括底座（1），設置于底座上方的托盤（2），將底座與托盤相連的支承柱（3），以及貫穿托盤并與底座固定相連的起吊耳（4）；所述托盤上設有若干個通孔（5），所述底座上設有若干個氣流孔。
2.根據權利要求1所述的氣相多元強化處理裝置，其特征在于，所述托盤為兩個以上，且相互平行，所述支承柱將所有托盤和底座相互固定，所述起吊耳貫穿所有托盤后固定于底座上。
3.根據權利要求1所述的氣相多元強化處理裝置，其特征在于，所述起吊耳為倒“U”型結構。
4.根據權利要求1所述的氣相多元強化處理裝置，其特征在于，所述托盤正中心設有一個通孔，且以該通孔為圓心在托盤上由內至外設有四層通孔，第一層和第三層的通孔為大通孔，第二層和第四層的通孔為小通孔；所述托盤正中心的通孔半徑與大通孔的半徑相等。
5.根據權利要求4所述的氣相多元強化處理裝置，其特征在于，所述第一層設有兩個大通孔，第二層設有四個小通孔，第三層設有八個大通孔，第四層設有八個小通孔。
6.根據權利要求5所述的氣相多元強化處理裝置，其特征在于，所述托盤正中心的通孔的圓心到第一層的大通孔的圓心距離為10～11m，所述托盤正中心的通孔的圓心到第二層的小通孔的圓心距離為17～18m，所述托盤正中心的通孔的圓心到第三層的大通孔的圓心距離為25～26m，所述托盤正中心的通孔的圓心到第四層的小通孔的圓心距離為28～29m；每層之間的通孔交錯設置。
7.根據權利要求1所述的氣相多元強化處理裝置，其特征在于，所述托盤與底座之間由六根支承柱相連，且六根支承柱均勻分布于底座的外邊緣。
8.根據權利要求2所述的氣相多元強化處理裝置，其特征在于，所述托盤為六個，且由上至下依次平行設置。
9.根據權利要求4所述的氣相多元強化處理裝置，其特征在于，所述大通孔的半徑為3～4m，所述小通孔的半徑為1～2m。