1.一種雙區加熱的等離子增強化學氣相沉積腔體晶圓基座，包括基座主體，所述基座主體上設置晶圓凹槽，其特征在于：晶圓凹槽分為中心區域和邊緣區域兩部分，中心區域和邊緣區域采用兩套內嵌加熱元件及溫度傳感器來獨立加熱，中心區域位置設置中心區域內嵌加熱元件，中心區域內嵌加熱元件連接中心區域加熱元件電源線和中心區域熱電偶溫度傳感器，邊緣區域位置設置邊緣區域內嵌加熱元件，邊緣區域內嵌加熱元件連接邊緣區域加熱元件電源線和邊緣區域熱電偶溫度傳感器。
2.如權利要求1所述的一種雙區加熱的等離子增強化學氣相沉積腔體晶圓基座，其特征在于：以基座主體的中心為圓心，直徑150~250mm的區域為中心區域，以晶圓凹槽的外緣為基準，向內側延伸25~75mm的圓環區域為邊緣區域。
3.如權利要求1所述的一種雙區加熱的等離子增強化學氣相沉積腔體晶圓基座，其特征在于：所述基座主體內設置內嵌接地電極，所述基座主體的下方設置接地，所述基座主體的下方設置真空密封。