技術特征：

技術總結
一種蒸鍍裝置及其蒸鍍方法、顯示器件制造設備，該蒸鍍裝置用于基板蒸鍍，所述基板的一側設置有掩膜板，所述蒸鍍裝置包括：磁吸附層以及熱敏層，其中，所述熱敏層設置在所述磁吸附層一側所述熱敏層設置于所述磁吸附層和所述基板的遠離所述掩膜板的一側之間，并且所述熱敏層配置為調節所述掩膜板和所述磁吸附層之間的距離。在基板的蒸鍍過程中，當用于對基板蒸鍍的掩膜板在某一區域產生褶皺時，會改變相應區域的熱敏層的溫度，熱敏層根據溫度變化調節自身厚度以減小該區域的磁吸附層與掩膜板的間距，從而消除掩膜板的褶皺問題，提高基板的蒸鍍良率。

技術研發人員：杜小波
受保護的技術使用者：京東方科技集團股份有限公司
技術研發日：2017.05.11
技術公布日：2017.08.04