技術特征：

技術總結
可不開腔清潔陽極罩的磁控濺射裝置，包括腔體、靶材及設于腔體上的磁控靶和磁控靶擋板，腔體外側設有第一接頭、第二接頭及升降機構，第一接頭與腔體之間設有絕緣件，第二接頭與腔體連通，升降機構與磁控靶擋板連接，磁控靶電源陽極與腔體連通，磁控靶擋板與腔體連通，靶材通過第一導線與磁控靶電源陰極連通，磁控靶的陽極罩通過第二導線與第一接頭連通。清潔方法，S1調整磁控靶擋板位置，使磁控靶擋板與磁控靶的陽極罩之間可進行輝光濺射；第一導線連接至第一接頭；S2磁控靶電源在磁控靶擋板與陽極罩之間施加電壓，腔體中充入工藝氣體，磁控靶擋板與陽極罩之間產生輝光濺射。本發明結構簡單、可靠，能夠不打開腔體清潔陽極罩上薄膜。

技術研發人員：毛朝斌;舒勇東;范江華;羅超;佘鵬程;胡凡;彭立波
受保護的技術使用者：中國電子科技集團公司第四十八研究所
技術研發日：2017.05.17
技術公布日：2017.09.12