1.一種立方氮化硼燒結體制備工藝，其特征在于，包括以下步驟：
2.一種立方氮化硼燒結體制備裝置，用于權利要求1中所述的一種立方氮化硼燒結體制備工藝，其特征在于：包括所述熱壓燒結爐本體(1)，所述熱壓燒結爐本體(1)內設置有爐膛(2)，所述爐膛(2)內側固定設有內襯(201)，內襯(201)一側有開口，還包括：
3.根據權利要求2所述的立方氮化硼燒結體制備裝置，其特征在于：所述熱壓組件(3)還包括設置在所述熱壓燒結爐本體(1)內的液壓系統(305)，兩個所述液壓柱(301)均通過液壓管(306)與所述液壓系統(305)連接。
4.根據權利要求3所述的立方氮化硼燒結體制備裝置，其特征在于：所述水冷組件(5)還包括開設在每個所述液壓柱(301)上的兩個讓位槽(502)，每個所述絕緣件(302)上均開設有兩個通槽(503)，每個所述通槽(503)均與相對應的所述讓位槽(502)連通，所述熱壓頭(303)上開設有冷卻槽(504)，每個所述冷卻槽(504)均與相對應的兩個所述通槽(503)連通，所述循環水冷卻器(501)上設置有兩個排液管(505)，每個所述排液管(505)均插入相對應的所述讓位槽(502)、通槽(503)和冷卻槽(504)內，排液管(505)插入相對應的所述冷卻槽(504)內的一端與所述冷卻槽(504)連通，所述循環水冷卻器(501)上設置有兩個回液管(506)，每個所述回液管(506)均插入相對應的所述讓位槽(502)、通槽(503)和冷卻槽(504)內，所述回液管(506)插入相對應的所述冷卻槽(504)的一端與所述冷卻槽(504)連通。
5.根據權利要求4所述的立方氮化硼燒結體制備裝置，其特征在于：所述循環水冷卻器(501)上設置有排水管(507)，所述排水管(507)插入所述爐膛(2)和內襯(201)之間夾層的下側，所述循環水冷卻器(501)上設置有插入所述爐膛(2)和內襯(201)之間夾層的上側的回水管(508)，所述回水管(508)和所述回液管(506)上均設置有溫度傳感器(509)，用于檢測所述回水管(508)和所述回液管(506)的溫度。
6.根據權利要求2所述的立方氮化硼燒結體制備裝置，其特征在于：所述充氣組件(6)包括設置在熱壓燒結爐本體(1)內的高壓氣泵(601)，所述高壓氣泵(601)的一端插入所述內襯(201)內部且與所述內襯(201)內部連通，所述內襯(201)上設置有進氣端插入內襯(201)內的排氣管(602)且與所述內襯(201)內部連通，所述排氣管(602)的中部位于內襯(201)與所述爐膛(2)之間，所述排氣管(602)的排氣端伸出所述爐膛(2)和熱壓燒結爐本體(1)，所述排氣管(602)的排氣端設置有第一電磁閥(603)，用于控制內襯(201)內氣體的排放。
7.根據權利要求6所述的立方氮化硼燒結體制備裝置，其特征在于：所述烘干組件(7)包括固定設置在爐膛(2)上遠離所述第一電磁閥(603)一側的儲氣件(701)，所述儲氣件(701)外側設置有保溫件(702)，所述儲氣件(701)內部通過第二電磁閥(703)和連通管(704)與所述內襯(201)內部連通，所述第二電磁閥(703)用于控制內襯(201)內氣體的排入儲氣件(701)內，所述儲氣件(701)內部滑動設置有移動件(705)，所述移動件(705)遠離所述第二電磁閥(703)的一側與所述儲氣件(701)之間設置有彈性件(706)。
8.根據權利要求7所述的立方氮化硼燒結體制備裝置，其特征在于：所述儲氣件(701)上設置有兩個第三電磁閥(707)，用于控制所述儲氣件(701)內氣體的排放，每個所述第三電磁閥(707)遠離所述儲氣件(701)的一端均設置有出氣管(708)，所述出氣管(708)的自由端與相對應的所述排液管(505)連通。
9.根據權利要求8所述的立方氮化硼燒結體制備裝置，其特征在于：所述熱壓燒結爐本體(1)內部設置有真空系統(8)，所述真空系統(8)與所述內襯(201)內部連通，用于使內襯(201)內部保持真空狀態，所述熱壓燒結爐本體(1)外側設置有控制系統(9)，所述第一電磁閥(603)、第二電磁閥(703)、第三電磁閥(707)、循環水冷卻器(501)、液壓系統(305)和真空系統(8)均與所述控制系統(9)電性連接，所述控制系統(9)控制銅母線(304)與外接電源的連接或斷開，所述溫度傳感器(509)與所述控制系統(9)電性連接。
10.根據權利要求2所述的立方氮化硼燒結體制備裝置，其特征在于：所述熱壓燒結爐本體(1)上鉸接有密封件(101)，所述密封件(101)能夠遮擋爐膛(2)和內襯(201)的開口。