本技術(shù)涉及屏蔽罩清洗，具體為一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、屏蔽罩是用來(lái)屏蔽電子信號(hào)的工具，作用就是屏蔽外界電磁波對(duì)內(nèi)部電路的影響和內(nèi)部產(chǎn)生的電磁波向外輻射，屏蔽罩由支腿及罩體組成，支腿與罩體為活動(dòng)連接，此部件主要應(yīng)用于手機(jī)，gps等領(lǐng)域，是防止電磁干擾、對(duì)pcb板上的元件及l(fā)cm起屏蔽作用，屏蔽罩的材料一般采用0.2mm厚的不銹鋼和洋白銅為材料，其中洋白銅是一種容易上錫的金屬屏蔽材料。采用smt貼片時(shí)應(yīng)考慮吸盤的設(shè)計(jì)；

2、例如公告號(hào)為cn212597424u的中國(guó)授權(quán)專利(一種機(jī)械設(shè)備加工用清洗裝置)：包括橫板，所述橫板的頂部固定連接有第一殼體，所述橫板的底部固定連接有第二殼體，所述第一殼體的內(nèi)壁固定連接有收集罩，收集罩的底部與橫板的頂部連通，橫板底部的左側(cè)固定連接有濾板，濾板的表面與第二殼體的內(nèi)壁固定連接，通過(guò)橫板、第一殼體、第二殼體、收集罩、濾板、水泵和噴水板的配合，實(shí)現(xiàn)了擁有水循環(huán)功能的目的，能夠?qū)λY源進(jìn)行循環(huán)利用，從而順應(yīng)節(jié)能環(huán)保的時(shí)代潮流，提高了使用者對(duì)機(jī)械設(shè)備加工用清洗裝置的體驗(yàn)感，滿足當(dāng)今市場(chǎng)的需求，提高了機(jī)械設(shè)備加工用清洗裝置的實(shí)用性和使用性，解決了以往機(jī)械設(shè)備加工用清洗裝置不具有水循環(huán)功能的問(wèn)題。

3、但是，上述現(xiàn)有技術(shù)中的清洗設(shè)備使用時(shí)的清洗裝置較為簡(jiǎn)單，從而在清洗時(shí)，容易出現(xiàn)清洗不徹底，影響清洗質(zhì)量的問(wèn)題；因此，不滿足現(xiàn)有的需求，對(duì)此我們提出了一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，以解決上述背景技術(shù)中提出的現(xiàn)有技術(shù)中的清洗設(shè)備使用時(shí)的清洗裝置較為簡(jiǎn)單，從而在清洗時(shí)，容易出現(xiàn)清洗不徹底，影響清洗質(zhì)量的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，包括清洗倉(cāng)，所述清洗倉(cāng)的下表面四周均安裝有支撐腿，所述支撐腿的底部安裝有萬(wàn)向輪，所述支撐腿之間安裝有承托板，所述承托板的上表面設(shè)置有驅(qū)動(dòng)箱；

3、還包括：

4、清洗池，其設(shè)置在所述清洗倉(cāng)的內(nèi)部，所述清洗池內(nèi)部的四周均設(shè)置有網(wǎng)孔，且所述網(wǎng)孔設(shè)置有若干個(gè)；

5、清洗機(jī)構(gòu)，其設(shè)置在所述清洗池的上方，且所述清洗機(jī)構(gòu)設(shè)置有兩個(gè)，兩個(gè)所述清洗機(jī)構(gòu)上設(shè)置有升降板，所述升降板的下表面安裝有清洗輥，且所述清洗輥一共安裝有六個(gè)。

6、優(yōu)選的，所述清洗池的下表面安裝有第一氣動(dòng)伸縮桿，所述清洗池內(nèi)部底端的上表面設(shè)置有沖洗孔，且所述沖洗孔設(shè)置有若干個(gè)。

7、優(yōu)選的，所述升降板的上表面設(shè)置有第二氣動(dòng)伸縮桿，所述第二氣動(dòng)伸縮桿的兩側(cè)均設(shè)置有電機(jī)。

8、優(yōu)選的，所述清洗倉(cāng)一側(cè)端面的底部設(shè)置有出水口，所述清洗倉(cāng)兩側(cè)端面的上方設(shè)置有支撐架。

9、優(yōu)選的，所述支撐架的上表面安裝有支撐柱，且所述支撐柱設(shè)置有四個(gè)，四個(gè)所述支撐柱的頂部設(shè)置有頂板。

10、優(yōu)選的，所述頂板的上表面設(shè)置有氣缸，且所述氣缸設(shè)置有兩個(gè)。

11、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

12、1、本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置清洗機(jī)構(gòu)，利用氣缸驅(qū)動(dòng)第二氣動(dòng)伸縮桿使得升降板進(jìn)行升降至清洗池的內(nèi)部，同時(shí)電機(jī)驅(qū)動(dòng)清洗輥進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，對(duì)屏蔽罩進(jìn)行清洗，同時(shí)清洗池內(nèi)部底端的沖洗孔進(jìn)行沖水操作，兩者同時(shí)進(jìn)行使用，保證清洗的質(zhì)量和效率，解決了現(xiàn)有技術(shù)中的清洗設(shè)備使用時(shí)的清洗裝置較為簡(jiǎn)單，從而在清洗時(shí)，容易出現(xiàn)清洗不徹底，影響清洗質(zhì)量的問(wèn)題。

13、2、通過(guò)在清洗池的內(nèi)壁上設(shè)置若干個(gè)網(wǎng)孔，清洗池的底部設(shè)置第一氣動(dòng)伸縮桿，清洗完成后，利用驅(qū)動(dòng)箱驅(qū)動(dòng)第一氣動(dòng)伸縮桿向上升起，使得清洗池一并向上升起，方便進(jìn)行濾水，同時(shí)方便物件的拿取。

技術(shù)特征：

1.一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，包括清洗倉(cāng)(1)，所述清洗倉(cāng)(1)的下表面四周均安裝有支撐腿(2)，所述支撐腿(2)的底部安裝有萬(wàn)向輪(3)，所述支撐腿(2)之間安裝有承托板(5)，所述承托板(5)的上表面設(shè)置有驅(qū)動(dòng)箱(6)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，其特征在于：所述清洗池(11)的下表面安裝有第一氣動(dòng)伸縮桿(15)，所述清洗池(11)內(nèi)部底端的上表面設(shè)置有沖洗孔(14)，且所述沖洗孔(14)設(shè)置有若干個(gè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，其特征在于：所述升降板(16)的上表面設(shè)置有第二氣動(dòng)伸縮桿(17)，所述第二氣動(dòng)伸縮桿(17)的兩側(cè)均設(shè)置有電機(jī)(18)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，其特征在于：所述清洗倉(cāng)(1)一側(cè)端面的底部設(shè)置有出水口(4)，所述清洗倉(cāng)(1)兩側(cè)端面的上方設(shè)置有支撐架(7)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，其特征在于：所述支撐架(7)的上表面安裝有支撐柱(8)，且所述支撐柱(8)設(shè)置有四個(gè)，四個(gè)所述支撐柱(8)的頂部設(shè)置有頂板(9)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，其特征在于：所述頂板(9)的上表面設(shè)置有氣缸(10)，且所述氣缸(10)設(shè)置有兩個(gè)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種部件腔室屏蔽罩清洗設(shè)備，涉及屏蔽罩清洗技術(shù)領(lǐng)域，為解決現(xiàn)有技術(shù)中的清洗設(shè)備使用時(shí)的清洗裝置較為簡(jiǎn)單，從而在清洗時(shí)，容易出現(xiàn)清洗不徹底，影響清洗質(zhì)量的問(wèn)題。所述清洗倉(cāng)的下表面四周均安裝有支撐腿，所述支撐腿的底部安裝有萬(wàn)向輪，所述支撐腿之間安裝有承托板，所述承托板的上表面設(shè)置有驅(qū)動(dòng)箱；還包括：清洗池，其設(shè)置在所述清洗倉(cāng)的內(nèi)部，所述清洗池內(nèi)部的四周均設(shè)置有網(wǎng)孔，且所述網(wǎng)孔設(shè)置有若干個(gè)；清洗機(jī)構(gòu)，其設(shè)置在所述清洗池的上方，且所述清洗機(jī)構(gòu)設(shè)置有兩個(gè)，兩個(gè)所述清洗機(jī)構(gòu)上設(shè)置有升降板，所述升降板的下表面安裝有清洗輥，且所述清洗輥一共安裝有六個(gè)。

技術(shù)研發(fā)人員：張向東
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州市振遠(yuǎn)科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240625
技術(shù)公布日：2025/4/28