本技術涉及狹縫涂布設備，具體為一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置。

背景技術：

1、太陽能電池制備過程中，狹縫涂布技術主要用于涂布鈣鈦礦前驅體溶液、電子傳輸層和空穴傳輸層等，狹縫涂布技術以非接觸的方式涂覆濕膜，在保證原始基材不受損傷的基礎上得到厚度可控的濕膜，濕膜成膜的厚度與膜的均勻性都會影響到最終成品的效率。

2、通常想要得到適當的膜厚的同時要有足夠的均勻性，在操作涂布機前需要進行一次手動調節，同時如果機械移動了位置以及發生較大震動時就需要再進行一次調節，現有的涂布機的調節，通常是對一個面上取有限的點位進行測試調節達到想要的數據，最終測量時會發現有些地方實際的膜厚與均勻性會相比理想的數據有較大的差距，為此需要設計一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置。

技術實現思路

1、基于以上背景，本實用新型的目的在于提供一種電線纜加工用新型固定架，解決背景技術中所述的問題。

2、為了實現上述實用新型目的，本實用新型提供以下技術方案：

3、一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，包括大理石平臺，所述大理石平臺頂部固定連接有加工機構，所述加工機構表面固定連接有調節機構；

4、所述加工機構包括滑軌，所述滑軌固定連接于大理石平臺頂部，所述滑軌表面滑動連接有龍門臺，所述龍門臺內側固定連接有固定橫梁，所述固定橫梁內側兩端分別轉動連接有短桿，所述短桿有兩個，兩個所述短桿之間轉動連接有橫梁a，所述橫梁a內部滑動連接有滑塊，所述滑塊有兩個，兩個所述滑塊之間轉動連接有涂布頭，所述涂布頭表面固定連接有位移傳感器，所述大理石平臺頂部中間設置有樣品臺。

5、作為優選，所述橫梁a內部開設導槽，所述滑塊表面與導槽內部滑動連接，便于滑塊在導槽內部滑動。

6、作為優選，所述固定橫梁有兩個，兩個所述固定橫梁分別對稱分布在橫梁a內側。

7、作為優選，所述固定橫梁內部開設轉孔，所述涂布頭表面與轉孔內部轉動連接，方便滑塊在轉動內部轉動。

8、作為優選，所述調節機構包括插條，所述插條固定連接于滑塊一端，所述插條一端固定連接有插座，所述插座一側固定連接有彈簧，所述彈簧一端固定連接有t形桿，所述t形桿一端固定連接有t形條，所述t形條一端內部固定連接有定位桿，所述龍門臺內側固定連接有定位條。

9、作為優選，所述定位條內部開設定位孔，所述定位桿表面與定位孔內部相匹配。

10、作為優選，所述插座內部開設通孔，所述t形桿表面一端貫穿于插座內部開設通孔，便于t形桿在通孔內部進行滑動。

11、與現有技術相比，本實用新型具有以下優點：

12、1.通過設置的加工機構，兩側的固定橫梁會進行相應的上下移動保證在整個涂布的過程中涂布頭距離樣品臺的距離會在允許的誤差內，涂布的過程中，樣品臺即使出現輕微傾斜，在多次運行過后根據具體位移傳感器的距離進行適應調節，即可在之后的運行中準確把握樣品臺的傾斜度在運行中根據此傾斜度自適應調節使得涂布頭低端與樣品臺有足夠的平行度來達到制作鈣鈦礦太陽能片的工藝要求，相比現有的即使更換了新環境也不需要使用手動調節；

13、2.該涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，通過設置的調節機構，按壓t形桿帶動t形條移動，進而帶動定位桿脫離定位條內部，之后可以上下移動插座和插條進行移動，進而可以帶動滑塊上下滑動并進行微調，并可以在微調完成之后的固定作用。

技術特征：

1.一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，包括大理石平臺(100)，其特征在于：所述大理石平臺(100)頂部固定連接有加工機構(200)，所述加工機構(200)表面固定連接有調節機構(300)，所述加工機構(200)包括滑軌(210)，所述滑軌(210)固定連接于大理石平臺(100)頂部，所述滑軌(210)表面滑動連接有龍門臺(220)，所述龍門臺(220)內側固定連接有固定橫梁(290)，所述固定橫梁(290)內側兩端分別轉動連接有短桿(230)，所述短桿(230)有兩個，兩個所述短桿(230)之間轉動連接有橫梁a(240)，所述橫梁a(240)內部滑動連接有滑塊(250)，所述滑塊(250)有兩個，兩個所述滑塊(250)之間轉動連接有涂布頭(260)，所述涂布頭(260)表面固定連接有位移傳感器(270)，所述大理石平臺(100)頂部中間設置有樣品臺(280)。

2.根據權利要求1所述的一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，其特征在于：所述橫梁a(240)內部開設導槽，所述滑塊(250)表面與導槽內部滑動連接。

3.根據權利要求1所述的一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，其特征在于：所述固定橫梁(290)有兩個，兩個所述固定橫梁(290)分別對稱分布在橫梁a(240)內側。

4.根據權利要求1所述的一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，其特征在于：所述固定橫梁(290)內部開設轉孔，所述涂布頭(260)表面與轉孔內部轉動連接。

5.根據權利要求1所述的一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，其特征在于：所述調節機構(300)包括插條(310)，所述插條(310)固定連接于滑塊(250)一端，所述插條(310)一端固定連接有插座(320)，所述插座(320)一側固定連接有彈簧(330)，所述彈簧(330)一端固定連接有t形桿(340)，所述t形桿(340)一端固定連接有t形條(350)，所述t形條(350)一端內部固定連接有定位桿(370)，所述龍門臺(220)內側固定連接有定位條(360)。

6.根據權利要求5所述的一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，其特征在于：所述定位條(360)內部開設定位孔，所述定位桿(370)表面與定位孔內部相匹配。

7.根據權利要求5所述的一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，其特征在于：所述插座(320)內部開設通孔，所述t形桿(340)表面一端貫穿于插座(320)內部開設通孔。

技術總結
本技術涉及狹縫涂布設備技術領域，且公開了一種涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，包括大理石平臺，所述大理石平臺頂部固定連接有加工機構，所述加工機構表面固定連接有調節機構；所述加工機構包括滑軌，所述滑軌固定連接于大理石平臺頂部，所述滑軌表面滑動連接有龍門臺。該涂覆濕膜中涂覆反饋與基片間距的調節裝置，通過設置的加工機構，在多次運行過后根據具體位移傳感器的距離進行適應調節，即可在之后的運行中準確把握樣品臺的傾斜度在運行中根據此傾斜度自適應調節使得涂布頭低端與樣品臺有足夠的平行度來達到制作鈣鈦礦太陽能片的工藝要求，相比現有的即使更換了新環境也不需要使用手動調節。

技術研發人員：郭家俊,蔡家瑞
受保護的技術使用者：杭州鼎能光電科技有限公司
技術研發日：20240620
技術公布日：2025/4/28