1.一種應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，包括：遠(yuǎn)程配電柜(1)、冷源(2)、閥箱(3)、預(yù)冷腔體(4)、第一低溫靶盤(5)、吸附電源(6)、低溫靶臺(tái)(7)、冷卻環(huán)(8)、第二低溫靶盤(9)，第一adio控制器(10)、第二adio控制器(11)、第三adio控制器(12)和工控機(jī)(13)；所述遠(yuǎn)程配電柜(1)的輸出端口通過動(dòng)力線纜與冷源(2)連接；所述冷源(2)通過網(wǎng)線和氣體輸送管道與閥箱(3)連接，所述閥箱(3)通過輸出管道分別與預(yù)冷腔體(4)和低溫靶臺(tái)(7)連接；所述第一低溫靶盤(5)固定在預(yù)冷腔體(4)中，并通過輸出線纜與吸附電源(6)連接；所述冷卻環(huán)(8)和第二低溫靶盤(9)均固定在低溫靶臺(tái)(7)上，且第二低溫靶盤(9)位于冷卻環(huán)(8)上方；所述冷源(2)通過控制線纜與第一adio控制器(10)連接，所述閥箱(3)通過控制線纜與第二adio控制器(11)連接，所述吸附電源(6)通過控制線纜與第三adio控制器(12)連接，所述第一adio控制器(10)、第二adio控制器(11)和第三adio控制器(12)分別通過光纖連接工控機(jī)(13)的通訊口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，所述冷源(2)包括柜體(21)，所述柜體(21)內(nèi)設(shè)有氣體緩沖罐(119)、冷源配電柜(105)以及與冷源配電柜(105)連接的壓縮機(jī)(101)、制冷機(jī)組(106)、控制閥組、控制輸入端口和供電輸入端口；所述氣體緩沖罐(118)與制冷機(jī)組(106)連接，制冷機(jī)組(106)與壓縮機(jī)(101)配合以產(chǎn)生冷卻氣體，并與輸出氣體端口(107)和回流氣體端口(108)形成氣體回路；所述輸出氣體端口(107)和回流氣體端口(108)分別通過氣體輸送管道與閥箱(3)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，所述柜體(21)內(nèi)還設(shè)有第一電磁閥(109)、第一安全閥(110)、第一壓力變送器(111)和第一手動(dòng)儀表閥(112)；第一電磁閥(109)用于冷源(2)降溫過程控制氣體通斷，第一安全閥(110)用于保護(hù)氣體回路安全，第一壓力變送器(111)用于實(shí)時(shí)監(jiān)測管道壓力并實(shí)時(shí)控制管道壓力輸出，第一手動(dòng)儀表閥(112)用于實(shí)時(shí)監(jiān)測氣體降溫過程的溫度變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，所述柜體(21)的前面板上設(shè)有冷源操作臺(tái)(116)和手動(dòng)操作屏(117)，所述冷源配電柜(105)的一端設(shè)置在柜體(21)的前面板上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，所述低溫靶臺(tái)(7)包括靶臺(tái)進(jìn)氣管(201)、靶臺(tái)出氣管(202)、第一冷卻環(huán)氣缸(203)、第一溫度傳感器(204)、第二冷卻環(huán)氣缸(207)和氣浮軸(208)；所述第一溫度傳感器(204)設(shè)置在第二低溫靶盤(9)中，以進(jìn)行溫度閉環(huán)控制；所述氣浮軸(208)固定于低溫靶臺(tái)(7)下端，用于支撐低溫靶臺(tái)(7)上下運(yùn)動(dòng)，所述靶臺(tái)進(jìn)氣管(201)和靶臺(tái)出氣管(202)貫穿在氣浮軸(208)，靶臺(tái)進(jìn)氣管(201)和靶臺(tái)出氣管(202)的一端連接至冷卻環(huán)(8)，靶臺(tái)進(jìn)氣管(201)和靶臺(tái)出氣管(202)的一端連接至閥箱(3)，以實(shí)現(xiàn)低溫氣體進(jìn)出冷卻環(huán)(8)；所述第一冷卻環(huán)氣缸(203)和第二冷卻環(huán)氣缸(207)位于冷卻環(huán)(8)外側(cè)，當(dāng)系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)，第一冷卻環(huán)氣缸(203)和第二冷卻環(huán)氣缸(207)帶動(dòng)冷卻環(huán)(8)伸出將第二低溫靶盤(9)包裹住，低溫氣體通過冷卻環(huán)(8)將第二低溫靶盤(9)及吸附的晶圓降溫。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，所述冷卻環(huán)(8)上設(shè)有第一到位傳感器(205)和第二到位傳感器(206)，以用于檢測第一冷卻環(huán)氣缸(203)和第二冷卻環(huán)氣缸(207)的伸出位移。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，所述閥箱(3)中設(shè)有低溫截止閥(301)、低溫調(diào)節(jié)閥(302)、冷氣回氣管道、冷氣輸出管道、冷氣輸入端口(319)和冷氣輸出端口(320)，所述冷氣輸入端口(319)和冷氣輸出端口(320)分別連接至冷源(2)，所述冷氣回氣管道和冷氣輸出管道均連接至預(yù)冷腔體(4)和低溫靶臺(tái)(7)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，所述閥箱(3)中還設(shè)有溫度傳感器、壓力變送器、加熱器、真空計(jì)(310)和控制閥組。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任意一項(xiàng)所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)，其特征在于，所述預(yù)冷腔體(4)和低溫靶臺(tái)(7)之間設(shè)有片庫傳輸部件，以用于實(shí)現(xiàn)晶圓傳送；所述片庫傳輸部件包括左片庫(401)、右片庫(402)、右機(jī)械手(403)、傳輸定向臺(tái)(404)和左機(jī)械手(405)，所述左片庫(401)和右片庫(402)設(shè)置在離子注入機(jī)外部，所述右機(jī)械手(403)和左機(jī)械手(405)對(duì)稱設(shè)置在傳輸定向臺(tái)(404)兩側(cè)，并分別與右片庫(402)和左片庫(401)相對(duì)應(yīng)。
10.一種基于權(quán)利要求1至9中任意一項(xiàng)所述的應(yīng)用于離子注入機(jī)的低溫注入控制系統(tǒng)的低溫注入控制方法，其特征在于，包括以下步驟：