1.抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜，其特征在于，包括柔性基底（4），柔性基底（4）表面具有微納尺度網(wǎng)格互聯(lián)的凹槽（2’），凹槽（2’）內填充有兩層導電材料，下層為導電材料（6）形成的固態(tài)導電層（7），上層為液態(tài)導電材料（9），液態(tài)導電材料（9）和固態(tài)導電層（7）能夠穩(wěn)定共存，當外界多種變形下，下層的固態(tài)導電層（7）產(chǎn)生微裂紋時，上層的液態(tài)導電材料（9）由于其流動性無延遲自主愈合填充固態(tài)導電層（7）產(chǎn)生的微裂紋維持穩(wěn)定導通，凹槽（2’）表面設有封裝層。
2.根據(jù)權利要求1所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜，其特征在于，所述柔性基底（4）的材料包括聚二甲基硅氧烷、聚酰亞胺或聚酯。
3.根據(jù)權利要求1所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜，其特征在于，所述導電材料（6）包括金、銀漿料，或者摻雜金屬納米線/碳基的柔性聚合物。
4.根據(jù)權利要求1所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜，其特征在于，所述液態(tài)導電材料（9）為液態(tài)金屬或者液態(tài)導電凝膠，液態(tài)金屬包括鎵銦錫合金。
5.根據(jù)權利要求1所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：
6.根據(jù)權利要求5所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜的制造方法，其特征在于，所述微納尺度網(wǎng)格互聯(lián)的凹槽（2’），調整凹槽（2’）的線寬與排列方式，實現(xiàn)導電膜透明度的調控。
7.根據(jù)權利要求5所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜的制造方法，其特征在于，所述第三步具體為：將液態(tài)的導電材料（6）注入導電噴頭（5）中，導電襯底（3）與導電噴頭（5）之間接入交流電，電場力發(fā)揮作用，導電材料（6）被填充到柔性基底（4）的凹槽（2’）內部，移動導電噴頭（5），控制導電材料（6）的填充量，確保導電材料（6）填充至其他預定的凹槽（2’）位置，加熱烘干待其固化，完成固態(tài)導電層（7）的制備。
8.根據(jù)權利要求5所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜的制造方法，其特征在于，所述固態(tài)導電層（7）的厚度為5-50μm；
9.根據(jù)權利要求5所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜的制造方法，其特征在于，所述壓印模具（2）為經(jīng)過刻蝕后具有凸起結構的硅片；
10.根據(jù)權利要求5所述的抗壓抗拉伸的低方阻自愈合柔性透明導電膜的制造方法，其特征在于，所述柔性基底材料（1）包括聚二甲基硅氧烷、聚酰亞胺或聚酯；