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顯示面板及其制備方法、顯示裝置與流程

文檔序號:41763575發布日期:2025-04-29 18:33閱讀:7來源:國知局
顯示面板及其制備方法、顯示裝置與流程

本申請涉及顯示,尤其涉及一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置。


背景技術:

1、oled(organic?light?emitting?diode,有機發光二極管)顯示面板是當今顯示面板研究領域的熱點之一,oled顯示面板具有低能耗、低成本、自發光、寬視角及響應速度快等優點。目前的oled顯示面板為了提高光透過率,降低顯示面板厚度,通常采用coe(colorfilter?on?encapsulation,封裝上的彩色濾光片)技術,將彩色濾光片(color?filter,cf)和黑色矩陣(blackmatrix,bm)結合,用于替代偏光片。然而,采用coe技術的顯示面板的顯示質量有待提高。


技術實現思路

1、有鑒于此,本申請的目的在于提出一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置,能夠提高顯示質量。

2、基于上述目的,本申請提供了一種顯示面板的制備方法,其包括:

3、提供一基底;

4、在所述基底的一側設置像素定義層,并對所述像素定義層進行圖形化處理,形成多個像素開口;

5、對所述像素開口內殘留的像素定義材料進行第一次清洗操作;

6、在第一次清洗操作后,對所述像素定義層進行固化處理。

7、在其中一種實施方式中,所述對所述像素開口內殘留的像素定義材料進行第一次清洗操作,包括:

8、使用去離子水對所述像素開口內殘留的像素定義材料進行第一次清洗操作。

9、在其中一種實施方式中,在所述對所述像素定義層進行固化處理,之后,所述制備方法包括:

10、對所述像素開口內殘留的像素定義材料進行第二次清洗操作;

11、優選地,使用剝離液對所述像素開口內殘留的像素定義材料進行第二次清洗操作;

12、優選地,在第二次清洗操作后,所述像素定義層位于所述像素開口的爬坡面的粗糙度包括3-10nm。

13、在其中一種實施方式中,所述像素定義材料包括光刻膠;

14、優選地,所述在所述基底的一側設置像素定義層,并對所述像素定義層進行圖形化處理,包括:

15、對所述光刻膠進行涂布、曝光和顯影。

16、在其中一種實施方式中,在所述對所述像素定義層進行固化處理,之后,所述制備方法包括:

17、形成多個發光單元,所述發光單元至少部分位于對應的所述像素開口;

18、在所述發光單元遠離所述基底的一側形成封裝層;

19、在所述封裝層遠離所述基底的一側形成彩膜層,所述彩膜層包括黑矩陣和色阻單元,所述黑矩陣包括多個透光開口,所述色阻單元至少部分位于所述透光開口內;

20、優選地,所述像素開口在所述基底上的正投影,位于對應的所述透光開口在所述基底上的正投影之內;

21、優選地,所述像素定義材料包括黑色光刻膠。

22、在其中一種實施方式中,所述在所述封裝層遠離所述基底的一側形成彩膜層,包括:

23、在所述封裝層遠離所述基底的一側形成觸控功能層;

24、在所述觸控功能層遠離所述基底的一側形成所述彩膜層;

25、優選地,所述觸控功能層在所述基底上的正投影,位于所述黑矩陣在所述基底上的正投影之內。

26、基于同樣的發明構思,本申請還提供了一種顯示面板,包括:

27、基底;

28、像素定義層,設置于所述基底的一側,所述像素定義層包括多個像素開口;所述像素定義層遠離所述基底一側的表面包括位于所述像素開口的爬坡面,所述爬坡面為平滑面。

29、在其中一種實施方式中,所述顯示面板還包括:

30、多個發光單元,設置于所述基底的一側,所述發光單元至少部分位于對應的所述像素開口內;

31、封裝層,設置于所述發光單元遠離所述基底的一側;

32、彩膜層,設置于所述封裝層遠離所述基底的一側,所述彩膜層包括黑矩陣和色阻單元,所述黑矩陣包括多個透光開口,所述色阻單元至少部分位于所述透光開口內;

33、優選地,所述像素定義層遠離所述基底一側的表面為光滑面;

34、優選地,所述像素定義層遠離所述基底一側的表面的粗糙度包括3-10nm;

35、優選地,所述像素定義材料包括黑色光刻膠;

36、優選地,所述像素開口在所述基底上的正投影,位于對應的所述透光開口在所述基底上的正投影之內;

37、優選地,所述發光單元包括沿背離所述基底的方向依次層疊設置的第一電極、發光層和第二電極,所述第一電極位于所述基底與所述像素定義層之間,所述第一電極至少部分暴露于對應的所述像素開口;

38、優選地,所述封裝層包括沿背離所述基底的方向依次層疊設置的第一無機封裝層、有機封裝層和第二無機封裝層。

39、在其中一種實施方式中,所述顯示面板還包括:

40、觸控功能層,設置于所述封裝層與所述彩膜層之間;

41、優選地,所述觸控功能層在所述基底上的正投影,位于所述黑矩陣在所述基底上的正投影之內;

42、優選地,所述觸控功能層包括沿背離所述基底的方向依次層疊設置的第一金屬層和第二金屬層。

43、基于同樣的發明構思,本申請還提供了一種顯示裝置,其包括如上述的顯示面板制備方法制備得到的顯示面板,或如上述的顯示面板。

44、與現有技術相比,本申請提供的顯示面板的制備方法,在對像素定義層進行固化處理前,對像素開口內殘留的像素定義層的材料進行清洗去除,利用未固化的像素定義材料容易去除的特性,能夠提升顯示面板的發光效率,改善了顯示質量。



技術特征:

1.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,包括:

2.如權利要求1所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述對所述像素開口內殘留的像素定義材料進行第一次清洗操作,包括:

3.如權利要求1所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,在所述對所述像素定義層進行固化處理,之后,所述制備方法包括:

4.如權利要求1所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述像素定義材料包括光刻膠;

5.如權利要求1所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,在所述對所述像素定義層進行固化處理,之后,所述制備方法包括:

6.如權利要求5所述的顯示面板的制備方法,其特征在于,所述在所述封裝層遠離所述基底的一側形成彩膜層,包括:

7.一種顯示面板,其特征在于,包括:

8.如權利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:

9.如權利要求8所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括:

10.一種顯示裝置,其特征在于,包括由權利要求1-6任一項所述的顯示面板制備方法制備得到的顯示面板,或如權利要求7-9任一項所述的顯示面板。


技術總結
本申請提供一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置,顯示面板的制備方法包括:提供一基底;在基底的一側設置像素定義層,并對像素定義層進行圖形化處理,形成多個像素開口;對像素開口內殘留的像素定義材料進行第一次清洗操作;在第一次清洗操作后,對像素定義層進行固化處理。本申請提供的顯示面板的制備方法通過利用未固化的像素定義材料容易去除的特性,能夠提升顯示面板的發光效率,改善了顯示質量。

技術研發人員:楊云強,范文志,于東亮,張偉騰
受保護的技術使用者:合肥維信諾科技有限公司
技術研發日:
技術公布日:2025/4/28
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