1.全自動化循環上釉裝置，包括工作平臺，其特征在于，在所述工作平臺上通過彈性復位裝置設置有一可浮動升降的壓板，所述壓板的中部開設有出料孔，所述出料孔上設置有噴料裝置，在所述壓板的下方設置有與所述噴料裝置連接的壓力開關，所述壓板的中部外周周向間隔設置有若干卸料孔，所述壓板的下部設置有一收料桶，所述收料桶的回料口通過軟管與所述卸料孔連接，所述收料桶的出料口通過軟管與所述噴料裝置的進料口連接；當坯體被壓在所述壓板上使得所述壓板下降進而觸發所述壓力開關控制所述噴料裝置噴出霧狀釉料；當坯體離開所述壓板時，所述彈性復位裝置驅使所述壓板離開所述壓力開關，此時所述噴料裝置停止噴出霧狀釉料。
2.如權利要求1所述的全自動化循環上釉裝置，其特征在于，所述壓板上設置有若干定位圈，以使所述出料孔與坯體中心對準。
3.如權利要求1所述的全自動化循環上釉裝置，其特征在于，所述彈性復位裝置為設置在所述工作平臺與所述壓板之間的復位彈簧組件。
4.如權利要求1所述的全自動化循環上釉裝置，其特征在于，所述噴料裝置為與釉料桶連接的上釉噴槍。