技術總結
一種EUV光源、曝光裝置和一體式旋轉結構制作方法，其中EUV光源包括：液滴陣列，適于依次向下方的環形輻射位置噴吐液滴；激光源，適于產生激光束，使旋轉掃描依次轟擊到達環形輻射位置的液滴，形成輻射極紫外光；一體式旋轉結構，位于液滴陣列和激光源之間，包括聚光鏡和電機驅動軸，聚光鏡包括內凹的第一表面以及相對的第二表面，第二表面與電機驅動軸相連接，第一表面包括偏心且傾斜的橢球形反射面以及包圍橢球形反射面的非反射面，一體式旋轉結構適于旋轉掃描，旋轉掃描時偏心且傾斜的橢球形反射面收集輻射的極紫外光，并將收集的極紫外光匯聚于環形輻射位置下方的中心焦點。EUV光源輸出的極紫外光的功率增加。

技術研發人員：伍強;岳力挽
受保護的技術使用者：中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
文檔號碼：201510363583
技術研發日：2015.06.26
技術公布日：2017.01.11