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波長轉換裝置及其制造方法、光源裝置和投影儀與流程

文檔序號:41752999發布日期:2025-04-29 18:21閱讀:5來源:國知局
波長轉換裝置及其制造方法、光源裝置和投影儀與流程

本發明涉及波長轉換裝置、波長轉換裝置的制造方法、光源裝置以及投影儀。


背景技術:

1、近年來,存在利用熒光作為照明光的照明裝置。例如,在下述專利文獻1中公開了具備射出激光的光源和通過激光的入射而發出熒光的波長轉換裝置的照明裝置。在該照明裝置中,波長轉換裝置具有:熒光體層;散熱基板,其設置在熒光體層的與激勵光入射的一側相反的一側;以及接合層,其將熒光體層與散熱基板接合。

2、專利文獻1:日本特開2011-129354號公報

3、在上述照明裝置中,熒光體層和散熱基板的膨脹系數互不相同,因此,在熒光體層發熱時,有可能由于產生由熱膨脹系數之差引起的熱應力而導致熒光體層剝離、破損。另外,也考慮通過利用在內部設置有空隙的接合層緩和熱應力來提高熒光體層的接合強度,但產生接合層的導熱率因空隙而降低、熒光體層的冷卻效率降低這樣的新課題。


技術實現思路

1、為了解決上述課題,根據本發明的第一方式,提供一種波長轉換裝置,其具有:波長轉換層,其具有光入射的第一面以及與所述第一面相反的第二面,對入射的所述光進行轉換;基板,其配置在所述波長轉換層的所述第二面側;以及接合層,其將所述基板與所述波長轉換層接合,所述接合層具有:第一金屬層,其與所述基板對置;以及第二金屬層,其配置在所述第一金屬層與所述波長轉換層之間,所述第一金屬層的空隙率比所述第二金屬層的空隙率高。

2、根據本發明的第二方式,提供一種光源裝置,其具有:上述第一方式的波長轉換裝置;以及發光元件,其向所述波長轉換裝置射出所述光。

3、根據本發明的第三方式,提供一種投影儀,其具有:上述第二方式的光源裝置;光調制裝置,其基于圖像信息對從所述光源裝置射出的光進行調制;以及投射光學裝置,其投射從所述調制裝置射出的光。

4、根據本發明的第四方式,提供一種波長轉換裝置的制造方法,該波長轉換裝置具有波長轉換層、基板、以及將所述基板與所述波長轉換層接合的接合層,所述接合層具有與所述基板對置的第一金屬層、以及空隙率比所述第一金屬層高且配置在所述第一金屬層與所述波長轉換層之間的第二金屬層,該波長轉換裝置的制造方法具有如下工序:第一工序,將第一金屬材料配置于所述基板;第二工序,將粒徑比所述第一金屬材料小的第二金屬材料配置于所述波長轉換層;以及第三工序,通過對所述第一金屬材料進行燒結而形成所述第一金屬層,通過對所述第二金屬材料進行燒結而形成所述第二金屬層,從而作為所述接合層。

5、根據本發明的第五方式,提供一種波長轉換裝置的制造方法,該波長轉換裝置具有波長轉換層、基板、以及將所述基板與所述波長轉換層接合的接合層,所述接合層具有與所述基板對置的第一金屬層、以及空隙率比所述第一金屬層高且配置在所述第一金屬層與所述波長轉換層之間的第二金屬層,該波長轉換裝置的制造方法具有如下工序:第一工序,將第一金屬材料配置于所述基板;第二工序,將第二金屬材料配置于所述波長轉換層;以及第三工序,通過對所述第一金屬材料進行燒結而形成所述第一金屬層,通過以比所述第一金屬材料的燒結溫度高的燒結溫度對所述第二金屬材料進行燒結而形成所述第二金屬層,從而作為所述接合層。



技術特征:

1.一種波長轉換裝置,其具有:

2.根據權利要求1所述的波長轉換裝置,其中,

3.根據權利要求2所述的波長轉換裝置,其中,

4.根據權利要求1至3中的任意一項所述的波長轉換裝置,其中,

5.根據權利要求1至3中的任意一項所述的波長轉換裝置,其中,

6.根據權利要求1至3中的任意一項所述的波長轉換裝置,其中,

7.根據權利要求1至3中的任意一項所述的波長轉換裝置,其中,

8.根據權利要求1至3中的任意一項所述的波長轉換裝置,其中,

9.根據權利要求1至3中的任意一項所述的波長轉換裝置,其中,

10.根據權利要求1至3中的任意一項所述的波長轉換裝置,其中,

11.一種光源裝置,其具有:

12.一種投影儀,其具有:

13.一種波長轉換裝置的制造方法,

14.一種波長轉換裝置的制造方法,

15.根據權利要求13或14所述的波長轉換裝置的制造方法,其中,

16.根據權利要求13或14所述的波長轉換裝置的制造方法,其中,


技術總結
本發明提供波長轉換裝置及其制造方法、光源裝置和投影儀,能夠兼顧波長轉換層的接合強度和冷卻效率的提高。本發明的波長轉換裝置具有:波長轉換層,其具有光入射的第一面以及與第一面相反的第二面,對入射的光進行轉換;基板,其配置于波長轉換層的第二面側;以及接合層,其將基板與波長轉換層接合,接合層具有與基板對置的第一層以及配置于第一層與波長轉換層之間的第二層,第一層的空隙率比第二層的空隙率高。

技術研發人員:宮坂英男
受保護的技術使用者:精工愛普生株式會社
技術研發日:
技術公布日:2025/4/28
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