具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提出一種具有抗沾黏膜層的樂器，其包含一樂器本體及一抗沾黏膜層，抗沾黏膜層設(shè)置于樂器本體。本發(fā)明的樂器具有抗沾黏膜層，使樂器容易清洗。當(dāng)樂器于清洗時(shí)，清洗液體清洗殘留于樂器的唾液或其它臟污，又因清洗液體不會(huì)附著于抗沾黏膜層，以清洗液體帶走含有唾液或其它臟污，而清洗液體不會(huì)殘留于樂器內(nèi)，以避免樂器產(chǎn)生銹蝕。
【專利說明】具有抗沾黏膜層的樂器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是有關(guān)于一種樂器，特別是指一種具有抗沾黏膜層的樂器。
【背景技術(shù)】
[0002]習(xí)知吹奏類的樂器于演奏過程中，演奏者的嘴部直接接觸樂器的吹嘴進(jìn)行演奏，通常演奏者于演奏過程中殘留唾液于吹嘴的內(nèi)部及外部，而樂器的吹嘴進(jìn)行清洗時(shí)，清洗時(shí)雖然可清除殘留于吹嘴的唾液，但清洗時(shí)所產(chǎn)生的液體容易殘留于吹嘴的內(nèi)部，導(dǎo)致吹嘴的內(nèi)部產(chǎn)生銹蝕的問題,所以每次清洗必須仔細(xì)清除殘留于吹嘴的液體,增加清洗樂器的不便性，進(jìn)而降低清洗樂器的次數(shù)。在樂器無法經(jīng)常清洗下，導(dǎo)致演奏者每次演奏后殘留于吹嘴的唾液難以清洗，而且唾液內(nèi)具有大量的細(xì)菌，導(dǎo)致繁衍大量的細(xì)菌于吹嘴上，進(jìn)而使演奏者于每次演奏時(shí)接觸大量的細(xì)菌，以影響演奏者的健康。
[0003]有鑒于上述問題，本發(fā)明提供一種具有抗沾黏膜層的樂器，其使樂器易于清洗，以清除使用者的唾液殘留于樂器上，且使清洗液體不會(huì)附著于樂器，以避免樂器產(chǎn)生銹蝕的問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的，在于提供一種具有抗沾黏膜層的樂器，其于樂器上設(shè)有抗沾黏膜層，并使樂器易于清洗，以清除使用者的唾液殘留于樂器上，且使清洗液體不會(huì)附著于樂器，以避免樂器產(chǎn)生銹蝕的問題。
[0005]本發(fā)明提供一種具有抗沾黏膜層的樂器，其包含:一樂器本體；以及一抗沾黏膜層，其設(shè)置于該樂器本體上。
[0006]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器中，其中一液體與該抗沾黏膜層的接觸角大于100度。
[0007]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器中，其中該抗沾黏膜層的材料為鉻金屬氧化物、鈦金屬氧化物、鉻金屬氮化物、鈦金屬氮化物及類鉆碳中的任意一種。
[0008]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器中，其中該抗沾黏膜層的材料更包含:
[0009]多個(gè)抗菌微粒，其參雜于該抗沾黏膜層，該些抗菌微粒于該抗沾黏膜層的重量百分比介于1%與20%之間。
[0010]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器中，其中該些抗菌微粒的材料為銀、銅、鈷、鎳、鐵、鋁及鋅中的任意一種。
[0011]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器中，其中該樂器本體具有一吹嘴部，該吹嘴部具有至少一外表面及至少一內(nèi)表面，該抗沾黏膜層設(shè)置于該外表面或該內(nèi)表面，或者該抗沾黏膜層設(shè)置于該外表面及該內(nèi)表面。
[0012]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器中，其中該樂器本體具有至少一外表面及至少一內(nèi)表面，該抗沾黏膜層設(shè)置于該外表面或該內(nèi)表面，或者該抗沾黏膜層設(shè)置于該外表面及該內(nèi)表面。[0013]本發(fā)明還提供了一種具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法，其包含:
[0014]提供一樂器本體及至少一靶源于一真空腔體上；
[0015]離子化至少一靶源，并產(chǎn)生多個(gè)離子；
[0016]通入一反應(yīng)氣體至該真空腔體；以及
[0017]混合該反應(yīng)氣體與該些離子，并形成一抗沾黏膜層于該樂器本體上。
[0018]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法中，其中該靶源包含一第一靶源，該第一靶源為一鉻金屬靶源、一鈦金屬靶源或一石墨靶，離子化該靶源所產(chǎn)生的該些離子包含多個(gè)第一離子，該些第一離子為鉻離子、鈦離子或碳離子。
[0019]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法中，其中該靶源更包含一第二靶源，該第二 IE源為一銀金屬IE源、一銅金屬IE源、一鈷金屬IE源、一鎳金屬IE源、一鐵金屬革巴源、一鋁金屬靶源或一鋅金屬靶源，離子化該靶源所產(chǎn)生的該些離子更包含多個(gè)第二離子，該些第二離子為銀離子、銅離子、鈷離子、鎳離子、鐵離子、鋁離子或鋅離子。
[0020]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法中，其中離子化該靶源并產(chǎn)生該些離子的步驟更包含利用一程控該些第一離子及該些第二離子的百分比，該些第一離子相對(duì)于該些第一離子與該些第二離子總和的重量百分比介于80%與99%之間，該些第二離子相對(duì)于該些第一離子與該些第二離子總和的重量百分比介于1%與20%之間。
[0021]本發(fā)明所述的具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法中，其中該反應(yīng)氣體為一氮?dú)饣蛞谎鯕狻?br> [0022]實(shí)施本發(fā)明產(chǎn)生的有益效果是:本發(fā)明有關(guān)于一種具有抗沾黏膜層的樂器，其使樂器容易清洗，以清除殘留于樂器上的唾液或其它臟污，而清洗液體不附著于樂器，并防止樂器因清洗而產(chǎn)生銹蝕。
[0023]進(jìn)一步地，本發(fā)明的抗沾黏膜層更參雜有抗菌微粒，使抗沾黏膜層具有抗菌效果，并抑制殘留于樂器上的唾液或其它臟污所含的細(xì)菌于樂器繁衍。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0024]圖1為本發(fā)明的第一實(shí)施例的樂器的示意圖；
[0025]圖2為本發(fā)明的圖1的A區(qū)域的放大圖；
[0026]圖3為本發(fā)明的第一實(shí)施例的樂器的制造流程圖；
[0027]圖4為本發(fā)明的第一實(shí)施例的樂器的制造設(shè)備的示意圖；
[0028]圖5為本發(fā)明的第二實(shí)施例的抗沾黏膜層的示意圖；
[0029]圖6為本發(fā)明的第二實(shí)施例的樂器的制造流程圖；以及
[0030]圖7為本發(fā)明的第二實(shí)施例的樂器的制造設(shè)備的示意圖。
[0031]【圖號(hào)對(duì)照說明】
[0032]1 樂器
[0033]10 樂器本體101 吹嘴部
[0034]1011 內(nèi)表面1012外表面
[0035]11 抗沾黏膜層111 抗菌微粒
[0036]2 靶源20 離子
[0037]21 第一靶源210 第一離子[0038]22 第二靶源210 第二離子
[0039]3 真空腔體31 承載座
[0040]32 電源供應(yīng)器4 反應(yīng)氣體
【具體實(shí)施方式】
[0041]為了使本發(fā)明的結(jié)構(gòu)特征及所達(dá)成的功效有更進(jìn)一步的了解與認(rèn)識(shí)，特用較佳的實(shí)施例及配合詳細(xì)的說明，說明如下:
[0042]習(xí)知吹奏類的樂器于演奏過程中，演奏者的嘴部直接接觸樂器的吹嘴進(jìn)行演奏，通常演奏者于演奏過程中殘留唾液于吹嘴的內(nèi)部及外部，在樂器無法經(jīng)常清洗下，導(dǎo)致演奏者每次演奏后殘留于吹嘴的唾液難以清洗，而且唾液內(nèi)具有大量的細(xì)菌，導(dǎo)致繁衍大量的細(xì)菌于吹嘴上，進(jìn)而使演奏者于每次演奏時(shí)接觸大量的細(xì)菌，以影響演奏者的健康。
[0043]有鑒于上述問題，本發(fā)明提供一種具有抗沾黏膜層的樂器，使清洗液體不會(huì)殘留于樂器上，不但達(dá)到清除殘留于樂器上的唾液或其它臟污，更達(dá)到容易清洗的目的，如此使用者于每次演奏完即可馬上清洗，有效避免樂器因清洗而銹蝕，更避免因無法清洗樂器而產(chǎn)生細(xì)菌繁衍的問題。
[0044]請(qǐng)參閱圖1及圖2，其是本發(fā)明的第一實(shí)施例的樂器的示意圖及圖1的A區(qū)域的放大圖；如圖所示，本實(shí)施例提供一種具有抗沾黏膜層的樂器1，本實(shí)施例的樂器I以口琴為例，其具有一樂器本體10及一抗沾黏膜層11。樂器本體10具有一吹嘴部101，吹嘴部101為使用者于演奏樂器I時(shí)會(huì) 以嘴部接觸的部分，于每次演奏過程中使用者的唾液容易殘留于吹嘴部101上。吹嘴部101具有一內(nèi)表面1011及一外表面1012,而本實(shí)施例的抗沾黏膜層11設(shè)置于內(nèi)表面1011，因?yàn)橛谘葑噙^程中使用者的唾液大部分殘留于吹嘴部101的內(nèi)表面1011，而且吹嘴部101的內(nèi)表面1011較難清潔。
[0045]當(dāng)設(shè)有抗沾黏膜層11的吹嘴部101進(jìn)行清洗時(shí)，清洗時(shí)所使用的清洗液體不會(huì)殘留于抗沾黏膜層11，因?yàn)榍逑匆后w與抗沾黏膜層11的接觸角大于100度，即清洗液體與抗沾黏膜層11間的接觸面積很小，因此清洗液體不會(huì)附著于抗沾黏膜層11上。所以吹嘴部101進(jìn)行清洗時(shí)，因其內(nèi)表面1011設(shè)有抗沾黏膜層11，清洗液體不會(huì)殘留于抗沾黏膜層11，使清洗液體不會(huì)殘留于吹嘴部101內(nèi)而使吹嘴部101產(chǎn)生銹蝕，而且清洗液體可帶走殘留于吹嘴部101的內(nèi)表面1011的唾液，并避免唾液中的細(xì)菌于吹嘴部101進(jìn)行繁衍。
[0046]本實(shí)施例的抗沾黏膜層11的材料選自鉻金屬氧化物、鈦金屬氧化物、鉻金屬氮化物、鈦金屬氮化物、類鉆碳及其它高疏水性的材料中擇其一者。本實(shí)施例的抗沾黏膜層11僅設(shè)置于吹嘴部101的內(nèi)表面1011，當(dāng)然抗沾黏膜層11也可設(shè)置于吹嘴部101的外表面1012，甚至擴(kuò)大抗沾黏膜層11的設(shè)置范圍，使抗沾黏膜層11可設(shè)置于樂器本體101的內(nèi)表面或外表面，或者同時(shí)設(shè)置于樂器本體101的內(nèi)表面及外表面，使樂器本體101可以整個(gè)進(jìn)行清洗，而不是僅清洗吹嘴部101，因抗沾黏膜層11包覆整個(gè)樂器本體101，使清洗液體不會(huì)殘留于樂器本體101上，達(dá)到使樂器容易清洗的目的，也改善習(xí)知清洗樂器所產(chǎn)生的問題。
[0047]請(qǐng)一并參閱圖3及圖4，其是本發(fā)明的第一實(shí)施例的樂器的制造流程圖及制造設(shè)備的示意圖；如圖所示，上述抗沾黏膜層11利用真空物理蒸鍍制程沉積于樂器本體10上，其制作方法先執(zhí)行步驟S10，提供樂器本體10及至少一靶源2于一真空腔體3，其中真空腔體3具有一承載座31，承載座31承載樂器本體10，而靶源2設(shè)置于真空腔體3的一側(cè)，并對(duì)應(yīng)樂器本體10的一預(yù)設(shè)置區(qū)域，上述說明抗沾黏膜層11設(shè)置于樂器本體10的吹嘴部101的內(nèi)表面1011，所以預(yù)設(shè)置區(qū)域即吹嘴部101的內(nèi)表面1011。然步驟SlO的靶源2可使用鉻金屬靶源、鈦金屬靶源或石墨碳靶源。
[0048]接著執(zhí)行步驟S12，離子化靶源2并產(chǎn)生多個(gè)離子20，其主要利用至少一電源供應(yīng)器32電性連接靶源2及樂器本體10，電源供應(yīng)器32提供靶源2蒸發(fā)的電源，并施加偏壓于樂器本體10，以離子化靶源2而產(chǎn)生該些離子。上述說明靶源2可使用鉻金屬靶源、鈦金屬靶源或石墨碳靶源，因此其所產(chǎn)生的該些離子20為鉻金屬離子、鈦金屬離子或碳離子。
[0049]然后執(zhí)行步驟S14，通入一反應(yīng)氣體4至真空腔體3，其中反應(yīng)氣體可使用氮?dú)饣蜓鯕狻＝又鴪?zhí)行步驟S16，混合該些離子及反應(yīng)氣體4而形成抗沾黏膜層11于樂器本體10的預(yù)設(shè)置區(qū)域。上述說明該些離子為鉻金屬離子、鈦金屬離子或碳離子，反應(yīng)氣體4使用氮?dú)饣蜓鯕猓?dāng)該些離子與反應(yīng)氣體4混合所形成的抗沾黏膜層11為鉻金屬氧化物、鈦金屬氧化物、鉻金屬氮化物、鈦金屬氮化物或類鉆碳。
[0050]請(qǐng)參閱圖5，其是本發(fā)明的第二實(shí)施例的抗沾黏膜層的示意圖；如圖所示，本實(shí)施例的抗沾黏膜層11更參雜多個(gè)抗菌微粒111，該些抗菌微粒111的材料選自銀、銅、鈷、鎳、鐵、鋁、鋅及其它具有抗菌特性的金屬中擇其中一者，而該些抗菌微粒111于抗沾黏膜層11的重量百分比介于1%與20%之間。參雜有該些抗菌微粒111的抗沾黏膜層11具有良好的抗菌效果，以抑制殘留于樂器I的唾液中的細(xì)菌于樂器I進(jìn)行繁衍。
[0051]請(qǐng)一并參閱圖6及圖7，其是本發(fā)明的第二實(shí)施例的樂器的制造流程圖及制造設(shè)備的示意圖；如圖所示，本實(shí)施例制造參雜有該些抗菌微粒111的抗沾黏膜層11于樂器本體10上。本實(shí)施例的制作方法與第一實(shí)施例的制作方法不同在于，本實(shí)施例的制作方法使用兩個(gè)靶源，分別為一第一靶源21及一第二靶源22，第一靶源21用以產(chǎn)生抗沾黏膜層11的材料；第二靶源22用以產(chǎn)生該些抗菌微粒111的材料。本實(shí)施例的制作方法先執(zhí)行步驟S20，提供樂器本體10、第一靶源21及第二靶源22于真空腔體3，而第一靶源21及第二靶源22設(shè)置于真空腔體3的同一側(cè)，并對(duì)應(yīng)樂器本體10的預(yù)設(shè)置區(qū)域。然步驟S20的第一靶源21使用鉻金屬靶源、鈦金屬靶源或石墨碳靶源，其第二靶源22使用銀金屬靶源、銅金屬靶源、鈷金屬靶源、鎳金屬靶源、鐵金屬靶源、鋁金屬靶源或鋅金屬靶源。
[0052]接著執(zhí)行步驟S22，離子化第一靶源21及第二靶源22并分別產(chǎn)生多個(gè)第一離子210及多個(gè)第二離子220。第一靶源21使用鉻金屬靶源、鈦金屬靶源或石墨碳靶源，所以第一靶源21進(jìn)行離子化時(shí)產(chǎn)生鉻金屬離子、鈦金屬離子或碳離子，鉻金屬離子、鈦金屬離子或碳離子為第一離子210 ;同理，第二靶源22使用銀金屬靶源、銅金屬靶源、鈷金屬靶源、鎳金屬靶源、鐵金屬靶源、鋁金屬靶源或鋅金屬靶源，所以第二靶源22進(jìn)行離子化時(shí)產(chǎn)生銀離子、銅離子、鈷離子、鎳離子、鐵離子、鋁離子或鋅離子，銀離子、銅離子、鈷離子、鎳離子、鐵離子、鋁離子或鋅離子為第二離子220。
[0053]然后執(zhí)行步驟S24，通入反應(yīng)氣體4至真空腔體3，其中反應(yīng)氣體可使用氮?dú)饣蜓鯕狻＝又鴪?zhí)行步驟S26，混合該些第一離子、該些第二離子及反應(yīng)氣體而形成抗沾黏膜層11于樂器本體10的預(yù)設(shè)置區(qū)域。該些第一離子為鉻金屬離子、鈦金屬離子或碳離子，反應(yīng)氣體使用氮?dú)饣蜓鯕猓?dāng)該些第一離子與反應(yīng)氣體混合形成抗沾黏膜層11，抗沾黏膜層11為鉻金屬氧化物、鈦金屬氧化物、鉻金屬氮化物、鈦金屬氮化物或類鉆碳，同時(shí)該些第二離子與該些第一離子及反應(yīng)氣體混合形成參雜于抗沾黏膜層11內(nèi)的該些抗菌微粒111，該些抗菌微粒111為銀金屬微粒、銅金屬微粒、鈷金屬微粒、鎳金屬微粒、鐵金屬微粒、鋁金屬微粒或鋅金屬微粒。
[0054]上述執(zhí)行步驟S22時(shí)，可利用一程控該些第一離子及該些第二離子的百分比，使該些第一離子相對(duì)于該些第一離子與該些第二離子總和的重量百分比介于80%與99%之間，該些第二離子相對(duì)于該些第一離子與該些第二離子總和的重量百分比介于I %與20%之間，如此利用本實(shí)施例的制作方法所形成的抗沾黏膜層11內(nèi)的該些抗菌微粒111于抗沾黏膜層11的重量百分比介于1%與20%之間。
[0055]綜上所述，本發(fā)明是有關(guān)于一種具有抗沾黏膜層的樂器，其使樂器容易清洗，以清除殘留于樂器上的唾液或其它臟污，而清洗液體不附著于樂器，并防止樂器因清洗而產(chǎn)生銹蝕。然本發(fā)明的抗沾黏膜層更參雜有該些抗菌微粒，使抗沾黏膜層具有抗菌效果，并抑制殘留于樂器上的唾液或其它臟污所含的細(xì)菌于樂器繁衍。
[0056]上文僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非用來限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，凡依本發(fā)明權(quán)利要求范圍所述的形狀、構(gòu)造、特征及精神所為的均等變化與修飾，均應(yīng)包括于本發(fā)明的權(quán)利要求范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種具有抗沾黏膜層的樂器，其特征在于，其包含: 一樂器本體；以及 一抗沾黏膜層，其設(shè)置于該樂器本體上。
2.如權(quán)利要求1所述的具有抗沾黏膜層的樂器，其特征在于，其中一液體與該抗沾黏膜層的接觸角大于100度。
3.如權(quán)利要求1所述的具有抗沾黏膜層的樂器，其特征在于，其中該抗沾黏膜層的材料為鉻金屬氧化物、鈦金屬氧化物、鉻金屬氮化物、鈦金屬氮化物及類鉆碳中的任意一種。
4.如權(quán)利要求3所述的具有抗沾黏膜層的樂器，其特征在于，其中該抗沾黏膜層的材料更包含: 多個(gè)抗菌微粒，其參雜于該抗沾黏膜層，該些抗菌微粒于該抗沾黏膜層的重量百分比介于1%與20%之間。
5.如權(quán)利要求4所述的具有抗沾黏膜層的樂器，其特征在于，其中該些抗菌微粒的材料為銀、銅、鈷、鎳、鐵、鋁及鋅中的任意一種。
6.如權(quán)利要求1所述的具有抗沾黏膜層的樂器，其特征在于，其中該樂器本體具有一吹嘴部，該吹嘴部具有至少一外表面及至少一內(nèi)表面，該抗沾黏膜層設(shè)置于該外表面或該內(nèi)表面，或者該抗沾黏膜層設(shè)置于該外表面及該內(nèi)表面。
7.如權(quán)利要求1所述的具有抗沾黏膜層的樂器，其特征在于，其中該樂器本體具有至少一外表面及至少一內(nèi)表面，該抗沾黏膜層設(shè)置于該外表面或該內(nèi)表面，或者該抗沾黏膜層設(shè)置于該外表面及該內(nèi)表面。
8.一種具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法，其特征在于，其包含: 提供一樂器本體及至少一靶源于一真空腔體上； 離子化至少一靶源，并產(chǎn)生多個(gè)離子； 通入一反應(yīng)氣體至該真空腔體；以及 混合該反應(yīng)氣體與該些離子，并形成一抗沾黏膜層于該樂器本體上。
9.如權(quán)利要求8所述的具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法，其特征在于，其中該靶源包含一第一靶源，該第一靶源為一鉻金屬靶源、一鈦金屬靶源或一石墨靶，離子化該靶源所產(chǎn)生的該些離子包含多個(gè)第一離子，該些第一離子為鉻離子、鈦離子或碳離子。
10.如權(quán)利要求8所述的具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法，其特征在于，其中該靶源更包含一第二靶源，該第二靶源為一銀金屬靶源、一銅金屬靶源、一鈷金屬靶源、一鎳金屬靶源、一鐵金屬靶源、一鋁金屬靶源或一鋅金屬靶源，離子化該靶源所產(chǎn)生的該些離子更包含多個(gè)第二離子，該些第二離子為銀離子、銅離子、鈷離子、鎳離子、鐵離子、鋁離子或鋅離子。
11.如權(quán)利要求10所述的具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法，其特征在于，其中離子化該靶源并產(chǎn)生該些離子的步驟更包含利用一程控該些第一離子及該些第二離子的百分比，該些第一離子相對(duì)于該些第一離子與該些第二離子總和的重量百分比介于80%與99%之間，該些第二離子相對(duì)于該些第一離子與該些第二離子總和的重量百分比介于1%與20%之間。
12.如權(quán)利要求8所述的具有抗沾黏膜層的樂器的制造方法，其特征在于，其中該反應(yīng)氣體為一氮?dú)饣蛞谎鯕狻?br> 【文檔編號(hào)】G10D9/00GK103915084SQ201210595587
【公開日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2012年12月28日 優(yōu)先權(quán)日:2012年12月28日
【發(fā)明者】高于迦, 莊道良, 吳政諺, 林昭憲, 黃建龍 申請(qǐng)人:財(cái)團(tuán)法人金屬工業(yè)研究發(fā)展中心