化學氣相沉積裝置及其清潔方法
【專利摘要】本發明涉及一種化學氣相沉積裝置。所述化學氣相沉積裝置將清潔工具從傳輸腔傳輸到所述反應腔，并將所述清潔工具安裝在反應腔內的頂壁上的清潔工具安裝部上，以清潔所述反應腔內的承載部件；所述化學氣相沉積裝置還可以翻轉所述清潔工具，并將所述清潔工具設置在所述承載部件上，以清潔所述反應腔的頂壁。本發明的化學氣相沉積裝置可以自動清潔所述反應腔的頂壁和承載部件，縮短了清潔時間，提高了所述化學氣相沉積裝置的生產效率。本發明同時提供一種化學氣相沉積裝置的清洗方法。
【專利說明】化學氣相沉積裝置及其清潔方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及化學氣相沉積【技術領域】，特別涉及一種化學氣相沉積裝置及所述化學氣相沉積裝置的清潔方法。
【背景技術】
[0002]金屬有機化學氣相沉積(MOCVD,Metal-Organic Chemical VaporDeposition)是在氣相外延生長(VPE)的基礎上發展起來的一種化學氣相外延沉積工藝。它以III族、II族元素的有機化合物和V、VI族元素的氫化物等作為晶體生長的原材料，以熱分解反應方式在石墨盤上進行沉積工藝，生長各種II1-V族、I1-VI族化合物半導體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。上述工藝過程通常在化學氣相沉積裝置中進行，特別是在MOCVD裝置中進行。
[0003]下面對現有的化學氣相沉積裝置進行說明。具體地，以MOCVD裝置為例，請參考圖10，圖10是現有的化學氣相沉積裝置的剖面結構示意圖。
[0004]所述化學氣相沉積裝置2包括腔體21，設置在腔體21頂部的噴淋組件22，設置在所述腔體21底部的承載部件23，和驅動所述承載部件23轉動的致動裝置24。所述噴淋組件22與所述承載部件23相對設置，并限定位于二者之間的反應區。
[0005]在進行化學氣相沉積工藝的過程中，待處理基片設置在所述承載部件23面向所述噴淋組件22的上表面；所述致動裝置24驅動所述承載部件23轉動；反應氣體通過所述噴淋組件22進入所述反應區，并在所述待處理基片的表面發生反應并沉積形成固體薄膜。
[0006]在上述化學氣相沉積工藝過程中，盡管不希望發生，但固體沉積物同時會沉積在所述噴淋組件22面向所述承載部件`23的表面和所述承載部件23面向所述噴淋組件22的表面。所述沉積在所述噴淋組件22和所述承載部件23上的沉積物會脫落而形成污染顆粒。因此，在完成一定次數的化學氣相沉積工藝后，需要對所述噴淋組件22面向所述承載部件23的表面和所述承載部件23面向所述噴淋組件22的表面進行清潔。現有技術中，清潔所述噴淋組件22和所述承載部件23表面的方法是:開啟所述腔體21，用人工的方法對所述噴淋組件22面向所述承載部件23的表面和所述承載部件23面向所述噴淋組件22的表面進行刷洗。由于需要開啟所述腔體21，就需要所述化學氣相沉積裝置2腔體21內所有部件都冷卻到100攝氏度以下，并從真空狀態恢復到大氣壓狀態才能開啟。在完成所述噴淋組件22表面和所述承載部件23表面的清洗后，又需要將所述化學氣相沉積裝置2腔體21進行抽真空,并將腔體21內的部件加熱到反應溫度。因此,一次對所述噴淋組件22表面和所述承載部件23表面的清洗需要花費較長的時間，從而降低了現有化學氣相沉積裝置2生產效率。
[0007]為解決上述問題，美國專利申請公開US2011/0186078AI提出將清潔工具傳輸到反應腔中，并將清潔工具支撐在轉軸上，通過旋轉所述清潔工具以自動清潔噴淋組件的出氣面的技術方案。但該技術方案只能自動清潔所述噴淋組件的出氣面，并不能清潔所述承載部件23的表面；因此，還需要人工對所述化學氣相沉積裝置的承載部件122進行清洗，或將清潔工具與其相應的制動工具和支持工具一同傳入反應腔內對所述化學氣相沉積裝置的承載部件122進行自動清洗，這在小的空間將難以實現。
[0008]因此，有必要研發一種能夠對噴淋組件表面和所述承載部件表面進行自動清潔并能縮短清潔時間的化學氣相沉積裝置及化學氣相沉積裝置清潔方法。

【發明內容】

[0009]現有技術化學氣相沉積裝置存在需要人工清洗，清洗時間長，生產效率低的問題，本發明提供一種能解決上述問題的化學氣相沉積裝置。
[0010]一種化學氣相沉積裝置包括反應腔、傳輸腔，所述反應腔具有頂壁，所述反應腔底部設置有承載部件，所述反應腔設置有加熱器與致動裝置，所述傳輸腔內設置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件，所述承載部件具有承載面，所述化學氣相沉積裝置還包括清潔工具，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應腔具有清潔工具安裝部，當所述固定部安裝在清潔工具安裝部上時，所述致動裝置驅動所述承載面使其相對所述清潔工具運動以使得所述清潔工具對所述承載面進行清潔，當翻轉所述清潔工具后，并將所述固定部設置在所述承載面上時，所述致動裝置驅動所述承載面運動，以使得所述清潔工具接觸所述頂壁并相對所述頂壁運動以對所述頂壁進行清潔。
[0011]本發明還提供一種能解決上述問題的化學氣相沉積裝置的清洗方法。
[0012]一種的化學氣相沉積裝置的清洗方法，包括:提供一反應腔，所述反應腔具有頂壁，所述反應腔還包括設置在所述反應腔底部并與頂壁相對的所述承載部件，所述反應腔還包括清潔工具安裝部、加熱器和控制單元，所述清潔工具安裝部相對所述頂壁固定，所述承載部件具有承載面；提供一傳輸腔，所述傳輸腔內設置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸待處理或處`理完畢的基片或承載有基片的板部件；提供一清潔工具，所述清潔工具包括刮擦部和固定部，所述清潔工具被置于所述傳輸腔內，并由所述傳輸裝置傳輸至所述反應腔中；所述清潔工具通過所述固定部被設置在所述承載裝置上；提供一致動裝置，所述致動裝置升高并旋轉所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述頂壁；降低并停止旋轉所述承載部件；所述化學氣相沉積裝置翻轉所述清潔工具并使得所述清潔工具通過所述固定部安裝在所述清潔工具安裝部上；所述致動裝置旋轉所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述承載部件的承載面；停止旋轉所述承載部件，并使所述清潔工具從所述清潔工具安裝部上脫離；所述清潔工具被所述傳輸裝置從所述承載部件傳輸到所述傳輸腔。
[0013]一種的化學氣相沉積裝置的清洗方法，包括:提供一反應腔，所述反應腔具有頂壁，所述反應腔還包括設置在所述反應腔底部并與頂壁相對的所述有承載部件，所述反應腔還包括清潔工具安裝部、加熱器和控制單元，所述清潔工具安裝部相對所述頂壁固定，所述承載部件具有承載面；提供一傳輸腔，所述傳輸腔內設置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件；提供一清潔工具，所述清潔工具包括刮擦部和固定部，所述清潔工具被置于所述傳輸腔內，并由所述傳輸裝置傳輸至所述反應腔中；所述清潔工具通過所述固定部被安裝在所述清潔工具安裝部上；提供一致動裝置，所述致動裝置旋轉所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述承載部件的承載面；降低并停止旋轉所述承載部件；所述化學氣相沉積裝置翻轉所述清潔工具并使得所述清潔工具的固定部設置在所述承載部件上；所述致動裝置驅動所述承載部件抬升并轉動，使得所述清潔工具清潔所述頂壁；降低停止旋轉所述承載部件；所述清潔工具被所述傳輸裝置從所述承載部件傳輸到所述傳輸腔。
[0014]與現有技術相比較，本發明的化學氣相沉積裝置中，在需要清潔所述頂壁和所述承載部件表面時，將清潔工具傳輸到所述反應腔內的所述承載部件上，使得所述致動裝置驅動所述清潔工具對所述頂壁進行清潔；在完成清潔所述頂壁后，所述化學氣相沉積裝置翻轉所述清潔工具，并使得所述清潔工具固定于所述相對頂壁固定的清潔工具安裝部上，使所述承載部件旋轉，進而清潔所述承載部件的承載面。由于不需要人工對所述頂壁和所述承載部件的承載面進行清洗，因此不需要等待所述反應腔的溫度降低后才開啟所述反應腔，從而可以節省清潔時間，提高所述化學氣相沉積裝置的生產效率；且所述化學氣相沉積裝置可以自行清潔，減少了對人力勞動的依賴。本發明的化學氣相沉積裝置還可以同時自動清洗所述頂壁和所述承載部件表面，從而使得所述反應腔內的污染物大為減少，提高了化學氣相沉積工藝的良率。本發明的化學氣相沉積裝置的清洗方法具有基本相同的技術效果。此外，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應腔具有清潔工具安裝部，所述清潔工具通過所述固定部被安裝在所述清潔工具安裝部上，這避免了清洗過程中，將制動工具或支持工具一并傳輸到反應腔中，有效利用了反應腔內的環境空間，簡化了結構。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是本發明化學氣相沉積裝置第一實施方式的結構示意圖。
[0016]圖2是圖1所示化學氣相沉積裝置剖面結構示意圖。
[0017]圖3是圖1所示清潔工具的立體機構示意圖。
[0018]圖4是圖3所示清潔工具的俯視結構示意圖。
[0019]圖5是圖3所述刷子單元的剖面結構示意圖。
`[0020]圖6是清潔反應腔的過程中，將所述清潔工具放置與所述承載部件后的反應腔剖面結構示意圖。
[0021]圖7是清潔反應腔的過程中，將所述清潔工具抬升后使得所述清潔工具的刷毛與所述噴淋組件接觸后的反應腔剖面結構示意圖。
[0022]圖8是清潔反應腔的過程中，將翻轉后的所述清潔工具放置在所述承載部件上的反應腔剖面結構示意圖。
[0023]圖9是清潔反應腔的過程中，將所述清潔工具的固定部安裝在所述清潔工具安裝部上的反應腔剖面結構示意圖。
[0024]圖10是現有的化學氣相沉積裝置的剖面結構示意圖。
【具體實施方式】
[0025]為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發明的【具體實施方式】做詳細的說明。
[0026]在下面的描述中闡述了很多具體細節以便于充分理解本發明，但是本發明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來實施，因此本發明不受下面公開的具體實施例的限制。
[0027]現有技術化學氣相沉積裝置存在需要人工清洗，清洗時間長，生產效率低的問題，為解決現有技術的問題，本發明提出一種清潔時間短、生產效率高的化學氣相沉積裝置，所述化學氣相沉積裝置包括反應腔、傳輸腔，所述反應腔具有頂壁，所述反應腔底部設置有承載部件，所述反應腔設置有加熱器與致動裝置，所述傳輸腔內設置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件，所述承載部件具有承載面，所述化學氣相沉積裝置還包括清潔工具，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應腔具有清潔工具安裝部，當所述固定部安裝在清潔工具安裝部上時，所述致動裝置驅動所述承載面使其相對所述清潔工具運動以使得所述清潔工具對所述承載面進行清潔，當翻轉所述清潔工具后，并將所述固定部設置在所述承載面上時，所述致動裝置驅動所述承載面運動，以使得所述清潔工具接觸所述頂壁并相對所述頂壁運動以對所述頂壁進行清潔。
[0028]與現有技術相比較，本發明的化學氣相沉積裝置中，在需要清潔所述頂壁和所述承載部件表面時，將清潔工具傳輸到所述反應腔內的所述承載部件上，使得所述致動裝置驅動所述清潔工具對所述頂壁進行清潔；在完成清潔所述頂壁后，所述化學氣相沉積裝置翻轉所述清潔工具，并使得所述清潔工具固定于所述相對頂壁固定的清潔工具安裝部上，使所述承載部件旋轉，進而清潔所述承載部件的承載面。由于不需要人工對所述頂壁和所述承載部件的承載面進行清洗，因此不需要等待所述反應腔的溫度降低后才開啟所述反應腔，從而可以節省清潔時間，提高所述化學氣相沉積裝置的生產效率；且所述化學氣相沉積裝置可以自行清潔，減少了對人力勞動的依賴。本發明的化學氣相沉積裝置還可以同時自動清洗所述頂壁和所述承載部件表面，從而使得所述反應腔內的污染物大為減少，提高了化學氣相沉積工藝的良率。此外，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應腔具有清潔工具安裝部，所述清潔工具通過所述固定部被安裝在所述清潔工具安裝部上，這避免了清洗過程中，將致動工具或支持工具一并傳輸到反應腔中，有效利用了反應腔內的環境空間，簡化了結構。
[0029]請參閱圖1，圖1是本發明化學氣相沉積裝置第一實施方式的結構示意圖。所述化學氣相沉積裝置I包括一傳輸腔11`、一個或多個反應腔12、負載鎖14和多個門閥13。所述一個或多個反應腔12與所述負載鎖14分布于所述傳輸腔11的周圍并分別通過一個所述門閥13與所述傳輸腔11連通。所述負載鎖14用于向所述化學氣相沉積裝置I輸入待處理基片，和從所述化學氣相沉積裝置I輸出處理完成的基片。所述反應腔12用于對待處理基片進行化學氣相沉積處理，從而在待處理基片上沉積一層固體材料。所述固體材料，優選的，如II1-V半導體材料。所述傳輸腔11用于在所述負載鎖14和所述一個或多個反應腔12之間傳輸基片。
[0030]請同時參閱圖2,圖2是圖1所示化學氣相沉積裝置2剖面結構示意圖。所述反應腔12包括腔體、位于腔體頂部的頂壁128、設置在所述腔體底部并與所述頂壁128相對設置的承載部件122、加熱器123、致動裝置126、清潔工具安裝部16和泵部件。所述頂壁128與所述承載部件122之間限定一反應區；所述加熱器123用于加熱設置在所承載部件122上的待處理基片或其他部件。所述致動裝置126通過一轉軸124連接所述承載部件122。所述致動裝置126用于驅動所述承載部件122轉動，優選的，所述致動裝置126還進一步用于驅動所述承載部件122，使所述承載部件122抬升或降低，從而使得所述承載部件122靠近或遠離所述噴淋組件121。所述泵部件設置在所述承載部件122的周圍，用于抽走所述反應區中的氣體。
[0031]所述頂壁128具有面向所述承載部件122的頂面。噴淋組件121設置在所述頂壁128上。所述噴淋組件121包括一面向所述承載部件122的出氣表面125。所述出氣表面125為所述頂壁128的頂面的一部分。所述出氣表面125上設置有多個出氣孔。反應氣體從反應腔12外引入到所述噴淋組件121后，通過所述多個出氣孔噴射到所述反應區域中。所述承載部件122具有面向所述噴淋組件121的承載面127。在進行化學氣相沉積工藝的過程中，待處理基片被設置在所述承載面127上；所述加熱器123用于加熱所述被設置在所述承載面127上的待處理基片。其他部件也可以設置在所述承載面127上。所述清潔工具安裝部16安裝在所述頂壁128上，所述清潔工具安裝部16為設置在所述頂壁128上的多個卡合孔。優選的，所述卡合孔設置在所述噴淋組件121的周圍，如此，所述清潔工具安裝部16不會占用所述噴淋組件121的出氣表面125上的面積，使得噴淋組件121出氣表面125上的出氣孔在出氣表面125上分布均勻。可選的所述清潔工具安裝部16還可以是設置在所述噴淋組件121上的檢測孔。由于所述噴淋組件121本身需要設置檢測孔，而且檢測孔是用于檢測基片處理過程中，反應腔12內的狀態，因此，在進行清潔時，檢測孔可以用作清潔工具安裝部16，而不需要在反應腔12中額外增加清潔工具安裝部16。
[0032]所述傳輸腔11至少包括腔體和傳輸裝置111。所述傳輸腔11優選的為真空傳輸腔，即所述腔體內被抽成真空狀態；有害氣體如:氧氣等進入到所述反應腔12后會造成對所述反應腔12的損害，如氧氣氧化所述反應腔12內的部件；使用真空傳輸腔，使得在所述傳輸腔11與所述反應腔12之間的門閥13開啟以傳輸基片時，不會有有害氣體如:氧氣等進入到所述反應腔12中。所述傳輸裝置111設置在所述傳輸腔11的腔體內。所述傳輸裝置111用于在所述負載鎖14和所述一個或多個反應腔12之間傳輸基片。優選的，所述傳輸裝置111為機械手。優選的，所述傳輸腔11還包括一設置其腔體內的基片架112。所述基片架112用于存放基片；所述傳輸裝置111同時也可以在所述負載鎖14、所述一個或多個反應腔12和基片架112之間傳輸基片。
[0033]所述化學氣相沉積裝置I進一步包括一清潔工具15。所述清潔工具15在所述化學氣相沉積裝置I在待機狀態或進行化學氣相沉積工藝時，被放置于傳輸腔11中或所述負載鎖14中；當所述化學氣相沉積裝置I中的反應腔12中的頂壁128 (即所述噴淋組件121的出氣表面)或承載部件122需要清潔的時候，所述清潔工具15將通過所述傳輸裝置111傳輸至所述反應腔12中，并設置在所述承載部件122的承載面127或安裝在所述清潔工具安裝部16上。使得所述致動裝置126可以驅動所述承載部件122，從而所述清潔工具15可以對所述頂壁128的頂面或所述承載部件122的承載面127進行清潔；其中，所述清潔工具15可以先設置在所述承載部件122的承載面127上以清潔所述頂壁128的頂面，完成清潔所述頂壁128的頂面后，所述化學氣相沉積裝置I翻轉所述清潔工具15，即使得所述清潔工具15清潔面翻轉面向所述承載部件122的承載面127，并使得所述清潔工具15固定于所述清潔工具安裝部16上，使得所述清潔工具15清潔所述承載部件122的承載面127 ;所述清潔工具15也可以先固定在所述清潔工具安裝部16上以清潔所述承載部件122的承載面127，完成清潔所述 承載部件122的承載面127后，所述化學氣相沉積裝置I翻轉所述清潔工具15，并使得所述清潔工具15設置在所述承載部件122的承載面127上，以使得所述清潔工具15清潔所述頂壁128的頂面。其中，所述化學氣相沉積裝置I翻轉所述清潔工具15，可以是使得所述傳輸裝置111將所述清潔工具15從所述反應腔12中取出到所述傳輸腔11中，所述傳輸裝置111在所述傳輸腔11中翻轉所述清潔工具15并將所述清潔工具15從新傳輸到所述反應腔12中。優選的，當所述化學氣相沉積裝置I在待機狀態或進行化學氣相沉積工藝時，所述清潔工具15被放置在所述傳輸腔11中的基片架112上。由于所述傳輸腔11為真空傳輸腔；因此需要將所述清潔工具15傳輸到所述反應腔12中時，無需等待所述反應腔12的溫度降低和恢復到大氣壓力，就能開啟所述位于傳輸腔11與所述反應腔12之間門閥13。從而縮短傳輸所述清潔工具15的時間。同時，將所述清潔工具15放置在所述傳輸腔11中的基片架112上，可以使得將所述清潔工具15傳輸到反應腔12中的路程最短，從而進一步縮短傳輸所述清潔工具15的時間。
[0034]請同時參閱圖3和圖4，圖3是圖1所示清潔工具15的立體結構示意圖。圖4是圖3所示清潔工具15的俯視結構示意圖。所述清潔工具15包括一托盤本體151、固定部158和刮擦部。所述固定部158設置所述托盤本體151的下表面；所述固定部158與所述清潔工具安裝部16相對應，所述清潔工具15通過所述固定部158安裝在所述清潔工具安裝部16中；其中，所述固定部158包括多個固定卡扣。所述刮擦部固定設置在所述托盤本體151的上表面在本實施方式中，所述刮擦部包括多個刷子單元152，當然在本發明的某些其他的【具體實施方式】中，所述刮擦部也可以僅為一個刷子單元；所述刷子單元152優選的呈條狀；可選的，所述刷子單元152也可以呈扇形。優選的，所述多個刷子單元152在所述托盤本體151的上表面呈放射狀均勻分布；以使得所述清潔工具15可以均勻地清潔所述頂壁128的頂面和所述承載部件122的承載面127。優選的，所述清潔工具15的本體151包括若干子部，每一個子部上具有刷子單元152，從而使得所述清潔工具15分為若干子清潔部157，所述子清潔部157由所述傳輸裝置111在所述傳輸腔11和所述反應腔12之間傳輸。所述本體151的子部優選的為扇 形結構，所述清潔工具15的本體151為所述子部拼接而成的圓環形盤或圓形盤，也即所述清潔工具15為所述子清潔部157拼接而成的圓環形盤或圓形盤。
[0035]請一并參閱圖5，圖5是圖3所述刷子單元152的剖面結構示意圖。所述刷子單元152包括基板1523和刷毛1521/1522。所述基板1523固定安裝于所述托盤本體151上。所述刷毛1521/1522插至于所述基板1523上；所述刷毛1521/1522的材料優選的，為耐高溫和/或耐腐蝕的材料，如所述刷毛1521/1522的材料為尼龍(nylon)、高鉻調制不銹鋼(SST)、銅及其合金(copper&alloy)、炭纖維(carbon fiber)、碳納米管(carbon nanotubes)、炭纖維網(carbon mesh)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚醚醚酮(PEEK)和高分子復合材料中的一種或多種。優選的，所述刷毛1521/1522橫截面積要小于出氣面125上的出氣通孔的橫截面積；如此，所述刷毛1521/1522可以伸入到所述出氣通孔中對沉積在所述出氣通孔內的物質進行清潔。所述刷毛1521/1522包括第一刷毛1521和第二刷毛1522。所述第一刷毛1521和第二刷毛1522的長度可以相同；優選的，所述第一刷毛1521與所述第二刷毛1522相互間隔設置；且所述第一刷毛1521的長度較所述第二刷毛1522的長度要短。其中較長的所述第二刷毛1522可以用于清潔所述噴淋組件121的出氣表面125和所述承載部件122的承載面127上較難清潔的縫隙部分。
[0036]所述化學氣相沉積裝置I還進一步包括一控制裝置。所述控制裝置用于控制所述化學氣相沉積裝置I各個部件的運作。
[0037]以下將對所述化學氣相沉積裝置I的工作過程進行介紹。
[0038]在所述化學氣相沉積裝置I進行化學氣相沉積工藝時，所述負載鎖14打開，待處理基片被加載到所述負載鎖14中。關閉所述負載鎖14，并將所述負載鎖14抽真空。完成對所述負載鎖14抽真空后，開啟所述負載鎖14與所述傳輸腔11之間的門閥13。傳輸裝置111將所述待處理基片從所述負載鎖14中取出，并將所述待處理基片運送到所述傳輸腔11中；其中，所述傳輸裝置111可以將所述待處理基片保持在所述傳輸裝置111上，或將所述待處理基片暫存在所述基片架112上。關閉所述負載鎖14與所述傳輸腔11之間的門閥13，開啟所述反應腔12與所述傳輸腔11之間的門閥13。傳輸裝置111將所述待處理基片運輸到所述反應腔12中，并放置在所述承載部件122上，即，所述承載部件122同時也是用于支撐待處理基片的基座。關閉所述反應腔12與所述傳輸腔11之間的門閥13。所述致動裝置126驅動所述承載部件122旋轉并帶動所述待處理基片轉動；所述加熱器123加熱設置在所述承載部件122上的基片；所述噴淋組件121連接包括反應氣體源和載氣源，從而通過所述噴淋組件121上的出氣口向所述反應區域提供反應氣體和載氣。所述反應氣體在所述反應區域發生反應并在所述基片的表面沉積一層固體薄膜。優選的，當所述化學氣相沉積裝置為金屬有機化學氣相沉積裝置時，所述反應氣體優選的包括III族反應氣體和V族反應氣體,或所述反應氣體包括II族反應氣體和VI族反應氣體；所述反應氣體反應在所述基片上沉積一層II1-V族半導體薄膜，如GaN薄膜，或沉積一層I1-VI族半導體薄膜。完成薄膜沉積后，開啟所述反應腔12與所述傳輸腔11之間的門閥13，傳輸裝置111將所述基片從所述處理腔12中取出并傳輸到所述傳輸腔11中；其中，所述傳輸裝置111可以將所述基片保持在所述傳輸裝置111上，或將所述基片暫存在所述基片架112上。關閉所述反應腔12與所述傳輸腔11之間的門閥13，開啟所述負載鎖14與所述傳輸腔11之間的門閥
13。傳輸裝置111將所述基片傳輸到所述負載鎖14中。關閉所述負載鎖14與所述傳輸腔11之間的門閥13 ;使得所述負載鎖14中的氣壓恢復到大氣壓，開啟所述負載鎖14，將所述基片從負載鎖14中取出，從而完成對基片`的化學氣相沉積工藝處理過程。上述過程中，基片在反應腔12中完成處理并被傳輸到所述傳輸腔11后，還可以被傳輸到另外一個處理腔12中進行其他化學氣相沉積工藝處理。之后再傳輸到所述負載鎖14中取出。
[0039]當所述處理腔12完成一次或多次化學氣相沉積工藝處理后，其頂壁128和所述承載部件122的承載面127將沉積有固體物質，因此，需要對所述頂壁128和所述承載部件122的承載面127進行清潔。此時，所述傳輸腔11中的傳輸裝置111從所述負載腔14或所述傳輸腔11中的所述基片架112上裝載所述清潔工具15。優選的，所述清潔工具15被放置在所述傳輸腔11中的基片架112上，因此，所述傳輸裝置111從所述基片架112上裝載所述清潔工具15。開啟所述反應腔12與所述傳輸腔11之間的門閥13，傳輸裝置111將所述清潔工具15傳輸至所述反應腔12中，并將所述清潔工具15通過所述固定部158放置在所述承載部件122上，所述清潔工具15通過所述固定部158固定在所述承載部件122上；所述固定部158的固定卡扣與所述承載部件122上的卡合部配合使得所述清潔工具15固定在所述承載部件122上；優選的，傳輸所述清潔工具15為逐個傳輸所述若干個子清潔部127。所述控制裝置控制所述致動裝置126，使得所述致動裝置126驅動所述承載部件122旋轉，從而帶動所述清潔工具15旋轉，進而使得所述清潔工具15上的刮擦部刷洗所述頂壁128 ;優選的，在所述清潔工具15刷洗所述頂壁128同時，所述加熱器123加熱所述清潔工具15，從而提高所述清潔工具15的清潔效率；進一步優選的，在所述清潔工具15刷洗所述頂壁128同時，所述噴淋組件121還進一步連接一清潔氣源，所述清潔氣源優選的包括含氯化合物或含氟化合物的氣體，如氯化氫；清潔氣體通過所述噴淋組件121進入所述反應腔的反應區，所述清潔氣體可以進一步提高所述清潔工具15的清潔效率；進一步優選的，所述泵部件在所述清潔工具15刷洗所述頂壁128時，將反應區中的氣體抽走，以迅速帶走所述頂壁128上的污物，防止污物殘留，提高清潔效果。
[0040]請參閱圖6，圖6是清潔反應腔的過程中，將所述清潔工具15固定于所述承載部件122后的反應腔12剖面結構示意圖。其中，當所述清潔工具15被設置在所述承載部件122上后，由于所述清潔工具15的刷毛1511/1512與所述頂壁128之間通常具有間隙。因此，優選的，所述致動裝置126進一步包括一抬升裝置；所述抬升裝置用于抬升所述承載部件122，使得所述清潔工具15的刷毛1511/1512接觸到所述頂壁128。請參閱圖7，圖7是清潔反應腔的過程中，將所述清潔工具15抬升使得所述清潔工具15的刷毛與所述頂壁128接觸后的反應腔12剖面結構示意圖。在所述清潔工具15被放置到所述承載部件122上后，所述控制裝置控制所述致動裝置126旋轉所述承載部件122，并同時抬升所述承載部件122，使得所述清潔工具15的刷毛1511/1512接觸所述頂壁128，并刷洗所述頂壁128。所述控制裝置進一步包括檢測裝置，所述檢測裝置用于檢測所述清潔工具15的刷毛1511/1512是否接觸所述頂壁128。如所述檢測裝置檢測所述致動裝置126中驅動所述承載部件122轉動的電機的電流量變化從而檢測所述清潔工具15的刷毛1511/1512是否接觸所述頂壁128。當刷毛1511/1512接觸到所述頂壁128，所述電機的電流會增加，所述檢測裝置檢測到電流增加后，將會輸出控制信號，使得所述致動裝置126停止提升所述承載部件122。所述控制裝置的檢測裝置還進一步檢測所述頂壁128是否清潔干凈。如所述檢測裝置檢測所述致動裝置126中驅動所述承載部件轉動的電機的電流量變化以檢測所述頂壁128是否已經清潔完成，由于所述出氣表面125清潔干凈后，所述驅動所述承載部件122轉動的電機的電流量會降低，所述檢測裝置檢測所述電流的降低，當所述電流降低到預定值時，所述檢測裝置發出控制指令，所述控制指`令使得所述承載部件122停止轉動，從而所述清潔工具15停止清洗所述頂壁128。可選的，所述控制裝置還可以是包括一計時器，所述計時器用于控制所述清潔工具15刷洗所述頂壁128的時間。所述時間的長度根據經驗設定，通常以保證能夠清洗干凈所述頂壁128為限。優選的，所述控制裝置還包括一轉速控制單元，所述轉速控制單元能夠根據所述頂壁128的清潔程度決定所述承載部件122的轉速，所述頂壁128越清潔，所述承載部件122的轉速越低。又優選的，所述控制裝置還包括一溫度控制單元，所述溫度控制單元能夠根據所述頂壁128的清潔程度決定所述加熱器123對所述清潔工具15施加的溫度，所述頂壁128越清潔，所述加熱器123的加熱溫度越低。又優選的，所述控制裝置還包括一氣壓控制單元，在所述清洗工具15對所述頂壁128進行清洗的過程中，所述氣壓控制單元控制所述反應腔12內的氣壓。
[0041]在完成清潔所述頂壁128后，降低所述承載部件122，所述致動裝置126停止旋轉所述承載部件122 ;所述反應腔12與所述傳輸腔11之間的門閥13開啟。傳輸裝置111將所述清潔工具15從所述反應腔12中取出至所述傳輸腔11中。所述傳輸裝置111翻轉所述清潔工具15，使得所述清潔工具15具有刮擦部的表面向下，即具有所述固定部158的表面向上。請參閱圖8，圖8是清潔反應腔的過程中，將翻轉后的所述清潔工具15放置在所述承載部件122上的反應腔12剖面結構示意圖。所述清潔工具15在所述傳輸腔11內被翻轉后，所述傳輸裝置111再將所述清潔工具15傳輸至所述反應腔12中，并將所述清潔工具15放置在所述承載部件122上。所述抬升裝置驅動所述承載部件122升高，使得所述清潔工具15靠近所述頂壁128，使得所述清潔工具15的固定部158安裝在所述清潔工具安裝部16上，從而使得所述清潔工具15相對所述頂壁128固定；在本實施方式中，所述清潔工具15的固定卡扣對應卡合于所述頂壁128上的檢測孔中。請參閱圖9，圖9是清潔反應腔的過程中，將所述清潔工具15的固定部158安裝在所述清潔工具安裝部16上的反應腔12剖面結構示意圖。所述清潔工具15安裝在所述清潔工具安裝部16后，所述致動裝置126驅動所述承載部件122轉動，使得所述清潔工具15清潔所述承載部件122的承載面127 ;與此同時，所述加熱器123可以加熱所述清潔工具15。所述控制裝置的檢測裝置還進一步檢測所述承載部件122的承載面127是否清潔干凈。所述檢測裝置檢測所述承載面127是否清潔干凈的方法與檢測所述頂壁128是否清潔干凈的方法基本相同，因此不再贅述。優選的，所述控制裝置的轉速控制單元根據所述承載面127的清潔程度決定所述承載部件122的轉速，所述承載面127越清潔，所述承載部件122的轉速越低。又優選的，所述控制裝置的溫度控制單元能夠根據所述承載面127的清潔程度決定所述加熱器123對所述清潔工具15施加的溫度，所述承載面127越清潔，所述加熱器123的加熱溫度越低。又優選的，在所述清洗工具15對所述出氣表面125進行清洗的過程中，所述控制裝置的氣壓控制單元控制所述反應腔12內的氣壓。
[0042]所述清潔工具15完成清潔所述承載部件122的承載面后，所述清潔工具15從所述噴淋組件121上脫離，并放置在所述承載部件122上，所述傳輸腔11與所述反應腔12之間的門閥13開啟；所述傳輸裝置111將所述清潔工具15傳輸到所述基片架112上。所述清潔工具15放置在所述基片架112上后，可以進一步傳輸到所述負載鎖14中，再從所述負載鎖14將所述清潔工具15從所述化學氣相沉積裝置I中取出。從而完成清洗過程，所述反應腔12可以從新進行化學氣相沉積工藝處理工程。
[0043]在上述對所述頂壁128和所述承載部件122的承載面127進行清潔的過程中，所述清潔工具15也可以先通過所述固定部158安裝在所述清潔工具安裝部16上，以對所述承載部件122的承載面127進行清潔；其中，所述清潔工具15安裝到所述清潔工具安裝部16和所述清潔工具15對所述承載部件122的承載面127進行清潔的過程與前述相同，在此不再贅述。然后所述化學氣相沉積裝置I再翻轉所述清潔工具15 ;所述化學氣相沉積裝置I翻轉所述清潔工具15的過程與前述相同，在此也不再贅述。所述化學氣相沉積裝置I翻轉所述清潔工具15后，將所述清潔工具15通過所述固定部158設置在所述承載部件122上對所述頂壁128進行清潔；所述清潔工具15設置在所述承載部件122和所述清潔工具15對所述頂壁128進行清潔的過程與前述相同，在此也不再贅述。
[0044]與現有技術相比較，本發明的化學氣相沉積裝置I中，在需要清潔所述頂壁128和所述承載部件122時，將清潔工具15傳輸到所述反應腔12內，使得所述清潔工具15安裝在所述清潔工具安裝部16上以對所述承載部件122進行清潔；所述化學氣相沉積裝置I還翻轉所述清潔工具15，使所述清潔工具15設置在所述承載部件122上，用以對所述頂壁128進行清潔。由于不需要人工對所述頂壁128和所述承載部件122的承載面127進行清洗，因此，不需要等待所述反應腔12的溫度降低后開啟所述反應腔12，因此可以節省清潔時間，提高所述化學氣相沉積裝置I的生產效率。本發明的化學氣相沉積裝置I還可以同時自動清洗所述頂壁128和所述承載部件122的承載面127，從而使得所述反應腔12內的污染物大為減少，提聞了化學氣相沉積工藝的良率。
[0045]本發明化學氣相沉積裝置的第二實施方式與本發明化學氣相沉積裝置第一實施方式基本相同，其區別在于:述清潔工具的刮擦部包括多個擦布單元。所述刷布單元包括基板和刷布。所述基板固定于所述托盤本體上。所述刷布粘附于所述基板上；所述刷布的材料優選的，為耐高溫和/或耐腐蝕的材料，如所述刷布的材料為尼龍(nylon)、高鉻調制不銹鋼(SST)、銅及其合金(copper&alloy)、炭纖維(carbon fiber)、碳納米管(carbonnanotubes)、炭纖維網(carbonmesh)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚醚醚酮(PEEK)和高分子復合材料中的一種或多種。
[0046]與第一實施方式化學氣相沉積裝置I相比，第二實施方式化學氣相沉積裝置使用由多個刷布單元組成的刮擦部清潔所述噴淋組件的出氣表面，由于刷布更加細膩，因此對所述噴淋組件的出氣表面的清潔更加均勻。
[0047]雖然本發明已以較佳實施例披露如上，但本發明并非限定于此。任何本領域技術人員，在不脫離本發明的精神和范圍內，均可作各種更動與修改，因此本發明的保護范圍應當以權利要求所限定的范圍為準。`
【權利要求】
1.一種化學氣相沉積裝置，包括:反應腔、傳輸腔，所述反應腔具有頂壁，所述反應腔底部設置有承載部件，所述反應腔設置有加熱器與致動裝置，所述傳輸腔內設置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件，所述承載部件具有承載面，其特征在于，所述化學氣相沉積裝置還包括清潔工具，所述清潔工具具有刮擦部和固定部，所述反應腔具有清潔工具安裝部，當所述固定部安裝在清潔工具安裝部上時，所述致動裝置驅動所述承載面使其相對所述清潔工具運動以使得所述清潔工具對所述承載面進行清潔，當翻轉所述清潔工具后，并將所述固定部設置在所述承載面上時，所述致動裝置驅動所述承載面運動，以使得所述清潔工具接觸所述頂壁并相對所述頂壁運動以對所述頂壁進行清潔。
2.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具安裝部設置于所述反應腔的頂壁。
3.如權利要求2所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述反應腔頂壁包括面向所述承載部件的頂面，所述頂面的至少一部分為出氣表面。
4.如權利要求3所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述頂壁具有噴淋組件，所述出氣面為所述噴淋組件面向所述承載部件的表面，所述清潔工具安裝部設置在所述噴淋組件四周。
5.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述反應腔的頂壁具有檢測孔，所述檢測孔為所述清潔工具安裝部。
6.如權利要求5所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述頂壁具有噴淋組件，所述檢測孔設置在所述噴淋組件上。
7.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具包括若干子清潔部，所述子清潔部由所述傳輸裝置在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸。
8.如權利要求7所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述子清潔部為扇形結構，所述清潔工具為所述子清潔部拼接而成的圓環形盤或圓形盤。
9.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具的翻轉在所述傳輸腔內完成。
10.如權利要求9所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述傳輸裝置將所述清潔工具傳輸到所述傳輸腔后將所述清潔工具翻轉。
11.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述化學氣相沉積裝置傳輸腔內包括基片架，所述基片架用以放置所述基片和所述清潔工具。
12.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述傳輸腔為真空傳輸腔。
13.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述刮擦部包括多個刷子單J Li ο
14.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述刮擦部包括多個刷布單J Li ο
15.如權利要求13所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷子單元具有基板及至少一種刷毛。
16.如權利要求15所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷毛的材質包括尼龍(nylon)、高鉻調制不銹鋼(SST)、銅及其合金(copper&alloy)、炭纖維(carbon fiber) >碳納米管(carbon nanotubes)、炭纖維網(carbon mesh)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚醚醚酮(PEEK)和高分子復合材料中的一種或多種。
17.如權利要求14所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷子單元具有基板及至少一種刷布。
18.如權利要求17所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，刷布的材質是尼龍(nylon)、高鉻調制不銹鋼(SST)、銅及其合金(copper&alloy)、炭纖維(carbon fiber)、碳納米管(carbon nanotubes)、炭纖維網(carbon mesh)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚偏氟乙烯(PVDF)、聚醚醚酮(PEEK)和高分子復合材料中的一種或多種。
19.如權利要求15所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷毛具有相同長度。
20.如權利要求15所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷毛具有不同長度。
21.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述加熱單元對所述清潔工具加熱。
22.如權利要求13所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述刷子單元具有刷毛，所述頂板具有若干出氣通孔，所述出氣通孔的橫截面積大于所述刷毛的橫截面積。
23.如權利要求1所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述承載部件為用于放置所述基片的基座。
24.如權利要求1-23中任一項所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述化學氣相沉積裝置還包括控制單元，所述控制單元包括承載部件旋轉控制單元，所述旋轉控制單元用于控制旋轉所述承載部件，以對所述頂壁或所述承載部件的承載面進行清洗。
25.如權利要求24所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述致動裝置為所述承載部件旋轉驅動裝置。
26.如權利要求25所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述控制單元還包括基座升降控制單元用以控制所述基座的升降運動，以便所述清潔單元的刮擦部能夠刷到所述承載面或所述頂壁。
27.如權利要求26所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述控制單元具備信號輸出，以輸出所述刮擦部接觸到所述頂壁時的表征信號。
28.如權利要求27所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具還包括檢測單元，用于檢測所述刮擦部對所述承載面或所述頂壁的接觸程度。
29.如權利要求4所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述化學氣相沉積裝置為金屬氧化物化學氣相沉積裝置，用以沉積化合物半導體外延薄膜。
30.如權利要求29所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述噴淋組件連接反應氣體源、載氣源、清潔氣體源。
31.如權利要求30所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述反應氣體源包括III族金屬有機源和V族氫化物源。
32.如權利要求30所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述反應氣體源包括II族金屬有機源和VI族氫化物源。
33.如權利要求30所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述清洗氣體源包括含氯化合物或含氟化合物的氣體。
34.一種的化學氣相沉積裝置 的清洗方法，包括:提供一反應腔，所述反應腔具有頂壁，所述反應腔還包括設置在所述反應腔底部并與頂壁相對的所述承載部件，所述反應腔還包括清潔工具安裝部、加熱器和控制單元，所述清潔工具安裝部相對所述頂壁固定，所述承載部件具有承載面； 提供一傳輸腔，所述傳輸腔內設置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件； 提供一清潔工具，所述清潔工具包括刮擦部和固定部，所述清潔工具被置于所述傳輸腔內，并由所述傳輸裝置傳輸至所述反應腔中； 所述清潔工具通過所述固定部被設置在所述承載裝置上； 提供一致動裝置，所述致動裝置升高并旋轉所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述頂壁； 降低并停止旋轉所述承載部件； 所述化學氣相沉積裝置翻轉所述清潔工具并使得所述清潔工具通過所述固定部安裝在所述清潔工具安裝部上； 所述致動裝置旋轉所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述承載部件的承載面； 停止旋轉所述承載部件，并使所述清潔工具從所述清潔工具安裝部上脫離； 所述清潔工具被所述傳輸裝置從所述承載部件傳輸到所述傳輸腔。
35.一種的化學氣相沉 積裝置的清洗方法，包括: 提供一反應腔，所述反應腔具有頂壁，所述反應腔還包括設置在所述反應腔底部并與頂壁相對的所述有承載部件，所述反應腔還包括清潔工具安裝部、加熱器和控制單元，所述清潔工具安裝部相對所述頂壁固定，所述承載部件具有承載面； 提供一傳輸腔，所述傳輸腔內設置有傳輸裝置用以在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸待處理或處理完畢的基片或承載有基片的板部件； 提供一清潔工具，所述清潔工具包括刮擦部和固定部，所述清潔工具被置于所述傳輸腔內，并由所述傳輸裝置傳輸至所述反應腔中； 所述清潔工具通過所述固定部被安裝在所述清潔工具安裝部上； 提供一致動裝置，所述致動裝置旋轉所述承載部件，使得所述清潔工具清潔所述承載部件的承載面； 降低并停止旋轉所述承載部件； 所述化學氣相沉積裝置翻轉所述清潔工具并使得所述清潔工具的固定部設置在所述承載部件上； 所述致動裝置驅動所述承載部件抬升并轉動，使得所述清潔工具清潔所述頂壁； 降低停止旋轉所述承載部件； 所述清潔工具被所述傳輸裝置從所述承載部件傳輸到所述傳輸腔。
36.如權利要求34或35所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述清潔工具包括若干子清潔部，所述子清潔部由所述傳輸裝置在所述傳輸腔和所述反應腔之間傳輸。
37.如權利要求36所述的化學氣相沉積裝置，其特征在于，所述子清潔部為扇形結構，所述清潔工具為所述子清潔部拼接而成的圓環形盤或圓形盤。
38.如權利要求34或35所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述清潔工具包括多個刷子單元。
39.如權利要求38所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述致動裝置升高與旋轉所述承載部件可以同時進行。
40.如權利要求38所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，升高與旋轉所述承載部件可以分步進行。
41.如權利要求34或35所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括檢測裝置，所述檢測裝置用以檢測所述頂壁或所述承載部件的承載面的清潔狀態。
42.如權利要求34或35所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述化學氣相沉積裝置為金屬氧化物化學氣相沉積裝置，用以沉積化合物半導體外延薄膜。
43.如權利要求34或35所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述清潔工具包括刷子或刷布單元。
44.如權利要求34或35所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括轉速控制單元，所述轉速控制單元能夠根據所述頂壁或所述承載部件的承載面的清潔程度決定所述承載部件的轉速。
45.如權利要求34或35所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括溫度控制單元，所述溫度控制單元能夠根據所述頂壁或所述承載部件的承載面的清潔程度決定所述加熱單元對所述清潔工具施加的溫度。
46.如權利要求45所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，在所述清洗工具對所述頂壁或所述 承載部件的承載面進行清洗的過程中，向所述反應腔中通入清潔氣體。
47.如權利要求34或35所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述化學氣相沉積裝置還包括設置在承載部件周圍的泵部件，在所述清洗工具對所述頂壁或所述承載部件的承載面進行清洗的過程中，向所述反應腔中通入氣體，所述泵部件將氣體抽走，以迅速帶走所述的污物。
48.如權利要求47所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括氣體流量控制單元，所述氣體流量控制單元能夠根據所述頂壁或所述承載部件的承載面的清潔程度決定向所述反應腔中通入氣體的流量。
49.如權利要求48所述的化學氣相沉積裝置的清洗方法，其特征在于，所述控制單元包括氣壓控制單元，在所述清洗工具對所述頂壁或所述承載部件的承載面進行清洗的過程中，所述氣壓控制單元控制所述反應腔內的氣壓。
【文檔編號】C23C16/00GK103805958SQ201210458045
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2012年11月14日 優先權日:2012年11月14日
【發明者】馬悅, 袁剛, 姜蔚, 奚明 申請人:理想能源設備(上海)有限公司