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基于磨料拋光墊的寶石襯底的超精密加工方法與流程

文檔序號:11076757閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.本發明屬于基于磨料拋光墊的寶石襯底的超精密加工方法,其特征在于:用粒度不大于14微米的金剛石固結磨料拋光墊對LBO晶體進行粗拋光加工,拋光加工過程中控制拋光壓力為50~600g/cm2,拋光機的轉速控制在10~200rpm,并控制拋光所用的拋光液的PH值在2~6之間,拋光液的溫度介于20~30℃,完成LBO晶體的粗拋光;其次,再用粒度不大于3微米的氧化鈰固結磨料拋光墊對上述粗拋光所得的LBO晶體進行精拋光加工,精拋光加工過程中控制拋光壓力在50~600g/cm2之間,拋光轉速控制在10~200rpm之間,同時調節拋光所用的拋光液的PH值在2~6之間,控制拋光液的溫度在20~30℃之間,直至表面粗糙度滿足設定要求。

2.根據權利要求1所述的加工方法,其特征是所述的拋光液為去離子水。

3.根據權利要求1或2所述的加工方法,其特征是所述的拋光液的PH值調節劑為鹽酸、過氧化氫、氨水、羥基胺、四甲基氫氧化銨、乙二胺或三乙醇胺、檸檬酸、乙酸或乙酸鈉、磷酸二氫鈉或次氯酸鈉中的一種或一種以上的組合。

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