本發明屬于拋光機，具體涉及一種曲面拋光機。

背景技術：

目前，在傳統的曲面拋光領域，通常采用氣缸控制上拋光盤的上下運動并實現加壓。工作時，采用限位環對上拋光盤進行定點限位。限位環承受上盤主要壓力，工件表面僅承受加工耗材的變形而產生的壓力。將導致曲面拋光良率低，拋光效率不高，加工耗材使用率低等缺點。同時，下工件盤只有自轉運動，沒有公轉，存在加工耗材磨損量不一致、整盤工件一致性差，工件良品率低等缺點。

隨著電子光學領域對復雜曲面拋光的需求日趨增多，傳統的拋光設備因其加工效率低下、加工耗材使用率低、工件良品率低等缺陷，難以匹配飛速發展的加工需求。現急需一種能夠同時實現高效率、加工耗材高使用率、高良品率的新型曲面拋光設備。

技術實現要素：

本發明的目的是提供一種效率高、加工耗材使用率高、良品率高的曲面拋光機。

本發明提供的曲面拋光機，包括床身、設在床身上的立柱和下盤動力系統、設在床身上與下盤動力系統連接的回轉軸承支撐組件、由回轉軸承支撐組件支撐的公轉盤、設在公轉盤上的若干與下盤動力系統連接可自轉的工件盤組件、設在工件盤組件上方且安裝在立柱部件上的上盤組件、設在上盤組件上驅動上盤組件中上盤轉動的上盤動力系統、設在立柱部件上驅動上盤組件沿立柱上下運動的伺服進給系統、設在床身上的數控系統。

所述上盤組件通過懸臂和直線滑塊組件安裝在所述立柱部件上，所述伺服進給系統通過伺服電機驅動滾珠絲杠與直線滑塊組件配合控制上盤部件的上下運動。

所述床身上圍繞工件盤組件設有接液盆，所述上盤組件的周圍設有擋液罩。

有益效果：

本發明是針對復雜曲面零件而開發的一種新型曲面拋光設備，可實現下工件盤既有自轉運動又有公轉運動，使加工耗材（毛刷）損耗更加均勻化，提高工件的良品率；并通過伺服驅動系統實現上拋光盤隨著加工耗材的損耗而實時補償定位，保證整個加工過程中曲面拋光的一致性，提高加工耗材使用率、加工效率。

下面結合附圖進一步說明本發明的技術方案。

附圖說明

圖1是本發明的結構示意圖。

具體實施方式

如圖1所示，本發明曲面拋光設備，包括床身1、下盤動力系統2、回轉軸承支撐組件3、公轉盤4、接液盆5、工件盤組件6、上盤組件7、擋液罩8、上盤動力系統9、伺服進給系統10、立柱部件11、直線滑塊組件12、數控系統13等多種功能模塊。所述床身1上設有下盤動力系統2，所述下盤動力系統2主要提供工件盤的公轉運動；所述床身1設有與下盤動力系統2連接的回轉軸承支撐組件3，所述公轉盤4由回轉軸承支撐組件3支撐，公轉盤4上均勻設有五個與下盤動力系統2連接可自轉的工件盤組件6，工件盤組件6在公轉盤4隨回轉軸承支撐組件3公轉的過程中產生自轉運動，實現工件盤既有自轉，又有公轉的新型運動方式，使加工耗材損耗更加均勻化，提高工件的良品率；所述接液盆5為環形，圍繞工件盤組件6安裝在床身1上，用于工作過程中拋光液的回收重復使用，同時防止拋光液外泄；所述上盤組件7對應設在工件盤組件6上方且通過懸臂和直線滑塊組件12安裝在立柱部件11上，可根據拋光工藝配置耗材盤；所述擋液罩8圍繞上盤組件7安裝在上盤組件7上，用于防止上盤高速旋轉時拋光液的外濺；所述上盤動力系統9安裝在上盤組件7上，直接驅動上盤組件7中的上盤，提供高速回轉運動；所述伺服進給系統10安裝在立柱部件11上，通過伺服電機驅動滾珠絲杠與直線滑塊組件12配合控制上盤部件7的上下運動，既可通過對上盤部件7中上盤的精確定位，調節加工耗材（毛刷）與工件表面接觸后的彎曲程度，實現加載拋光，也可實現上盤部件7中的上盤隨著加工耗材（毛刷）的損耗而進行實時補償定位，保證整個加工過程中加工耗材（毛刷）的彎曲程度一致性，提高加工效率與加工耗材的使用率；所述直線滑塊組件12固定在立柱部件上，所述立柱部件11安裝在床身1的邊上，用于上盤部件7的主支撐；所述數控系統12固定在床身上，并緊靠立柱安裝，用于對各運動部件的工藝控制。

以上所述僅為本發明優選的具體實施方式，并不用以限定本發明的范圍，任何本領域的技術人員在不脫離本發明構思和原則的前提下所做出任何的修改、等同替換與改進、均應屬于本發明權利要求的保護范圍之內。