技術總結
本發明公開了一種大角度多波段紅外高增透膜的膜系和制備方法。技術方案為：(1)以ZnS，ZnSe，Ge，Si、IG5和IG6等紅外材料為基底設計膜系結構，計算每層膜的光學厚度值；(2)清潔被鍍基底；(3)加溫烘烤基底；(4)用離子源在鍍膜前和鍍膜過程中轟擊基底；(5)將H(ZnSe)、M(Al2O3)和L(YbF3)三種膜料放入旋轉電子槍蒸發源坩鍋中，根據上述公式表的順序和厚度值用光學真空鍍膜機完成鍍膜；(6)退火處理。本發明解決了在以ZnS，ZnSe，Ge，Si、IG5和IG6等紅外材料為基底上研制大角度多波段(特別是遠紅外)高增透膜的膜系設計和工藝制備，特別是遠紅外膜層牢固度等技術難題。

技術研發人員：王平秋;楊柳;于清;代禮密;廖自力;林莉;劉洋;吳楊海;許鴻;曾望輝;張玉東;鄧健
受保護的技術使用者：西南技術物理研究所
文檔號碼：201611144231
技術研發日：2016.12.13
技術公布日：2017.06.13