技術特征：

技術總結
本發明公開了一種含氫摻鋁類金剛石薄膜的制備方法，本發明方法是通過采用中頻磁控濺射孿生鋁靶復合陽極層流型離子源離化甲烷或乙炔氣體技術，在基體表面沉積含氫摻鋁類金剛石薄膜，能夠實現低溫、大面積、長時間沉積，具有設備簡單、生產成本低、效率高的特點，可用于各種零部件表面減摩耐磨防護。本發明提出了一種能夠實現快速、穩定地沉積膜/基結合強度高、摩擦系數和磨損率低的含氫摻鋁類金剛石薄膜制備方法。

技術研發人員：林松盛;許偉;代明江;周克崧;石倩;侯惠君;韋春貝;李洪;趙鳳麗;蘇一凡
受保護的技術使用者：廣東省新材料研究所
技術研發日：2017.06.13
技術公布日：2017.10.20