本技術涉及真空鍍膜領域，尤其是涉及一種鍍膜設備、系統及產品。

背景技術：

1、真空鍍膜是指在真空環境下，通過將材料蒸發或濺射成氣態原子或分子，并使其在基材表面凝聚形成薄膜的一種技術。其工作原理主要涉及在真空環境中降低氣體分子的密度，從而減少空氣分子對鍍膜過程的干擾，提高鍍膜質量和精度。在真空鍍膜開始前需要對真空腔體進行抽真空以便讓真空腔體維持穩定的真空從而形成良好的鍍膜效果，但是當前的真空腔體難以維持較好地真空鍍膜，因此，現有技術還有待改進和提高。

技術實現思路

1、鑒于上述現有技術的不足之處，本實用新型的目的在于提供一種鍍膜設備、系統及產品。

2、為解決以上技術問題，本實用新型采取了以下技術方案：

3、本實用新型提供了一種鍍膜設備，包括卷繞部、蒸發源和真空室，所述卷繞部和蒸發源設置于所述真空室內，所述卷繞部設置于真空室的上部、位于所述蒸發源的上方，所述蒸發源設置于所述真空室的下部、位于所述卷繞部的下方，所述真空室上設置有用于對所述蒸發源處進行抽真空的第一真空組和用于對所述卷繞部進行抽真空的第二真空組，所述第一真空組設置于所述真空室的下部，所述第二真空組設置于所述真空室的上部。

4、進一步地，所述的鍍膜設備，所述第一真空組包括螺桿泵、羅茨泵、維持泵和擴散泵，所述螺桿泵與所述羅茨泵連通，所述羅茨泵與所述擴散泵連通，所述擴散泵與所述真空室的下部連通，所述維持泵連通于所述羅茨泵與所述擴散泵之間的管路上。

5、進一步地，所述的鍍膜設備，所述第一真空組還包括一擴散泵，該擴散泵與所述羅茨泵連通、且與所述真空室的下部連通。

6、進一步地，所述的鍍膜設備，所述第二真空組包括螺桿泵、第一羅茨泵、第二羅茨泵和第一分子泵，所述螺桿泵與第一羅茨泵連通，所述第一羅茨泵與第二羅茨泵連通，所述第二羅茨泵與第一分子泵連通，所述第一分子泵與所述真空室的上部連通。所述第二真空組還包括第三羅茨泵和第二分子泵，所述第三羅茨泵與與所述螺桿泵連通的第一羅茨泵連通，第二分子泵與所述第三羅茨泵連通、且與所述真空室的上部連通。

7、進一步地，所述的鍍膜設備，第一深冷機和第二深冷機，所述第一深冷機與所述真空室連接，所述第二深冷機與所述卷繞部連接。

8、進一步地，所述的鍍膜設備，還包括普冷機，所述普冷機與所述卷繞部的主輥處連接。

9、本實用新型提供了一種鍍膜系統，包括如上所述的鍍膜設備和用于對鍍膜設備的加工物進行水電鍍的水電鍍設備，所述水電鍍設備設置于所述鍍膜設備一側。

10、本實用新型還提供了一種由鍍膜系統制成的鍍膜產品，包括支撐膜，所述支撐膜的上表面鍍有第一涂層，所述支撐膜的下表面鍍有第二涂層，所述第一涂層和第二涂層為金屬涂層時，所述第一涂層和第二涂層的厚度為800nm-1500nm，所述第一涂層和第二涂層為非金屬涂層時，所述第一涂層和第二涂層的厚度為30nm-100nm。

11、進一步地，所述的由鍍膜系統制成的鍍膜產品，所述第一涂層和第二涂層為非金屬涂層時，所述第一涂層和第二涂層的表面上均鍍有第三涂層，所述第三涂層的厚度為800-950nm。

12、進一步地，所述的由鍍膜系統制成的鍍膜產品，當第一涂層和第二涂層為金屬涂層時，其表面顆粒的形狀為傾斜的柱狀結構，與支撐膜表面的傾斜的角度為45°-90°；當第一涂層和第二涂層為非金屬涂層時，第三涂層的表面顆粒的形狀為傾斜的柱狀結構，與支撐膜表面的傾斜的角度為45°-90°。

13、相較于現有技術，本實用新型提供的一種鍍膜設備、系統及產品，鍍膜設備包括卷繞部、蒸發源和真空室，所述卷繞部和蒸發源設置于所述真空室內，所述卷繞部設置于真空室的上部、位于所述蒸發源的上方，所述蒸發源設置于所述真空室的下部、位于所述卷繞部的下方，所述真空室上設置有用于對所述蒸發源處進行抽真空的第一真空組和用于對所述卷繞部進行抽真空的第二真空組，所述第一真空組設置于所述真空室的下部，所述第二真空組設置于所述真空室的上部。本實用新型采用第一真空組合第二真空組兩套抽真空系統對真空室進行抽真空，在真空室內設置有卷繞部和蒸發源，蒸發源主要用來對待鍍金屬材料進行熔融后使其蒸發，卷繞部用來將膜展開，使其經過蒸發源上方進而使蒸發源內蒸鍍形成的金屬顆粒附著在展開的膜上，本實用新型的第一真空組用來對蒸發源進行抽真空，本實用新型的第二真空組用來對卷繞系統進行抽真空，這樣兩套抽真空系統可以保證真空室內的真空值較好地達到預定的水平，從而獲得高質量鍍膜產品。

技術特征：

1.一種鍍膜設備，包括卷繞部、蒸發源和真空室，其特征在于，所述卷繞部和蒸發源設置于所述真空室內，所述卷繞部設置于真空室的上部、位于所述蒸發源的上方，所述蒸發源設置于所述真空室的下部、位于所述卷繞部的下方，所述真空室上設置有用于對所述蒸發源處進行抽真空的第一真空組和用于對所述卷繞部進行抽真空的第二真空組，所述第一真空組設置于所述真空室的下部，所述第二真空組設置于所述真空室的上部。

2.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，所述第一真空組包括螺桿泵、羅茨泵、維持泵和擴散泵，所述螺桿泵與所述羅茨泵連通，所述羅茨泵與所述擴散泵連通，所述擴散泵與所述真空室的下部連通，所述維持泵連通于所述羅茨泵與所述擴散泵之間的管路上。

3.根據權利要求2所述的鍍膜設備，其特征在于，所述第一真空組還包括一擴散泵，該擴散泵與所述羅茨泵連通、且與所述真空室的下部連通。

4.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，所述第二真空組包括螺桿泵、第一羅茨泵、第二羅茨泵和第一分子泵，所述螺桿泵與第一羅茨泵連通，所述第一羅茨泵與第二羅茨泵連通，所述第二羅茨泵與所述第一分子泵連通，所述第一分子泵與所述真空室的上部連通。

5.根據權利要求4所述的鍍膜設備，其特征在于，所述第二真空組還包括第三羅茨泵和第二分子泵，所述第三羅茨泵與所述螺桿泵連通的第一羅茨泵連通，所述第二分子泵與所述第三羅茨泵連通、且與所述真空室的上部連通。

6.根據權利要求1所述的鍍膜設備，其特征在于，還包括普冷機、第一深冷機和第二深冷機，所述第一深冷機與所述真空室連接，所述第二深冷機與所述卷繞部連接，所述普冷機與所述卷繞部的主輥處連接。

7.一種鍍膜系統，其特征在于，包括如權利要求1-6任意一項所述的鍍膜設備和用于對鍍膜設備的加工物進行水電鍍的水電鍍設備，所述水電鍍設備設置于所述鍍膜設備一側。

8.一種由鍍膜系統制成的鍍膜產品，其特征在于，包括支撐膜，所述支撐膜的上表面鍍有第一涂層，所述支撐膜的下表面鍍有第二涂層，所述第一涂層和第二涂層為金屬涂層時，所述第一涂層和第二涂層的厚度為800nm-1500nm，所述第一涂層和第二涂層為非金屬涂層時，所述第一涂層和第二涂層的厚度為30nm-100nm。

9.根據權利要求8所述的由鍍膜系統制成的鍍膜產品，其特征在于，所述第一涂層和第二涂層為非金屬涂層時，所述第一涂層和第二涂層的表面上均鍍有第三涂層，所述第三涂層的厚度為800-950nm。

10.根據權利要求9所述的由鍍膜系統制成的鍍膜產品，其特征在于，當第一涂層和第二涂層為金屬涂層時，其表面顆粒的形狀為傾斜的柱狀結構，與支撐膜表面的傾斜的角度為45°-90°；當第一涂層和第二涂層為非金屬涂層時，第三涂層的表面顆粒的形狀為傾斜的柱狀結構，與支撐膜表面的傾斜的角度為45°-90°。

技術總結
本技術提供的一種、系統及產品，鍍膜設備包括卷繞部、蒸發源和真空室，所述卷繞部和蒸發源設置于所述真空室內，所述卷繞部設置于真空室的上部、位于所述蒸發源的上方，所述蒸發源設置于所述真空室的下部、位于所述卷繞部的下方，所述真空室上設置有用于對所述蒸發源處進行抽真空的第一真空組和用于對所述卷繞部進行抽真空的第二真空組，所述第一真空組設置于所述真空室的下部，所述第二真空組設置于所述真空室的上部。本技術采用兩套抽真空系統對真空室進行抽真空，第一真空組用來對蒸發源進行抽真空，第二真空組用來對卷繞系統進行抽真空，這樣兩套抽真空系統可以保證真空室內的真空值較好地達到預定的水平，從而獲得高質量鍍膜產品。

技術研發人員：于欽芳,羅萬里
受保護的技術使用者：深圳勁嘉聚能科技有限公司
技術研發日：20240726
技術公布日：2025/4/28