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金屬掩模板面形測量系統(tǒng)及其測量方法

文檔序號:5940611閱讀:251來源:國知局
專利名稱:金屬掩模板面形測量系統(tǒng)及其測量方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種機械裝置,具體涉及一種金屬掩模板面形測量系統(tǒng)及其測量方法。
背景技術(shù)
OLED的自發(fā)光、超輕薄、響應(yīng)速度快、寬視角、低功耗等特性使搭載OLED屏的手機令人追捧。目前,OLED已經(jīng)初步確立了作為第三代顯示器領(lǐng)導(dǎo)核心的地位,隨著技術(shù)的成熟和大尺寸量產(chǎn)工藝的突破,OLED產(chǎn)品將向更大尺寸延伸。真空掩模蒸鍍是制備OLED發(fā)光層的主要方法,OLED掩模版所用的材料是熱膨脹系數(shù)極低的因瓦(Invar)合金,通常掩模版的厚度只有40 μ m,帶有幾百萬個微小的長方形像素。由于使用三基色發(fā)光材料的彩色OLED在制造過程中需要先后使用幾張掩模板,因而對掩模板的精度要求非常高。因此,將OLED掩模板固定在掩膜板框架之前必須保證被固定的掩模板具有較好的面形。目前業(yè)界在制作OLED掩模板的后期掩模板面形測量時,一般是選取接觸式或非接觸式的測量儀器對若干組測試點進(jìn)行測量,再將測量得到的結(jié)果直接分析或者導(dǎo)入Excel表等數(shù)據(jù)處理軟件進(jìn)行處理再進(jìn)行模擬分析,如此操作過程較為麻煩。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種金屬掩模板面形測量系統(tǒng)及其測量方法,結(jié)合軟件直接將金屬掩模板的面形測量數(shù)據(jù)直接模擬生成面形圖,較傳統(tǒng)的數(shù)據(jù)處理方法更簡單,且通過軟件控制可以實現(xiàn)掃描式測量,龐大的數(shù)據(jù)源更能真實的反應(yīng)金屬掩模板的表面形貌。針對以上問題,本發(fā)明提出以下方案:
一種金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,包括:控制系統(tǒng),通過軟件自動完成對所述金屬掩模板的測量;測量元件,對所述金屬掩模板板面進(jìn)行測量,并將測量數(shù)據(jù)及時反饋回給數(shù)據(jù)處理系統(tǒng);數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),根據(jù)測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。優(yōu)選的,所述測量元件為非接觸式光學(xué)元件。優(yōu)選的,所述測量元件為激光高度傳感器。優(yōu)選的,所述控制系統(tǒng)控制所述測量元件,對所述金屬掩模板板面進(jìn)行掃描式測量。優(yōu)選的,所述控制系統(tǒng)控制所述測量元件,對所述金屬掩模板板面的指定區(qū)域進(jìn)行測量。優(yōu)選的,所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)在測試進(jìn)行的過程中,根據(jù)測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。優(yōu)選的,所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)在測試完畢后,根據(jù)測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。
優(yōu)選的,其特征在于,測量系統(tǒng)還包括顯示器,用于顯示通過數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)處理得到的面形圖。一種使用上述金屬掩模板面形測量系統(tǒng)進(jìn)行測量的方法。本發(fā)明直接通過軟件控制測量過程,將測量的數(shù)據(jù)量加大,使得測量的結(jié)果更能真實的反應(yīng)被測金屬掩膜板的表面形貌,同時數(shù)據(jù)處理軟件的使用直接能快速準(zhǔn)確的將相關(guān)面形結(jié)果通過顯示器呈現(xiàn)給操作人員,給操作人員一個直接明了的判斷依據(jù),方便了操作人員的操作。


下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。圖1所示為本發(fā)明所涉及系統(tǒng)運行時流程 圖2為本發(fā)明所涉及金屬掩模板組裝機的整體示意 圖3為圖2中I部分放大示意 圖4為本發(fā)明的測量原理示意圖。其中:31為激光高度傳感器;32為CCD鏡頭;33為激光焊接頭;4為金屬掩模板;5為繃網(wǎng)機構(gòu);6為掃描點。
具體實施方式
實施例本發(fā)明涉及一種金屬掩模板面形測量系統(tǒng),圖1所示為本發(fā)明所涉及的系統(tǒng)運行時的流程圖。圖2為本發(fā)明所涉及金屬掩模板組裝機的整體示意圖,在測量過程中,所述測量系統(tǒng)中測量元件為非接觸式光學(xué)元件,圖3為圖2中I部分放大示意圖,本實施例中面形測量單元選擇激光高度傳感器31。在控制系統(tǒng)的軟件控制下,測量元件對金屬掩模板板面進(jìn)行掃描式測量,也可以是指定區(qū)域測量,圖4為本發(fā)明的測量原理示意圖,高度傳感器31在金屬掩膜板上方的水平位置上進(jìn)行掃描式的測量,在每個對應(yīng)的掃描點,高度傳感器31通過光學(xué)反射測量掃描點與高度傳感器31之間的距離,并將測量數(shù)據(jù)及時反饋回給數(shù)據(jù)處理系統(tǒng);在高度傳感器31掃描測試進(jìn)行的過程中或者測試完畢后,數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)根據(jù)測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形及相關(guān)的其它數(shù)據(jù)結(jié)果,并通過顯示器將數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)處理得到的能夠反映金屬掩模板表面形貌的三維立體圖作為面形圖呈現(xiàn)出來。掃描完畢后,操作人員根據(jù)測量結(jié)果判斷金屬掩模板面形是否符合要求,若面形符合要求,通過I中的CXD鏡頭32檢測金屬掩膜板開口精度,若開口精度符合要求,既可以利用I中激光焊接頭33將金屬掩膜板焊接在固定框架上。以上實施例目的在于說明本發(fā)明,而非限制本發(fā)明的保護(hù)范圍,由其它可等效作用的單元結(jié)構(gòu)來代替實施例中涉及到單元結(jié)構(gòu)落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,包括:控制系統(tǒng),通過軟件自動完成對所述金屬掩模板的測量;測量元件,對所述金屬掩模板板面進(jìn)行測量,并將測量數(shù)據(jù)及時反饋回給數(shù)據(jù)處理系統(tǒng);數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),根據(jù)測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,所述測量元件為非接觸式光學(xué)元件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,所述測量元件為激光高度傳感器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,所述控制系統(tǒng)控制所述測量元件,對所述金屬掩模板板面進(jìn)行掃描式測量。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,所述控制系統(tǒng)控制所述測量元件,對所述金屬掩模板板面的指定區(qū)域進(jìn)行測量。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)在測試進(jìn)行的過程中,根據(jù)測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,所述數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)在測試完畢后,根據(jù)測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模板面形測量系統(tǒng),其特征在于,測量系統(tǒng)還包括顯示器,用于顯示通過數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)處理得到的面形圖。
9.一種使用權(quán)利要求1至權(quán)利要求8所述的金屬掩模板面形測量系統(tǒng)進(jìn)行測量的方法。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種金屬掩模板面形測量系統(tǒng)及其測量方法,包括控制系統(tǒng),通過軟件自動完成對所述金屬掩模板的測量;測量元件,對所述金屬掩模板板面進(jìn)行測量,并將測量數(shù)據(jù)及時反饋回給數(shù)據(jù)處理系統(tǒng);數(shù)據(jù)處理系統(tǒng),根據(jù)測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行模擬,從而得到金屬掩膜板的面形;顯示器,顯示通過數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)處理得到的結(jié)果。本發(fā)明直接通過軟件控制測量過程,將測量的數(shù)據(jù)量加大,使得測量的結(jié)果更能真實的反應(yīng)被測金屬掩膜板的表面形貌,同時數(shù)據(jù)處理軟件的使用直接能快速準(zhǔn)確的將相關(guān)面形結(jié)果通過顯示器呈現(xiàn)給操作人員,給操作人員一個直接明了的判斷依據(jù),方便了操作人員的操作。
文檔編號G01B11/24GK103206924SQ20121000684
公開日2013年7月17日 申請日期2012年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月11日
發(fā)明者魏志凌, 高小平, 張煒平 申請人:昆山允升吉光電科技有限公司
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