專利名稱：片狀工件連續(xù)處理裝置和片狀工件連續(xù)處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對鋁電解電容器用的鋁箔等片狀工件連續(xù)地進行處理的片狀工件連續(xù)處理裝置和片狀工件連續(xù)處理方法。
背景技術(shù)：
作為對長條的片狀工件連續(xù)地進行處理的片狀工件連續(xù)處理裝置，代表性的裝置有在鹽酸等處理液中對鋁電解電容器用的鋁箔等進行電解的連續(xù)蝕刻裝置。在該連續(xù)蝕刻裝置中，沿著鋁箔的移動方向以水平姿勢配置有多個輥，利用這樣的輥規(guī)定鋁箔的移動路徑。并且，利用以水平姿勢配置在蝕刻槽內(nèi)的底部的輥，使鋁箔以在上下方向若干次折返的方式進行移動，在此期間對鋁箔進行蝕刻(參照專利文獻I)。另外，在生產(chǎn)鋁電解電容器用的陽極箔的連續(xù)化成裝置中，也同樣地沿著鋁箔的移動方向以水平姿勢配置有多個輥，利用這樣的輥規(guī)定鋁箔的移動路徑，并且，利用以水平姿勢配置在化成槽內(nèi)的底部的輥使鋁箔以在上下方向若干次折返的方式進行移動，在此期間對鋁箔進行化成。專利文獻I :日本特開2007-59827號公報(圖I)

發(fā)明內(nèi)容
但是，如現(xiàn)有的連續(xù)蝕刻裝置和連續(xù)化成裝置那樣，在通過以水平姿勢配置的輥使鋁箔在上下方向若干次折返的結(jié)構(gòu)的片狀工件連續(xù)處理裝置中，在切斷了鋁箔(片狀工件)情況下，存在使鋁箔再次通過蝕刻槽內(nèi)或化成槽內(nèi)的輥而要花費大量時間的問題。另外，如現(xiàn)有的連續(xù)蝕刻裝置和連續(xù)化成裝置那樣，在通過以水平姿勢配置的輥使鋁箔在上下方向若干次折返的結(jié)構(gòu)的情況下，存在鋁箔的質(zhì)量下降的問題。例如，在連續(xù)蝕刻裝置的情況下，在通過輥折返的部分，成為電極不相對的無電解蝕刻狀態(tài)而產(chǎn)生無用的溶解，使蝕刻倍率降低。另外，在連續(xù)化成裝置的情況下，在通過輥折返的部分，對化成模 (陽極氧化膜)施加過大的負荷而產(chǎn)生裂紋，這樣的裂紋成為漏電流增大的原因。鑒于以上的問題點，本發(fā)明的目的在于，提供一種片狀工件連續(xù)處理裝置，即使在連續(xù)處理中片狀工件切斷后，也能夠容易地進行復(fù)原，并能夠?qū)⑵瑺罟ぜ恼鄯荡螖?shù)抑制在最小限度。為了解決上述課題，本發(fā)明的片狀工件連續(xù)處理裝置的特征在于，包括將多個長條的片狀工件在以其寬度方向朝向上下方向的姿勢而相互并列的狀態(tài)下，沿它們的長度方向連續(xù)送出的工件送出部；和使從所述工件送出部送出的所述多個片狀工件，在以所述寬度方向朝向上下方向的姿勢而相互并列的狀態(tài)下，連續(xù)通過處理液內(nèi)的處理液貯存部。另外，本發(fā)明的片狀工件連續(xù)處理方法的特征在于，將多個長條的片狀工件在以其寬度方向朝向上下方向的姿勢而相互并列的狀態(tài)下，沿其長度方向連續(xù)送出，使已送出的所述多個片狀工件在以所述寬度方向朝向所述上下方向的姿勢互而相并列的狀態(tài)下，在貯存于處理液貯存部的處理液中連續(xù)地通過。本發(fā)明的“片狀工件”是厚度尺寸比寬度尺寸小的工件，對厚度尺寸沒有特別限定。通常，從數(shù)Pm的薄膜狀工件到數(shù)100 的板狀工件之間的厚度尺寸的工件均包含在片狀工件中。另外，本發(fā)明的“連續(xù)送出”包括片狀工件不停止地以規(guī)定的移動速度連續(xù)送出的情況、和片狀工件定期或非定期地暫停并送出的情況(間歇性送出的情況)。本發(fā)明的片狀工件連續(xù)處理裝置和片狀工件連續(xù)處理方法中，將多個長條的片狀工件在以其寬度方向朝向上下方向的姿勢而相互并列的狀態(tài)下，連續(xù)地送出，并保持該狀態(tài)使其在處理液中連續(xù)地通過。因此，由于不利用以水平姿勢配置的輥使片狀工件向上下方向若干次折返，因此即使在切斷片狀工件的情況下，使片狀工件在處理液中再次通過也不需要大量時間。另外，由于片狀工件保持其寬度方向朝向上下方向的姿勢，因此出入處理液中不需要通過輥等若干次折返。因此，可以將片狀工件的折返次數(shù)抑制在最小限度，因此能夠抑制因片狀工件的折返而造成的質(zhì)量下降。另外，本發(fā)明中，與通過以水平姿勢配置的輥使片狀工件在處理液中在上下方向若干次折返的情況相比較，同時浸潰于處理液內(nèi)的片狀工件的長度變短，但由于同時處理多個片狀工件，因此可以避免生產(chǎn)力的顯著下降。在本發(fā)明中，優(yōu)選所述處理液貯存部包括在所述片狀工件的移動方向的上游側(cè)具有使所述片狀工件通過的入側(cè)縫隙的入側(cè)壁部分；和在所述片狀工件的移動方向的下游側(cè)具有使所述片狀工件通過的出側(cè)縫隙的出側(cè)壁部分。在將寬度方向朝向上下方向使片狀工件移動并進行處理的情況下，在從片狀工件進入處理液貯存部的部位和片狀工件離開處理液貯存部的部位產(chǎn)生處理液的滲漏，但如果片狀工件進入處理液貯存部的部位和片狀工件離開處理液貯存部的部位形成為縫隙狀，就能夠?qū)⑻幚硪旱臐B漏抑制得較小。在本發(fā)明中，優(yōu)選具有向所述處理液貯存部供給所述處理液的處理液供給裝置； 和回收從所述處理液貯存部漏出的所述處理液的處理液回收裝置。如果由處理液供給裝置補給與從處理液貯存部內(nèi)通過入側(cè)縫隙和出側(cè)縫隙漏出的處理液相對應(yīng)的量的處理液，則可以將處理液貯存槽內(nèi)的處理液的液面維持在規(guī)定位置。另外，由于將從處理液貯存部漏出的處理液回收到了處理液回收裝置，因此可防止處理液無用的消耗。在本發(fā)明中，優(yōu)選具有使由所述處理液回收裝置回收的所述處理液回流到所述處理液貯存部的處理液回流路徑。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于從處理液貯存部漏出的處理液又返回到處理液貯存部，因此將處理液貯存部內(nèi)的處理液的液面維持在規(guī)定位置的控制比較容易。在本發(fā)明中，優(yōu)選所述工件送出部具有多個一邊圍繞在上下方向延伸的中心軸線旋轉(zhuǎn)一邊使所述片狀工件送出的豎放的送出輥，在所述片狀工件的移動路徑的下游側(cè)，設(shè)有具有多個一邊圍繞在上下方向延伸的中心軸線旋轉(zhuǎn)一邊卷取所述片狀工件的豎放的卷取輥的工件卷取部。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠有效地進行在將寬度方向朝向上下方向的狀態(tài)下的片狀工件的送出和片狀工件的卷取。在本發(fā)明中，可以采用在所述處理液貯存部，配置有在與所述片狀工件的移動方向交叉的方向相對的3個以上的電極，使所述片狀工件一個一個地通過所述3個以上的電極中的彼此相對的電極之間來實施電解處理的結(jié)構(gòu)。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，能夠?qū)ζ瑺罟ぜM行電解處理。該情況下，優(yōu)選在所述3個以上的電極中的配置于兩端的電極之間施加交流電流，對所述多個片狀工件各自的兩面進行交流電解。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，能夠簡單地進行對電極的配線等。在本發(fā)明中，也可以采用對所述3個以上的電極中的將所述片狀工件夾于其間地相對的2個電極施加交流電流，對所述多個片狀工件各自的兩面進行電流電解的結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明中，也可以采用在所述電極和所述片狀工件之間施加直流電流，對所述多個片狀工件各自的兩面進行直流電解的結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明中，優(yōu)選沿著所述片狀工件的移動路徑設(shè)置有多個所述處理液貯存部， 在所述多個處理液貯存部中的一部分的處理液貯存部對所述多個片狀工件的每一個進行交流電解，在另一部分的處理液貯存部對所述多個片狀工件的每一個進行直流電解。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，可以通過一臺片狀工件連續(xù)處理裝置連續(xù)地進行對片狀工件交流電解和直流電解。本發(fā)明應(yīng)用于所述片狀工件為鋁電解電容器用的鋁箔的情況時是特別有效的。該情況下，例如，作為對片狀工件的電解，進行蝕刻處理或化成處理。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，能夠防止連續(xù)蝕刻時在通過輥折返的部分產(chǎn)生的無電解蝕刻狀態(tài)，所以能夠提高蝕刻倍率。另外， 能夠防止連續(xù)化成時在通過輥折返的部分的化成膜(陽極氧化膜)上產(chǎn)生裂紋。發(fā)明效果本發(fā)明的片狀工件連續(xù)處理裝置和片狀工件連續(xù)處理方法中，將多個長條的片狀工件在使寬度方向朝向上下方向而相互并列的狀態(tài)下連續(xù)地送出，并保持該狀態(tài)使其在處理液中連續(xù)地通過。因此，即使在片狀工件切斷的情況下，使片狀工件在處理液中再次通過也不需要大量時間。另外，由于片狀工件的寬度方向朝向上下方向，因此出入處理液中不需要通過輥等若干次折返。因此，能夠?qū)⑵瑺罟ぜ恼鄯荡螖?shù)抑制在最小限度，因此能夠抑制因片狀工件的折返而造成的質(zhì)量下降。另外，本發(fā)明中由于是同時處理多個片狀工件，因此即使是將寬度方向朝向上下方向移動片狀工件的結(jié)構(gòu)，生產(chǎn)性也良好。


圖I是示意性地表示本發(fā)明的鋁箔連續(xù)處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖2是表示本發(fā)明的鋁箔連續(xù)處理裝置的蝕刻處理部等的結(jié)構(gòu)的說明圖3是示意性地放大表示設(shè)于本發(fā)明的鋁箔連續(xù)處理裝置的洗凈處理部的洗凈液貯存部的一部分的立體圖4是表示本發(fā)明的鋁箔連續(xù)處理裝置的化成處理部等的結(jié)構(gòu)的說明圖。
符號說明
20工件送出部
30蝕刻處理部
33電極(蝕刻用電極)
35蝕刻液貯存部(處理液貯存部)
36蝕刻液供給裝置(處理液供給裝置)
37蝕刻液回收裝置(處理液回收裝置)
39蝕刻液回流路徑(處理液回流路徑)
40洗凈處理部
45洗凈液貯存部(處理液貯存部)
46洗凈液供給裝置(處理液供給裝置)
47洗凈液回收裝置(處理液回收裝置)
49洗凈液回流路徑(處理液回流路徑)
50化成處理部
53電極(化成用電極)
55化成液貯存部
56化成液供給裝置(處理液供給裝置)
57化成液回收裝置(處理液回收裝置)
59化成液回流路徑(處理液回流路徑)
70工件卷取部
100鋁箔連續(xù)處理裝置(片狀工件連續(xù)處理裝置)
351s、451s、551s 入側(cè)縫隙
351、451、551入側(cè)壁部分
352s、452s、552s 出側(cè)縫隙
352、452、552出側(cè)壁部分
F鋁箔(片狀工件)
Q卷取輥
R送出輥
L3蝕刻液(處理液)
L4洗凈液(處理液)
L5化成液(處理液)具體實施方式
下面，參照附圖對應(yīng)用了本發(fā)明的片狀工件連續(xù)處理裝置和片狀工件連續(xù)處理方
法進行說明。另外，在下面的說明中，作為片狀工件例示了對鋁電解電容器用的鋁箔進行各種處理的情況。另外，在下面參照的附圖中，相互交叉的三個方向(X方向、Y方向和Z方向)中，設(shè)招箔的寬度方向即上下方向為Z方向、從送出部送出招箔的方向為X方向，與從送出部送出鋁箔時的鋁箔的寬度方向垂直的方向為Y方向進行說明。另外，鋁箔的移動方向用箭頭D表示。(整體結(jié)構(gòu))圖I是示意性地表示鋁箔連續(xù)處理裝置的整體結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖I表示的鋁箔連續(xù)處理裝置100是對鋁電解電容器用的鋁箔F(F1、F2、F3)連續(xù)地進行蝕刻處理、洗凈處理和化成處理的片狀工件連續(xù)處理裝置。在鋁箔連續(xù)處理裝置100中，沿著鋁箔F(F1、F2、F3) 的輸送路徑從上游側(cè)向下游側(cè)依次設(shè)有工件送出部20、蝕刻處理部30、洗凈處理部40、化成處理部50、干燥部60和工件卷取部70。在蝕刻處理部30與洗凈處理部40之間，配置有使鋁箔F的輸送方向成直角彎曲向Y方向的導(dǎo)向輥95。在洗凈處理部40與化成處理部50 之間，配置有使鋁箔F的輸送方向成直角彎曲并向鋁箔F1、F2、F3進行供電的供電輥69。在鋁箔連續(xù)處理裝置100中，鋁箔F(F1、F2、F3)保持長條狀(帶狀)的狀態(tài)被連續(xù)處理，且同時處理多張鋁箔F(Fl、F2、F3)。本例中同時處理3張鋁箔FI、F2、F3，但鋁箔
7F的張數(shù)也可以為2張或4張以上。(鋁箔送出部20)圖2 (a)是示意性地表示鋁箔連續(xù)處理裝置100的蝕刻處理部30的電極等的配置的俯視圖，圖2(b)是示意性地放大表示設(shè)于蝕刻處理部30的蝕刻液貯存部的一部分的立體圖。參照圖I和圖2進行說明時，工件送出部20以豎放姿勢配置有一邊如箭頭Ra所示圍繞在上下方向延伸的中心軸線La旋轉(zhuǎn)一邊分別送出鋁箔F (Fl、F2、F3)的3個送出輥 R(R1、R2、R3)。送出輥R(R1、R2、R3)各自在使鋁箔F(F1、F2、F3)的寬度方向朝向上下方向(Z方向)而相互并列的狀態(tài)下沿長度方向?qū)X箔F(F1、F2、F3)連續(xù)地送出。另外，自送出輥R(R1、R2、R3)的鋁箔F(F1、F2、F3)的送出，例如通過從設(shè)于工件送出部20后段的驅(qū)動輥11或設(shè)于比驅(qū)動輥11更靠后段的驅(qū)動輥(未圖示)等的驅(qū)動裝置施加在鋁箔F(F1、 F2、F3)上的力等來進行。(蝕刻處理部30)在蝕刻處理部30中，沿著鋁箔F (Fl、F2、F3)的輸送路徑從上游側(cè)向下游側(cè)依次設(shè)有第一蝕刻處理部311、蝕刻液洗凈處理部312和第二蝕刻處理部313。第一蝕刻處理部 311和蝕刻液洗凈處理部312具有大致相同的結(jié)構(gòu)，蝕刻液洗凈處理部312和后述的洗凈處理部40具有大致相同的結(jié)構(gòu)。蝕刻處理部30是在含有鹽酸之外的添加劑的蝕刻液L3中對未蝕刻的鋁箔F (Fl、 F2、F3)進行交流蝕刻的區(qū)域。因此，在第一蝕刻處理部311和第二蝕刻液洗凈處理部312 的任一個中都設(shè)有使多個鋁箔F(F1、F2、F3)在以使各自的寬度方向朝向上下方向(Z方向) 的方式相互并列的狀態(tài)下連續(xù)通過的蝕刻液貯存部35。蝕刻液貯存部35中貯存有蝕刻液 L3。如圖2所示，蝕刻液貯存部35包括在鋁箔F(F1、F2、F3)的移動方向的上游側(cè)具有使鋁箔F(F1、F2、F3)分別通過的3條入側(cè)縫隙351s的入側(cè)壁部分351。另外，蝕刻液貯存部35包括在鋁箔F (Fl、F2、F3)的移動方向的下游側(cè)具有使鋁箔F (Fl、F2、F3)分別通過的 3條出側(cè)縫隙352s的出側(cè)壁部分352。此外，蝕刻液貯存部35包括在鋁箔F(F1、F2、F3)的厚度方向(Y方向)的兩側(cè)相對的一對側(cè)壁部分353、和位于鋁箔F(F1、F2、F3)的下方的底壁部分355。側(cè)壁部分353和底壁部分355由例如由FRP等構(gòu)成的抗腐蝕性板材構(gòu)成。入側(cè)壁部分351的入側(cè)縫隙351s以外的部分利用由FRP等構(gòu)成的抗腐蝕性板材 35Ip堵住。出側(cè)壁部分352和入側(cè)壁部分351 —樣，除了出側(cè)縫隙352s以外的部分也利用由FRP等構(gòu)成的抗腐蝕性板材352p堵住。在蝕刻液貯存部35中，難以完全阻止蝕刻液L3從入側(cè)縫隙351s、出側(cè)縫隙352s 漏出。因此，在蝕刻液貯存部35附設(shè)有供給蝕刻液L3的蝕刻液供給裝置36、回收從蝕刻液貯存部35漏出的蝕刻液L3的蝕刻液回收裝置37、和使由蝕刻液回收裝置37回收的蝕刻液L3通過泵391回流到蝕刻液貯存部35的蝕刻液回流路徑39 (處理液回流路徑)。蝕刻液供給裝置36具有預(yù)先貯存已調(diào)配好的蝕刻液L3的容器361和泵362。蝕刻液回流路徑 39也可以采用使由蝕刻液回收裝置37回收的蝕刻液L3經(jīng)過調(diào)整后，經(jīng)由蝕刻液供給裝置 36回流到蝕刻液貯存部35的結(jié)構(gòu)。在第一蝕刻處理部311和第二蝕刻處理部312任一個中，都在蝕刻液貯存部35，配置有在與鋁箔F(F1、F2、F3)的移動方向(X方向)交叉的方向(本例中，正交的Y方向)相對的多個電極33 (蝕刻用電極)，鋁箔F(F1、F2、F3) —個一個地從多個電極33 (331 334) 中的彼此相對的電極之間通過。在本例中，作為電極33配置有4個電極331、332、333、334， 位于Y方向的兩端的電極331、334被保持于蝕刻液貯存部35的一對側(cè)壁部分353。從而，3 張鋁箔Fl F3中的鋁箔Fl從電極331、332之間通過，鋁箔F2從電極332、333之間通過， 鋁箔F3從電極333、334之間通過。電極33(331 334)由碳精棒等在蝕刻時不被電腐蝕的材質(zhì)構(gòu)成。另外，4個電極33中，在最兩側(cè)的電極331、334上施加交流電，在內(nèi)側(cè)的另外的電極332、333上不進行供電，電極332、333處于電浮動狀態(tài)。進而，在電極331、334施加正負的波形對稱的交流電流。其結(jié)果，3張鋁箔的F (Fl F3)任何一個的兩面都被交流電解(交流蝕刻)，其實質(zhì)性的面積被擴大。根據(jù)這樣的結(jié)構(gòu)，也可以不向4個電極331 334中的配置于兩側(cè)的電極 331、334以外的電極332、333和鋁箔F(F1 F3)進行供電。因此，能夠簡化裝置結(jié)構(gòu)。另外，因為只對一部分電極331、334連接配線即可，所以在電極33(331 334)的更換等維護時，不用花費太多時間。進而，因為只對一部分電極331、334連接配線即可，因此不會產(chǎn)生對于各電極33(331 334)的配線電阻等的平衡崩潰的情況。因此，使對于鋁箔F(Fl F3)的蝕刻電流密度穩(wěn)定。(洗凈處理部40)圖3是示意性地放大表示設(shè)于洗凈處理部40的洗凈液貯存部的一部分的立體圖。參照圖I和圖3進行說明時，在利用噴淋器91洗凈在蝕刻處理部30被蝕刻后的鋁箔 F(Fl F3)即鋁箔Fe后，再供給向洗凈處理部40。在洗凈處理部40設(shè)有多個洗凈處理部411 417、預(yù)備干燥部42、和熱處理部43。多個洗凈處理部411 417中，洗凈處理部 411,417是使鋁箔F(F1 F3)在純水中通過的純水洗凈處理部，洗凈處理部413、415是使鋁箔F在酸或堿等化學(xué)性洗凈液中通過的化學(xué)性洗凈處理部，洗凈處理部412、416是基于噴淋器的純水洗凈處理部。洗凈處理部411、413、415、417的基本構(gòu)造相同，如圖3所示，設(shè)有使多個鋁箔 F(F1 F3)在使它們的寬度方向朝向上下方向(Z方向)而相互并列的狀態(tài)下連續(xù)地通過的洗凈液貯存部45。洗凈液貯存部45中貯存有洗凈液L4。洗凈液貯存部45包括在鋁箔F (Fl F3)的移動方向的上游側(cè)具有使鋁箔F (Fl F3)通過的入側(cè)縫隙451s的入側(cè)壁部分451、在鋁箔F (Fl F3)的移動方向的下游側(cè)具有使鋁箔F(Fl F3)通過的出側(cè)縫隙452s的出側(cè)壁部分452、在鋁箔F(Fl F3)的厚度方向(Y方向)兩側(cè)相對的一對側(cè)壁部分453和位于鋁箔F(Fl F3)的下方的底壁部分455。 側(cè)壁部分453和底壁部分455例如由FRP等的抗腐蝕性板材構(gòu)成。入側(cè)壁部分451除了入側(cè)縫隙451s以外的部分，利用由FRP等構(gòu)成的抗腐蝕性板材45Ip堵住。出側(cè)壁部分452和入側(cè)壁部分451 —樣，除了出側(cè)縫隙452s以外的部分，利用由FRP等構(gòu)成的抗腐蝕性板材452p堵住。在洗凈液貯存部45難以完全阻止洗凈液L4的滲漏。因此，在洗凈液貯存部45附設(shè)有向該洗凈液貯存部45供給洗凈液L4的洗凈液供給裝置46、回收從洗凈液貯存部45漏出的洗凈液L4的洗凈液回收裝置47、和使由洗凈液回收裝置47回收的洗凈液L4通過泵 491回流到洗凈液貯存部45的洗凈液回流路徑49 (處理液回流路徑)。洗凈液供給裝置46具有預(yù)先貯存洗凈液L4的容器461和泵462。也可以按照使由洗凈液回收裝置47回收的洗凈液L4經(jīng)由洗凈液供給裝置46回流到洗凈液貯存部45的方式構(gòu)成洗凈液回流路徑49。(化成處理部50)圖4(a)是示意性地表示化成處理部50的電極等配置的俯視圖，圖4(b)是示意性地放大表示設(shè)于化成處理部50的化成液貯存部的一部分的立體圖。如圖I和圖4所示，在化成處理部50，沿著鋁箔F(F1 F3)的輸送路徑從上游側(cè)朝向下游側(cè)設(shè)有4個化成處理部511、512、513、514，在化成處理部514的下游側(cè)設(shè)有干燥部60。在化成處理部50中，在化成處理部511、512之間依次設(shè)有純水洗凈處理部521、液中去極化(7*° 7 -tf - V 3 > )部522和純水洗凈處理部523，在化成處理部512、513之間依次設(shè)置有純水洗凈處理部524、液中去極化部525和純水洗凈處理部526。在化成處理部513、514之間依次設(shè)有純水洗凈處理部527和熱處理部54，在化成處理部514與干燥部 60之間依次設(shè)有純水洗凈處理部528、529。純水洗凈處理部521、523、524、526、528、529以及液中去極化部522、525的結(jié)構(gòu)與洗凈處理部40 —樣，為圖3表示的結(jié)構(gòu)。4個化成處理部511、512、513、514為大致相同的結(jié)構(gòu)。化成處理部50(化成處理部511、512、513、514)是在己二酸銨水溶液、磷酸銨水溶液、硼酸銨水溶液等的化成液L5中對在蝕刻處理部30中進行了蝕刻的鋁箔F (鋁箔Fe)進行化成(直流電解/陽極氧化)的區(qū)域。在化成處理部50設(shè)有使多個鋁箔F(F1 F3)在使它們的寬度方向朝向上下方向(Z方向)而相互并列的狀態(tài)下連續(xù)通過的化成液貯存部 55，化成液貯存部55中貯存有蝕刻液L5。化成液貯存部55包括在鋁箔F(F1 F3)的移動方向的上游側(cè)具有使鋁箔 F(Fl F3)通過的入側(cè)縫隙551s的入側(cè)壁部分551、在鋁箔F(F1 F3)的移動方向的下游側(cè)具有使鋁箔F(F1 F3)通過的出側(cè)縫隙552s的出側(cè)壁部分552、在鋁箔F(F1 F3) 的厚度方向(Y方向)兩側(cè)相對的一對側(cè)壁部分553、和位于鋁箔F(F1 F3)的下方的底壁部分555。側(cè)壁部分553和底壁部分555由例如不銹鋼等的抗腐蝕性板材構(gòu)成。入側(cè)壁部分551除了入側(cè)縫隙551s以外的部分利用由FRP或不銹鋼等構(gòu)成的抗腐蝕性板材551p堵住。出側(cè)壁部分552與入側(cè)壁部分551 —樣，除了出側(cè)縫隙552s以外的部分也利用由FRP或不銹鋼等構(gòu)成的抗腐蝕性板材552p堵住。在化成液貯存部55難以完全阻止化成液L5的滲漏。因此，在化成液貯存部55附設(shè)有向該化成液貯存部55供給化成液L5的化成液供給裝置56、回收從化成液貯存部55漏出的化成液L5的化成液回收裝置57、和使由化成液回收裝置57回收的化成液L5通過泵 591回流到化成液貯存部55的化成液回流路徑59 (處理液回流路徑)。化成液供給裝置56 具有預(yù)先貯存有已調(diào)配好的化成液L5的容器561和泵562。也可以按照使由化成液回收裝置57回收的化成液L5經(jīng)由化成液供給裝置56回流到化成液貯存部55的方式構(gòu)成化成液回流路徑59。在化成處理部511、512、513、514任一個中，都在化成液貯存部55，配置有在與鋁箔F(F1 F3)的移動方向(X方向)交叉的方向(本例中，正交的Y方向)相對的多個電極53，鋁箔F—個一個地從多個電極53中的彼此相對的電極53之間通過。本例中，作為電極53具有4個電極531、532、533、534，位于最兩側(cè)的電極531、534被保持在化成液貯存部55的一對側(cè)壁部分553上。因此，3張鋁箔F(Fl F3)中的鋁箔Fl從電極531、532之間通過，鋁箔F2從電極532、533之間通過，鋁箔F3從電極533、534之間通過。鋁箔F(Fl F3)與電極53 (電極531、532、533、534)相比被設(shè)為高電位。具體而言，采用利用供電輥69對鋁箔F(F1 F3)施加接地電壓、對電極53 (電極531、532、533、 534)施加負電位的結(jié)構(gòu)。或者，采用利用供電輥69對鋁箔F(F1 F3)施加正電壓、對電極53 (電極531、532、533、534)施加接地電位的結(jié)構(gòu)。因此，3張鋁箔F的任何一個的兩面都被直流電解(陽極氧化)而成為化成箔Ff，在這樣的化成箔Ff的兩面上形成有電介質(zhì)層 (氧化鋁)。(卷取部70)參照圖I和圖4(b)說明時，卷取部70配置有一邊如箭頭Qa所示以在上下方向延伸的中心軸線Lb為中心旋轉(zhuǎn)一邊卷取鋁箔F(F1 F3)的3個卷取輥Q(Q1、Q2、Q3)。卷取輥Ql、Q2、Q3和送出輥Rl、R2、R3具有一對一的關(guān)系，卷取輥Ql、Q2、Q3分別卷取在將它們的寬度方向朝向上下方向(Z方向)而相互并列的狀態(tài)下移動的鋁箔F(F1、F2、F3)。具體而言，卷取輥Ql卷取從送出輥Rl送出的鋁箔Fl，卷取輥Q2卷取從送出輥R2送出的鋁箔 F2，卷取輥Q3卷取從送出輥R3送出的鋁箔F3。(處理動作)在鋁箔連續(xù)處理裝置100中，將多個長條形的鋁箔F (Fl F3)作為未蝕刻箔在使它們的寬度方向朝向上下方向(Z方向)而相互并列的狀態(tài)下從工件送出部20沿長度方向連續(xù)送出。另外，使已送出的多個鋁箔F(F1 F3)保持其寬度方向朝向上下方向(Z方向) 而相互并列的狀態(tài)一邊從蝕刻液L3、洗凈液L4和化成液L5中連續(xù)地通過，一邊進行蝕刻處理、洗凈處理和化成處理。其結(jié)果，在卷取部70，保持其寬度方向朝向上下方向(Z方向) 的狀態(tài)將3個鋁箔F(Fl F3)分別作為化成箔Ff而卷取。(作用效果)如以上說明，在鋁箔連續(xù)處理裝置100中，不會通過以水平姿勢配置的輥將鋁箔F 在上下方向若干次折返。因此，即使鋁箔F切斷的情況下，使鋁箔F再次在處理液中通過也不需要太多的時間。另外，鋁箔F由于使其寬度方向朝向上下方向，因此在出入處理液時不需要通過輥等在上下方向折返，可以將鋁箔F的折返次數(shù)抑制在最小限度。因此可以抑制鋁箔F的因折返而造成的質(zhì)量下降。例如，在蝕刻處理部30進行連續(xù)蝕刻時，可以防止在基于輥的折返部分產(chǎn)生的無電解蝕刻狀態(tài)，因此可以提高蝕刻倍率。另外，在化成處理部50進行連續(xù)化成時，可以防止在基于輥的折返部分，在化成膜(陽極氧化膜)上產(chǎn)生裂紋。另外，由于鋁箔F的折返次數(shù)較少，因此，即使作為鋁箔F使用150 ii m 200 u m厚度的鋁箔的情況下，也不會對鋁箔F施加過大的力。因此，即使是150 ii m 200 U m程度的厚的鋁箔F的情況，也不會產(chǎn)生箔斷裂。在此，與通過以水平姿勢配置的輥而使鋁箔F在上下方向若干次折返的情況相比較，同時浸潰于處理液(蝕刻液L3、洗凈液L4、化成液L5)內(nèi)的鋁箔F的長度變短。但是， 因為同時處理多個鋁箔F，所以可以避免生產(chǎn)力的顯著下降。另外，在處理液貯存部(蝕刻液貯存部35、洗凈液貯存部45、化成液貯存部55) 中，鋁箔F從入側(cè)縫隙(入側(cè)縫隙351s、451s、551s)進入，從出側(cè)縫隙(出側(cè)縫隙352s、452s,552s)出來。因此，在使寬度方向朝向上下方向地使鋁箔F移動并進行處理時，處理液從鋁箔F進入處理液貯存部的部位和鋁箔F離開處理液貯存部的部位產(chǎn)生滲漏。但是，因為鋁箔F進入處理液貯存部的部位和鋁箔F離開處理液貯存部的部位是縫隙狀的，所以能夠?qū)⑻幚硪旱臐B漏抑制在較少。另外，由于設(shè)有向處理液貯存部(蝕刻液貯存部35、洗凈液貯存部45、化成液貯存部55)供給處理液的處理液供給裝置，因此能夠僅以從處理液貯存部滲漏部分的處理液的量，將處理液補充給處理液供給裝置。因此，能夠?qū)⑻幚硪旱囊好婢S持在規(guī)定位置。另外， 由于具有處理液回收裝置(蝕刻液回收裝置37、洗凈液回收裝置47、化成液回收裝置57)， 因此能夠防止處理液的浪費。另外，因為具有使由處理液回收裝置回收的處理液回流到處理液貯存部的處理液回流路徑(蝕刻液回流路徑39、洗凈液回流路徑49、化成液回流路徑 59)，所以能夠使從處理液貯存部滲漏的處理液返回到處理液貯存部。因此，能夠?qū)⒕S持處理液的液面處于規(guī)定位置時的處理液的浪費抑制在較少。另外，送出部20具有多個一邊繞上下方向延伸的中心軸線旋轉(zhuǎn)一邊使鋁箔F送出的豎放的送出輥R，卷取部70具有多個一邊繞上下方向延伸的中心軸線旋轉(zhuǎn)一邊卷取鋁箔 F的豎放的卷取輥Q。因此，即使在將寬度方向朝向上下方向使鋁箔F移動并進行處理的情況下，也可以有效地進行鋁箔F的送出和鋁箔F的卷取。在鋁箔連續(xù)處理裝置100中，沿著鋁箔F的移動路徑設(shè)置多個處理液貯存部，在多個處理液貯存部中的一部分的處理液貯存部(蝕刻液貯存部35)，對多個鋁箔F的每一個進行交流電解，在另一部分的處理液貯存部(化成液貯存部55)，對多個鋁箔F的每一個進行直流電解。因此，可以通過一臺鋁箔連續(xù)處理裝置100進行對鋁箔F的交流電解和直流電解。[其它實施方式]在上述實施方式的鋁箔連續(xù)處理裝置100中，利用一臺進行所有的蝕刻處理、洗凈處理和化成處理。取而代之，也可以將本發(fā)明應(yīng)用于利用一臺只進行蝕刻處理和洗凈處理的裝置(連續(xù)蝕刻裝置)，或只進行化成處理和洗凈處理的鋁箔連續(xù)處理裝置(連續(xù)化成裝置)。在上述實施方式的鋁箔連續(xù)處理裝置100中，作為交流電解進行交流蝕刻，作為直流電解進行化成(陽極氧化)，但本發(fā)明也可以應(yīng)用與作為交流電解進行交流蝕刻、作為直流電解進行直流蝕刻的鋁箔連續(xù)處理裝置(連續(xù)蝕刻裝置)。在上述實施方式的鋁箔連續(xù)處理裝置100中，當(dāng)進行交流蝕刻時，只對電極33(電極331、332、333、334)中的最兩側(cè)的電極331、334施加交流，但也可以向電極331、332、333、 334供給交流電流，將鋁箔F設(shè)定成接地電位。或者也可以在電極33 (電極331、332、333、 334)和鋁箔F之間施加交流。在上述實施方式的鋁箔連續(xù)處理裝置100中，在蝕刻處理部30和化成處理部50 的中途都沒有基于輥的彎曲部分，但如果是鋁箔F的質(zhì)量不會產(chǎn)生大幅下降的程度，則也可以在蝕刻處理部30和化成處理部50的中途設(shè)置基于輥的彎曲部分。具體而言，如果基于輥的彎曲部分的數(shù)量為3次以下，則可以將鋁箔F的質(zhì)量降低抑制在較小。上述實施方式的鋁箔連續(xù)處理裝置100是在對鋁箔F的連續(xù)處理裝置中應(yīng)用了本發(fā)明的裝置。取而代之，也可以將本發(fā)明應(yīng)用于作為片狀工件，對鋁箔之外的金屬箔、塑料制片材等實施電解或電解以外的處理的連續(xù)處理裝置等中。
權(quán)利要求
1.一種片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于，包括工件送出部，其將多個長條的片狀工件在以其寬度方向朝向上下方向的姿勢而相互并列的狀態(tài)下，沿它們的長度方向連續(xù)送出；和處理液貯存部，其使從所述工件送出部送出的所述多個片狀工件，在以所述寬度方向朝向上下方向的姿勢而相互并列的狀態(tài)下，連續(xù)通過處理液內(nèi)。
2.如權(quán)利要求I所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于所述處理液貯存部包括在所述片狀工件的移動方向的上游側(cè)具有使所述片狀工件通過的入側(cè)縫隙的入側(cè)壁部分；和在所述片狀工件的所述移動方向的下游側(cè)具有使所述片狀工件通過的出側(cè)縫隙的出側(cè)壁部分。
3.如權(quán)利要求2所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于，具有向所述處理液貯存部供給所述處理液的處理液供給裝置；和回收從所述處理液貯存部的所述入側(cè)縫隙和所述出側(cè)縫隙漏出的所述處理液的處理液回收裝置。
4.如權(quán)利要求3所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于，具有使由所述處理液回收裝置回收的所述處理液回流到所述處理液貯存部的處理液回流路徑。
5.如權(quán)利要求I所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于所述工件送出部具有多個送出輥，該送出輥一邊圍繞沿所述上下方向延伸的中心軸線旋轉(zhuǎn)一邊送出所述片狀工件，在所述片狀工件的移動路徑的下游側(cè)設(shè)有工件卷取部，該工件卷取部具有多個卷取輥，該卷取輥一邊圍繞沿所述上下方向延伸的中心軸線旋轉(zhuǎn)一邊卷取所述片狀工件。
6.如權(quán)利要求I所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于在所述處理液貯存部具有在與所述片狀工件的移動方向交叉的交叉方向以規(guī)定的間隔配置的至少3個電極，所述片狀工件一個一個地通過所述電極中的彼此相對的電極之間而被實施電解處理。
7.如權(quán)利要求6所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于在所述電極中的配置于所述交叉方向的兩端的一對兩端電極之間施加交流電流，對所述多個片狀工件各自的兩面進行交流電解。
8.如權(quán)利要求6所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于在所述電極中的將所述片狀工件夾于其間的相對的2個電極施加交流電流，對所述多個片狀工件各自的兩面進行交流電解。
9.如權(quán)利要求6所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于在所述電極與所述片狀工件之間施加直流電流，對所述多個片狀工件各自的兩面進行直流電解。
10.如權(quán)利要求6所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于沿著所述片狀工件的移動路徑設(shè)有多個所述處理液貯存部，在所述多個處理液貯存部中的一部分的處理液貯存部，對所述多個片狀工件的每一個進行交流電解，在另一部分的處理液貯存部，對所述多個片狀工件的每一個進行直流電解。
11.如權(quán)利要求6 10中任一項所述的片狀工件連續(xù)處理裝置，其特征在于所述片狀工件是鋁電解電容器用的鋁箔。
12.—種片狀工件連續(xù)處理方法，其特征在于將多個長條的片狀工件，在以其寬度方向朝向上下方向的姿勢相互并列的狀態(tài)下，沿其長度方向連續(xù)送出，使已送出的所述多個片狀工件在以所述寬度方向朝向所述上下方向的姿勢相互并列的狀態(tài)下，連續(xù)地通過貯存于處理液貯存部的處理液中。
全文摘要
本發(fā)明提供一種片狀工件連續(xù)處理裝置，能夠在連續(xù)處理中容易地進行切斷的片狀工件的復(fù)原，并且能夠在將折返次數(shù)抑制在最小限度的狀態(tài)下進行片狀工件的連續(xù)處理。在本發(fā)明的鋁箔連續(xù)處理裝置(100)中，將多個長條的鋁箔(F)在以其寬度方向朝向上下方向(Z方向)的姿勢而相互并列的狀態(tài)下沿其長方向連續(xù)送出。使已送出的多個鋁箔(F)在以寬度方向朝向上下方向(Z方向)而相互并列的狀態(tài)下連續(xù)地從貯存于蝕刻液貯存部(35)的蝕刻液L(3)中通過。鋁箔F相對于蝕刻液貯存部(35)從入側(cè)縫隙(351s)進入從出側(cè)縫隙(352s)出來。
文檔編號H01G9/055GK102592833SQ20121000898
公開日2012年7月18日 申請日期2012年1月12日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月13日
發(fā)明者片野雅彥 申請人:日本輕金屬株式會社