1.一種高透高霧光擴散膜的制備方法，其特征在于：按以下步驟進行,
⑴、制作光擴散母料：將粒徑在1.0um和2.5um兩種有機硅光擴散劑磨至粒徑小于0.1um的粉體，并與透明聚酯按質量份數比以1：1：2，在共混造粒機中熔融、共混、造粒，制得特性粘度在0.60～0.75dL/g的光擴散母料；
⑵、制作表層原料：按質量百分比，將制得5～25％的光擴散母料與75％～95％的透明聚酯在高速分散機中均勻混合，制得表層原料；
⑶、制作光擴散膜；按質量百分比，將5～25％的表層原料送入第一原料倉，將75～95％的透明聚酯作為芯層原料送入第二原料倉，將表層原料及芯層原料分別送入相應擠出系統中進行熔融、擠出，并在三層共擠模頭出口處匯合形成兩表層和夾在兩表層之間的芯層，然后在急冷輥上鑄片成厚片，對厚片進行縱向拉伸、橫向拉伸及熱定型，再經過冷卻、收卷、分切后制得光擴散膜。
2.根據權利要求1所述的高透高霧光擴散膜的制備方法，其特征在于：所述光擴散膜的總厚度在0.05～0.25mm之間。
3.根據權利要求1所述的高透高霧光擴散膜的制備方法，其特征在于：所述厚片的縱向拉伸的溫度在70～80℃、拉伸比為3～3.4，橫向拉伸的溫度在110～130℃、拉伸比為2.5～4.0，且熱定型溫度在220～240℃。
4.根據權利要求1所述的高透高霧光擴散膜的制備方法，其特征在于：在第二步驟中按質量百分比，將制得的10～15％光擴散母料與85％～90％的透明聚酯在高速分散機中均勻混合制得表層原料。