技術特征：

技術總結
本發(fā)明提供一種相移掩模坯板，抑制制作相移掩模時的蝕刻液的消耗量，且用于得到精細且高精度的圖案和不產(chǎn)生凹缺陷的相移掩模。相移掩模坯板(10)在透明基板(11)上將相移膜(12)、蝕刻阻止膜(13)、遮光膜(14)依次形成，相移膜(12)由含有鉻和選自氧、氮、碳、氟中的至少一種的鉻化合物構成，蝕刻阻止膜(13)由含有金屬和硅的金屬硅化物構成，相移膜(12)和遮光膜(14)是能夠用同一蝕刻液A進行蝕刻的材料，且調(diào)整為蝕刻液A對遮光膜(14)的濕法蝕刻速度比蝕刻液A對相移膜(12)的濕法蝕刻速度更快，蝕刻阻止膜(13)是對于遮光膜(14)的蝕刻液A具有耐蝕刻性的材料，且調(diào)整蝕刻阻止膜(13)的膜厚、材料、組成比，以使蝕刻阻止膜(13)被能夠蝕刻蝕刻阻止膜(13)的蝕刻液B剝離為止所需的時間成為15分鐘以下。

技術研發(fā)人員：牛田正男;坪井誠治
受保護的技術使用者：HOYA株式會社
技術研發(fā)日：2017.03.22
技術公布日：2017.10.03