本實用新型涉及有機發光二極管顯示領域，更具體的說，涉及一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板。

背景技術：
由于有機電致發光二極管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)同時具備自發光、不需背光源、對比度高、厚度薄、視角廣、反應速度快、可用于撓曲性面板、使用溫度范圍廣、構造及制程較簡單等優異之特性，被認為是下一代的平面顯示器新興應用技術。OLED生產過程中最重要的一環節是將有機層按照驅動矩陣的要求敷涂到基板上，形成關鍵的發光顯示單元。OLED是一種固體材料，高精度涂覆技術的發展是制約OLED產品化的關鍵。目前完成這一工作，主要采用真空沉積或真空熱蒸發(VTE)的方法，其是將位于真空腔體內的有機物分子輕微加熱(蒸發)，使得這些分子以薄膜的形式凝聚在溫度較低的基板上。在這一過程中需要與OLED發光顯示單元精度相適應的高精密掩模板作為媒介。現有技術中蒸鍍用掩模板的由于受到材料的限制，如圖2所示，其厚度h(一般h大于60μm)左右，而蒸鍍的有機材料膜厚只在100nm左右，掩模板上的蒸鍍孔的尺寸d1最小可以是10μm左右，這樣較大的高寬比(h/d1)的開口使得蒸鍍孔的側壁勢必會在蒸鍍過程中產生遮擋，影響蒸鍍層的均勻性，降低蒸鍍質量，增加了制造成本。而且若制作大尺寸掩模板，金屬制造的掩模板會具有較大的質量，從而會導致掩模板的板面產生下垂(即板面中間會出現下凹現象)，這對精度要求較高的掩模蒸鍍過程是不利的。鑒于此，業內亟需一種能夠解決此問題的方案。

技術實現要素：
本實用新型所要解決的技術問題是提供一種提高蒸鍍質量的用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板。本實用新型的目的是通過以下技術方案來實現的：一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，所述掩模板包括底板，所述底板包括ITO面和連接面，所述底板上設有貫穿ITO面和連接面的蒸鍍孔，在所述連接面上設有至少一層掩模板層，各掩模板層設有開口，掩模板層的開口的尺寸隨著掩模板層與底板的距離擴大而擴大，所述蒸鍍孔與各掩模板層的開口相連通形成階梯形通孔，與ITO面距離最遠的掩模板層的平面為蒸鍍面，所述蒸鍍面上設有的納米層,所述蒸鍍孔的尺寸小于所述掩模板層的開口的尺寸。進一步的，所述掩模板包括蒸鍍區和定位區，所述蒸鍍孔和所述階梯形通孔設在所述蒸鍍區內，所述定位區內設有定位孔。這樣，掩模板上的蒸鍍區和定位區的區分，能夠有效的限定在掩模板上的用來蒸鍍的區域，使得蒸鍍操作非常的方便簡單，蒸鍍孔和階梯形通孔設在蒸鍍區內,很好的提高蒸鍍的效率，使得蒸鍍的時間有效的減少，從而非常好的提高了OLED顯示面板的產量,而且可以很好的減小蒸鍍面積，不需要在整個掩模板上進行蒸鍍操作，非常有效的節約蒸鍍用的有機物分子材料，大大降低了OLED顯示面板的制造成本；通過定位區內設置的定位孔可以非常方便的將掩模板固定，將掩模板的ITO面與ITO玻璃基板緊密貼緊，使得有機材料非常好的通過階梯形通孔蒸鍍到ITO玻璃基板上，同時定位孔非常穩固的對掩模板進行限位，有效的防止掩模板的位移，使得蒸鍍質量進一步的提高。進一步的，所述階梯形通孔的內壁設有所述納米層。這樣，納米層設在階梯形通孔的內壁，使得階梯形通孔的內壁更加的光滑，從而有利于蒸鍍用的有機物分子干燥后脫模；而且納米層能夠非常有效的提高階梯形通孔內壁的硬度，使得階梯形通孔的內壁與ITO面的夾角位置更加的堅固，非常的不容易變形，從而蒸鍍用的有機物分子能夠更好的定型，大大提高了掩模板的蒸鍍質量；同時納米層也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在階梯形通孔的內壁的殘留，從而大大減少階梯形通孔的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。進一步的，所述ITO面設有所述納米層。這樣，納米層設在ITO面，使得ITO面更加的光滑，從而使得ITO面可以更好的與ITO玻璃基板進行緊密的貼合，進一步的提高了掩模板的蒸鍍質量；而且ITO面設置納米層能夠進一步提高掩模板的硬度，同時使得整個掩模板的強度和韌性得到了很大的提升，從而讓掩模板更加的耐磨，更加的不容易變形，大大提高掩模板的重復使用次數，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；同時非常有效的改善掩模板的板面產生下垂，大大提高了掩模板的蒸鍍質量。進一步的，所述掩模板采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成。這樣，采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制作掩模板，可以很好的保證掩模板的強度和硬度，使得掩模板可以更好的被應用到蒸鍍操作中；而且采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成的掩模板具有一定的磁性，在后期應用過程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附設備吸附，可進一步減小掩模板的下垂量；同時不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料的價格便宜，便于大批量生產、節約生產成本及提高生產效率。進一步的，所述階梯形通孔在所述蒸鍍區上均勻設置多個，所述階梯形通孔之間設有連接部。這樣，均勻設置多個階梯形通孔在蒸鍍區上，能夠非常有效的提高蒸鍍的效率，使得OLED顯示面板的產量可以進一步的提高，均勻設置的階梯形通孔使得蒸鍍的效果更好，從而使得OLED顯示面板的使用壽命更長；連接部能夠更好的對階梯形通孔之間進行連接和加固，有效的提高掩模板在蒸鍍區的強度和韌性，使得階梯形通孔可以更加高效的進行蒸鍍工作，從而提高蒸鍍質量，使得OLED顯示面板可以更加高效的工作。進一步的，所述掩模板層采用蝕刻或電鑄或激光切割工藝制備。這樣，蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術，通過蝕刻的工藝能夠非常精準的在掩模板層上進行開孔操作，使得各掩模板層的開口非常的規則均勻，從而能更好的滿足蒸鍍的要求；電鑄是利用金屬的電解沉積原理來精確復制某些復雜或特殊形狀工件的特種加工方法，通過電鑄的工藝能夠非常方便的將掩模板層很好的電鑄在底板上，使得掩模板層與底板的結合非常的牢固，從而非常好的滿足蒸鍍的要求；激光切割是利用高功率密度激光束照射被切割材料，使材料很快被加熱至汽化溫度，蒸發形成孔洞，通過激光切割的工藝能夠非常精準的在掩模板層上進行開孔操作，而且開孔的速度快、精度高，非常方便掩模板層的批量生產制造，同時激光切割的工藝非常的清潔、安全、無污染，非常的有利于環境保護。進一步的，所述納米層為碳化鈦膜。這樣，納米層使用碳化鈦膜非常有效的對掩模板的硬度進行提高，同時掩模板強度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復使用次數，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且碳化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。進一步的，所述納米層為氮化鈦膜。這樣，納米層使用氮化鈦膜非常有效的對掩模板的硬度進行提高，同時掩模板強度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復使用次數，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。進一步的，所述納米層為氮化鉻膜。這樣，納米層使用氮化鉻非常有效的對掩模板的硬度進行提高，同時掩模板強度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高掩模板的重復使用次數，即大大的提高了金屬掩模板的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鉻也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。本實用新型由于掩模板通過底板和至少一層掩模板層制作而成，這樣可以非常方便的將底板和掩模板層做的更薄，多層掩模板層疊加可以非常好的保證掩模板的強度，如此在保證蒸鍍孔的具有較小高寬比的前提下，進一步將蒸鍍孔的寬度尺寸做的更小，從而保證了更好的蒸鍍效果，提高了有機材料的成膜率，提高了蒸鍍薄膜的均勻度，使得形成的最終掩模板能夠蒸鍍形成分辨率更高的OLED產品；而且這種通過多層掩模板層的疊加形成階梯形通孔，可以簡單有效的有效的解決蒸鍍口的內壁在蒸鍍過程中的遮擋，加工方法非常的簡單易操作，從而保證低成本生產出非常高質量的OLED顯示面板；蒸鍍面上納米層非常有效的對掩模板的硬度進行提高，非常有效的改善掩模板的板面產生下垂，同時掩模板強度和韌性的提高，讓掩模板耐磨不易變形，大大提高了掩模板的蒸鍍質量，大大提高掩模板的重復使用次數，降低了的電子組裝的成本；而且納米層也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板上的殘留，從而大大減少掩模板的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高；現在我們將掩模板的厚度降低到小于60μm，由于納米層的設置能夠非常有效的提高掩模板的硬度，因此我們可以克服現有技術中材料的限制，由于蒸鍍孔開設在弧形槽內，這樣就可以非常好的將蒸鍍孔的開口的尺寸與掩模板厚度比值減小，即背景技術中提到的高寬比，較小的高寬比與這種弧形槽內開設蒸鍍孔的設置，能夠更加有效的解決蒸鍍口的內壁在蒸鍍過程中的遮擋，從而可以非常好的滿足高質量的蒸鍍過程，大大的提高了蒸鍍的質量，使得OLED顯示面板的分辨率更高。附圖說明圖1是本實用新型實施例的掩模板的結構示意圖；圖2是本實用新型現有技術的沿圖1中A-A方向的剖面放大圖；圖3是本實用新型實施例的沿圖1中A-A方向的剖面放大圖；圖4是本實用新型實施例的沿圖1中I區域的放大示意圖。其中：1、掩模板，11、底板，111、ITO面，112、連接面，12、掩模板層，121、蒸鍍面，13、蒸鍍孔，14、納米層，15、蒸鍍區，16、定位區，161、定位孔，17、連接部，18、階梯形通孔。具體實施方式在本實用新型的描述中，需要理解的是，術語“中心”、“橫向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。此外，術語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本實用新型的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。另外，術語“包括”及其任何變形，意圖在于覆蓋不排他的包含。在本實用新型的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。下面結合附圖和較佳的實施例對本實用新型作進一步說明。如圖1至圖4所示，本實施例公開一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，掩模板1包括底板11，底板11包括ITO面111和連接面112，底板11上設有貫穿ITO面111和連接面112的蒸鍍孔13，在連接面112上設有至少一層掩模板層12，各掩模板層12設有開口，掩模板層12的開口的尺寸隨著掩模板層12與底板11的距離擴大而擴大，蒸鍍孔13與各掩模板層12的開口相連通形成階梯形通孔18，與ITO面111距離最遠的掩模板層12的平面為蒸鍍面121，蒸鍍面121上設有的納米層14,蒸鍍孔13的尺寸小于掩模板層12的開口的尺寸，示例的，如圖3所示d2>d1，掩模板1通過底板11和至少一層掩模板層12制作而成，這樣可以非常方便的將底板11和掩模板層12做的更薄，多層掩模板層12疊加可以非常好的保證掩模板1的強度，如此在保證蒸鍍孔13的具有較小高寬比的前提下，進一步將蒸鍍孔13的寬度尺寸做的更小，從而保證了更好的蒸鍍效果，提高了有機材料的成膜率，提高了蒸鍍薄膜的均勻度，使得形成的最終掩模板1能夠蒸鍍形成分辨率更高的OLED產品；而且這種通過多層掩模板層12的疊加形成階梯形通孔18，可以簡單有效的有效的解決蒸鍍口的內壁在蒸鍍過程中的遮擋，加工方法非常的簡單易操作，從而保證低成本生產出非常高質量的OLED顯示面板；蒸鍍面121上納米層14非常有效的對掩模板1的硬度進行提高，非常有效的改善掩模板1的板面產生下垂，同時掩模板1強度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高了掩模板1的蒸鍍質量，大大提高掩模板1的重復使用次數，降低了的電子組裝的成本；而且納米層14也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高；現在我們將掩模板1的厚度降低到小于60μm，掩模板1的厚度為10-60μm，作為其中的優選方案，掩模板1厚度h為10μm或20μm或30μm或40μm或50μm，由于納米層14的設置能夠非常有效的提高掩模板1的硬度，因此我們可以克服現有技術中材料的限制，由于蒸鍍孔13開設在弧形槽內，這樣就可以非常好的將蒸鍍孔13的開口的尺寸與掩模板1厚度比值減小，即背景技術中提到的高寬比，較小的高寬比與這種弧形槽內開設蒸鍍孔13的設置，能夠更加有效的解決蒸鍍口的內壁在蒸鍍過程中的遮擋，從而可以非常好的滿足高質量的蒸鍍過程，大大的提高了蒸鍍的質量，使得OLED顯示面板的分辨率更高。掩模板1包括蒸鍍區15和定位區16，掩模板1上的蒸鍍區15和定位區16的區分，能夠有效的限定在掩模板1上的用來蒸鍍的區域，使得蒸鍍操作非常的方便簡單；蒸鍍孔13和階梯形通孔18設在蒸鍍區15內，蒸鍍孔13和階梯形通孔18設在蒸鍍區15內,很好的提高蒸鍍的效率，使得蒸鍍的時間有效的減少，從而非常好的提高了OLED顯示面板的產量,而且可以很好的減小蒸鍍面積，不需要在整個掩模板1上進行蒸鍍操作，非常有效的節約蒸鍍用的有機物分子材料，大大降低了OLED顯示面板的制造成本；定位區16內設有定位孔161，通過定位區16內設置的定位孔161可以非常方便的將掩模板1固定，將掩模板1的ITO面111與ITO玻璃基板緊密貼緊，使得有機材料非常好的通過階梯形通孔18蒸鍍到ITO玻璃基板上，同時定位孔161非常穩固的對掩模板1進行限位，有效的防止掩模板1的位移，使得蒸鍍質量進一步的提高；掩模板1的形狀為四邊形，定位區16沿四邊形的掩模板1邊緣設置，這樣可以非常好的提高掩模板1的利用率，使得掩模板1的蒸鍍質量更高。階梯形通孔18的內壁設有納米層14，階梯形通孔18的內壁的表面粗糙度為0.3-0.6μm，納米層14設在階梯形通孔18的內壁，使得階梯形通孔18的內壁更加的光滑，從而有利于蒸鍍用的有機物分子干燥后脫模；而且納米層14能夠非常有效的提高階梯形通孔18內壁的硬度，使得階梯形通孔18的內壁與ITO面111的夾角位置更加的堅固，非常的不容易變形，從而蒸鍍用的有機物分子能夠更好的定型，大大提高了掩模板1的蒸鍍質量；同時納米層14也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在階梯形通孔18的內壁的殘留，從而大大減少階梯形通孔18的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。ITO面111設有納米層14，納米層14設在ITO面111，使得ITO面111更加的光滑，從而使得ITO面111可以更好的與ITO玻璃基板進行緊密的貼合，進一步的提高了掩模板1的蒸鍍質量；而且ITO面111設置納米層14能夠進一步提高掩模板1的硬度，同時使得整個掩模板1的強度和韌性得到了很大的提升，從而讓掩模板1更加的耐磨，更加的不容易變形，大大提高掩模板1的重復使用次數，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；同時非常有效的改善掩模板1的板面產生下垂，大大提高了掩模板1的蒸鍍質量。掩模板1采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成，其優選材料為具有較小熱膨脹系數的因瓦合金，使得掩模板1在蒸鍍過程中具有較好的穩定性，采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制作掩模板1，可以很好的保證掩模板1的強度和硬度，使得掩模板1可以更好的被應用到蒸鍍操作中；而且采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成的掩模板1具有一定的磁性，在后期應用過程中，可被ITO玻璃基板背后的磁性吸附設備吸附，可進一步減小掩模板1的下垂量；同時不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料的價格便宜，便于大批量生產、節約生產成本及提高生產效率。階梯形通孔18在蒸鍍區15上均勻設置多個，均勻設置多個階梯形通孔18在蒸鍍區15上，能夠非常有效的提高蒸鍍的效率，使得OLED顯示面板的產量可以進一步的提高，均勻設置的階梯形通孔18使得蒸鍍的效果更好，從而使得OLED顯示面板的使用壽命更長；階梯形通孔18之間設有連接部17，連接部17能夠更好的對階梯形通孔18之間進行連接和加固，有效的提高掩模板1在蒸鍍區15的強度和韌性，使得階梯形通孔18可以更加高效的進行蒸鍍工作，從而提高蒸鍍質量，使得OLED顯示面板可以更加高效的工作。掩模板層12采用蝕刻或電鑄或激光切割工藝制備，蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術，通過蝕刻的工藝能夠非常精準的在掩模板層12上進行開孔操作，使得各掩模板層12的開口非常的規則均勻，從而能更好的滿足蒸鍍的要求；電鑄是利用金屬的電解沉積原理來精確復制某些復雜或特殊形狀工件的特種加工方法，通過電鑄的工藝能夠非常方便的將掩模板層12很好的電鑄在底板11上，使得掩模板層12與底板11的結合非常的牢固，從而非常好的滿足蒸鍍的要求；激光切割是利用高功率密度激光束照射被切割材料，使材料很快被加熱至汽化溫度，蒸發形成孔洞，通過激光切割的工藝能夠非常精準的在掩模板層12上進行開孔操作，而且開孔的速度快、精度高，非常方便掩模板層12的批量生產制造，同時激光切割的工藝非常的清潔、安全、無污染，非常的有利于環境保護。納米層14為碳化鈦膜，納米層14使用碳化鈦膜非常有效的對掩模板1的硬度進行提高，同時掩模板1強度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復使用次數，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且碳化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。納米層14為氮化鈦膜，納米層14使用氮化鈦膜非常有效的對掩模板1的硬度進行提高，同時掩模板1強度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復使用次數，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鈦膜也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。納米層14為氮化鉻膜，納米層14使用氮化鉻非常有效的對掩模板1的硬度進行提高，同時掩模板1強度和韌性的提高，讓掩模板1耐磨不易變形，大大提高掩模板1的重復使用次數，即大大的提高了金屬掩模板1的使用壽命，降低了的電子組裝的成本；而且氮化鉻也具有一定的排斥作用，能夠有效的減少有機物分子在掩模板1上的殘留，從而大大減少掩模板1的清洗，提高了組裝生產的效率，使得OLED顯示面板制造效率進一步的提高。以上內容是結合具體的優選實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能認定本實用新型的具體實施只局限于這些說明。對于本實用新型所屬技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本實用新型的保護范圍。