技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種碳化硅硬質(zhì)膜的制備方法及玻璃，該方法以碳原子數(shù)為1～4的有機(jī)氣體為反應(yīng)氣體，以含有氬氣的氣體為工藝氣體，采用硅靶作為濺射靶材，控制反應(yīng)溫度為100℃～300℃，在襯底上磁控濺射沉積碳化硅硬質(zhì)膜。這種方法能夠制備厚度為以下的較薄的碳化硅硬質(zhì)膜，膜層厚度遠(yuǎn)小于納米級別，可明顯提升玻璃表面的硬度，改善玻璃表面抗劃傷性能，有效保護(hù)玻璃基板。

技術(shù)研發(fā)人員：何建軍;魏宇新;方鳳軍;江濤;陳多;洪蒙
受保護(hù)的技術(shù)使用者：宜昌南玻顯示器件有限公司
文檔號碼：201611104056
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.05
技術(shù)公布日：2017.03.22