本實(shí)用新型涉及一種絲架結(jié)構(gòu)，具體地說本實(shí)用新型涉及一種熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
目前， 金剛石薄膜的制備技術(shù)主要包括微波等離子體化學(xué)氣相沉積、 直流等離子體噴射化學(xué)氣相沉積、熱絲化學(xué)氣相沉積等；相對于其它兩種技術(shù)， 熱絲法可制備大面積金剛石薄膜，且綜合成本最低；熱絲架的設(shè)計是熱絲 CVD 沉積系統(tǒng)制備大面積金剛石膜的核心內(nèi)容；現(xiàn)有熱絲架結(jié)構(gòu)主要采用水平結(jié)構(gòu)，當(dāng)熱絲被迅速加熱， 從而產(chǎn)生膨脹， 長度隨之增加，且鉭絲會下垂，導(dǎo)致基片臺溫場不均勻，沉積的金剛石也不均勻。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
為了克服背景技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型公開了一種熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，通過將熱絲架設(shè)置為豎直安裝的方式，實(shí)現(xiàn)了熱絲不下垂，基片臺溫場均勻的目的。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：
一種熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，包括固定鉭絲桿A、支撐架、鉭絲、固定鉭絲桿B和絲架固定桿，在平行間隔設(shè)置的兩根豎向支撐架之間的兩端分別設(shè)有固定鉭絲桿A和固定鉭絲桿B，在固定鉭絲桿B的外側(cè)設(shè)有拉簧固定組件，多根鉭絲的一端均布在固定鉭絲桿A上，多根鉭絲的另一端分別穿過固定鉭絲桿B后與拉簧固定組件上設(shè)置的多根耐高溫拉簧固定連接。
所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，所述拉簧固定組件設(shè)置為U型架，所述U型架的兩側(cè)壁分別固定在固定鉭絲桿B的兩側(cè)面上，多根耐高溫拉簧的一端分別與U型架的橫板固定連接。
所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，在固定鉭絲桿B的端部設(shè)有電極固定孔。
所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，所述多根鉭絲的長度、直徑均相同。
所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，所述鉭絲與耐高溫拉簧的數(shù)量相同。
由于采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型具有如下優(yōu)越性：
本實(shí)用新型所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，通過豎直設(shè)置鉭絲3，鉭絲3受到重力的作用，避免了傳統(tǒng)的水平結(jié)構(gòu)導(dǎo)致鉭絲受熱變形后下垂的弊端，本實(shí)用新型由于鉭絲不下垂，基片臺溫場均勻，因此能夠得到均勻性很好的金剛石膜。
【附圖說明】
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
在圖中：1、固定鉭絲桿A；2、支撐架；3、鉭絲；4、絲架固定桿；5、固定鉭絲桿B；6、耐高溫拉簧；7、拉簧固定組件；8、電極固定孔。
【具體實(shí)施方式】
通過下面的實(shí)施例可以更詳細(xì)的解釋本實(shí)用新型，本實(shí)用新型并不局限于下面的實(shí)施例；
結(jié)合附圖1所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，包括固定鉭絲桿A1、支撐架2、鉭絲3、固定鉭絲桿B5和絲架固定桿4，在平行間隔設(shè)置的兩根豎向支撐架2之間的兩端分別設(shè)有固定鉭絲桿A1和固定鉭絲桿B5，在固定鉭絲桿B5的外側(cè)設(shè)有拉簧固定組件7，多根鉭絲3的一端均布在固定鉭絲桿A1上，多根鉭絲3的另一端分別穿過固定鉭絲桿B5后與拉簧固定組件7上設(shè)置的多根耐高溫拉簧6固定連接。
所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，所述拉簧固定組件7設(shè)置為U型架，所述U型架的兩側(cè)壁分別固定在固定鉭絲桿B5的兩側(cè)面上，多根耐高溫拉簧6的一端分別與U型架的橫板固定連接。
所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，在固定鉭絲桿B5的端部設(shè)有電極固定孔8。
所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，所述多根鉭絲3的長度、直徑均相同。
所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，所述鉭絲3與耐高溫拉簧6的數(shù)量相同。
實(shí)施本實(shí)用新型所述的熱絲 CVD沉積系統(tǒng)的絲架結(jié)構(gòu)，在使用時，先將鉭絲固定桿A1、支撐架2、絲架固定桿4、固定鉭絲桿5通過電極固定孔8等連接固定好，然后將鉭絲3通過耐高溫拉簧6和拉簧固定組件7固定好，固定好后拆掉絲架固定桿4，給鉭絲固定桿A1和鉭絲固定桿B5分別通正電和負(fù)電，實(shí)現(xiàn)鉭絲加熱，本實(shí)用新型由于鉭絲不下垂，基片臺溫場均勻，因此能夠得到均勻性很好的金剛石膜。
本實(shí)用新型未詳述部分為現(xiàn)有技術(shù)。
為了公開本實(shí)用新型的發(fā)明目的而在本文中選用的實(shí)施例，當(dāng)前認(rèn)為是適宜的，但是，應(yīng)了解的是，本實(shí)用新型旨在包括一切屬于本構(gòu)思和實(shí)用新型范圍內(nèi)的實(shí)施例的所有變化和改進(jìn)。