本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，尤其涉及一種磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置及真空鍍膜設備。

背景技術：

在真空鍍膜設備或太陽能行業設備中，制備薄膜普遍使用的磁控濺射裝置。目前，磁控濺射裝置中，較常用磁場固定的結構，如此導致靶材表面磁力固定不能調節。尤其在工作一定時間后，靶材表面被濺射的面積越來越小，而向下燒蝕的速度更快，使得濺射工作時間變短，導致貴重的靶材利用率極低下，大約為20％～30％左右。

因此，針對上述問題，有必要提出進一步的解決方案。

技術實現要素：

本實用新型的目的在于提供一種磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置，以克服現有技術中存在的不足。

為實現上述實用新型目的，本實用新型提供一種磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置，其特征在于，所述磁場移動調節裝置包括：法蘭座、驅動螺桿、調節手輪、導向軸、直線軸承以及安裝板；

所述法蘭座為至少兩個，所述驅動螺桿一端安裝有法蘭座，所述調節手輪螺接于所述驅動螺桿上，且所述調節手輪樞轉安裝于所述安裝板上，所述導向軸與所述驅動螺桿間隔且平行設置，所述導向軸一端安裝有法蘭座，所述導向軸通過直線軸承滑動地安裝于所述安裝板上。

作為本實用新型的磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置的改進，所述驅動螺桿的端部具有尺寸刻度。

作為本實用新型的磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置的改進，所述導向軸的數量為兩個，兩個導向軸對稱分布于所述驅動螺桿的兩側，兩個導向軸的端部分別安裝有法蘭座。

作為本實用新型的磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置的改進，所述法蘭座為絕緣法蘭座。

為實現上述實用新型目的，本實用新型還提供一種真空鍍膜設備，其包括：水冷座、安裝底座、磁鐵、導磁體以及如上所述的磁場移動調節裝置；

所述磁場移動調節裝置通過安裝底座固定安裝于所述水冷座上，所述磁鐵和導磁體相互連接形成一整體，所述磁場移動調節裝置通過所述法蘭座與所述磁鐵和導磁體形成的整體固定連接。

作為本實用新型的真空鍍膜設備的改進，所述安裝底座與所述磁場移動調節裝置之間還設置有絕緣板。

作為本實用新型的真空鍍膜設備的改進，所述磁鐵為若干個，若干個磁鐵并排設置，且并排設置的若干個磁鐵位于所述導磁體之間。

作為本實用新型的真空鍍膜設備的改進，所述磁場移動調節裝置通過所述法蘭座與所述導磁體進行固定連接。

作為本實用新型的真空鍍膜設備的改進，所述真空鍍膜設備還包括電源，所述電源與所述導磁體電性連接。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：本實用新型的磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置可實現磁場的移動調節，從而改變靶材表面的磁力，使得后期被濺射的面積得到提高，向下燒蝕的速度變慢，濺射工作時間變長，進而可將靶材的利用率提高到39％～45％。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型的真空鍍膜設備一具體實施方式的平面示意圖，其中，磁鐵和導磁體形成的整體與靶材之間的距離最??；

圖2為本實用新型的真空鍍膜設備一具體實施方式的平面示意圖，其中，磁鐵和導磁體形成的整體與靶材之間的距離最大。

具體實施方式

下面結合附圖所示的各實施方式對本實用新型進行詳細說明，但應當說明的是，這些實施方式并非對本實用新型的限制，本領域普通技術人員根據這些實施方式所作的功能、方法、或者結構上的等效變換或替代，均屬于本實用新型的保護范圍之內。

如圖1所示，本實用新型的磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置包括：法蘭座10、驅動螺桿20、調節手輪30、導向軸40、直線軸承50以及安裝板60。

所述法蘭座10為至少兩個，優選地，所述法蘭座10為絕緣法蘭座，如此，在調節磁鐵位置時，不會對人體產生傷害。

所述驅動螺桿20一端安裝有法蘭座10，所述調節手輪30螺接于所述驅動螺桿20上，且所述調節手輪30樞轉安裝于所述安裝板60上。由于所述安裝邊60位置保持固定，從而，當旋轉調節手輪30時，調節手輪30可使得驅動螺桿20在軸向方向上相對調節手輪30和安裝板60進行移動，進而帶動其端部的法蘭座10進行移動。

此外，為了便于觀測驅動螺桿20移動的距離，所述驅動螺桿20的端部具有尺寸刻度。以調節手輪為參照，讀取時，首先記錄好尺寸刻度的初始讀數，旋轉調節手輪30后，然后讀取移動后的讀數，二者之差為驅動螺桿20移動的距離。

所述導向軸40在驅動螺桿20移動時起到導向的作用。具體地，所述導向軸40與所述驅動螺桿20間隔且平行設置，所述導向軸40一端安裝有法蘭座10，所述導向軸40通過直線軸承50滑動地安裝于所述安裝板60上。從而，由于驅動螺桿20的法蘭座和導向軸40的法蘭座具有相同的安裝面，從而，當驅動螺桿20移動時，導向軸40可與驅動螺桿20做同步運動。其中，所述直線軸承50具有極低的摩擦系數，以方便導向桿40的運動。

作為一種實施方式，所述導向軸40的數量為兩個，兩個導向軸40對稱分布于所述驅動螺桿20的兩側，其中，兩個導向軸40的端部分別安裝有法蘭座10。

基于如上所述的磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置，本實用新型還提供一種真空鍍膜設備。

如圖1-2所示，具體地，所述真空鍍膜設備包括：水冷座210、安裝底座220、磁鐵230、導磁體240以及如上所述的磁場移動調節裝置。

其中，所述磁場移動調節裝置通過安裝底座220固定安裝于所述水冷座210的一面上，進行濺射的靶材200位于水冷座210的另一面上。所述磁鐵230和導磁體240相互連接形成一整體，所述磁場移動調節裝置通過所述法蘭座10與所述磁鐵230和導磁體240形成的整體固定連接。從而，水冷座210與安裝板60之間的空間形成磁鐵230和導磁體240形成的整體的移動調節空間。

進一步地，磁鐵230和導磁體240形成的整體中，所述磁鐵230為若干個，若干個磁鐵230并排設置，且并排設置的若干個磁鐵230位于所述導磁體240之間。優選地，所述磁場移動調節裝置通過所述法蘭座10與所述導磁體240進行固定連接。

從而，通過旋轉調節手輪30，由于驅動螺桿20通過法蘭座10與磁鐵230和導磁體240形成的整體相連接，驅動螺桿20可帶動磁鐵230和導磁體240形成的整體發生移動，使其靠近或遠離所述靶材，從而實現磁場的移動調節，改變靶材表面的磁力。

此外，所述安裝底座220與所述磁場移動調節裝置之間還設置有絕緣板250。所述真空鍍膜設備還包括電源260，所述電源260與所述導磁體240電性連接。

本實用新型的磁場移動調節裝置安裝時，先將導磁體和磁鐵連成一個整體，方便整體移動。然后，將磁場移動調節裝置的法蘭底座與導磁體和磁鐵連成的整體進行固定連接，實現磁場移動調節裝置與真空鍍膜設備的組裝。

綜上所述，本實用新型的磁控濺射陰極座的磁場移動調節裝置可實現磁場的移動調節，從而改變靶材表面的磁力，使得后期被濺射的面積得到提高，向下燒蝕的速度變慢，濺射工作時間變長，進而可將靶材的利用率提高到39％～45％。

對于本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節，而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。

此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。