本發明涉及金屬表面處理技術領域，更具體而言，涉及一種金屬殼的表面處理方法、采用該表面處理方法制成的金屬殼和包括該金屬殼的電子設備。

背景技術：

傳統的金屬殼的表面處理技術在手機、電腦、廚具、家電等方面應用廣泛，加工處理方式簡單，成本較低，但其外觀表現均是金屬表面單純的絲感，這種拉絲效果看起來比較粗糙、不均勻，缺少透亮感和高端感。

技術實現要素：

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。

為此，本發明的第一個方面的目的在于提供一種金屬殼的表面處理方法。

本發明的第二個方面的目的在于提供一種采用上述金屬殼的表面處理方法制成的金屬殼。

本發明的第三個方面的目的在于提供一種包括上述金屬殼的電子設備。

為實現上述目的，本發明的一個方面的實施例提供了一種金屬殼的表面處理方法，包括：對所述金屬殼的表面進行拉絲處理；對拉絲處理后的所述金屬殼的表面進行有蠟拋光處理。

本發明上述實施例提供的金屬殼的表面處理方法，對金屬殼的表面進行拉絲處理后，再對金屬殼的經過拉絲處理的表面進行蠟拋(有蠟拋光)，通過蠟拋工藝能夠顯著提高金屬殼表面的透亮度，進而提高金屬殼的高端感，將金屬殼的拉絲增加一種高亮通透的效果。優選地，蠟拋中采用平磨機加絨毯耗材加精拋液體對金屬殼的表面進行負重拋光。

另外，本發明上述實施例提供的金屬殼的表面處理方法還具有如下附加技術特征：

上述技術方案中，優選地，所述對所述金屬殼的表面進行拉絲處理具體包括：采用拉絲帶對所述金屬殼的表面進行拉絲處理；和/或，

沿第一方向對所述金屬殼的表面進行第一方向拉絲處理；

沿第二方向對第一方向拉絲處理后的所述金屬殼的表面進行第二方向拉絲處理，其中，所述第二方向與所述第一方向相反；和/或，

通過數控機床對所述金屬殼的表面進行拉絲處理。

拉絲工藝中，有別于采用傳統拉絲輪設備進行拉絲，本申請中采用拉絲帶進行拉絲，優選地，采用800#尼龍砂帶進行拉絲。優選地，拉絲工藝采用相應數控機臺正反各一次拉絲完成，這樣拉絲會更均勻、細膩。

上述技術方案中，優選地，為避免空氣中粉塵劃傷拋光面，在密閉無塵環境中進行有蠟拋光處理。

上述技術方案中，優選地，在對所述金屬殼的表面進行拉絲處理之后，進行有蠟拋光之前，還包括：對拉絲處理后的所述金屬殼的表面進行陽極氧化處理，以在所述金屬殼的表面形成氧化膜層。

在金屬殼的表面通過陽極氧化工藝形成氧化膜層，氧化膜層能夠改變金屬的表面狀態和性能，如表面著色，提高耐腐蝕性、耐磨性及硬度、保護金屬表面等。

上述技術方案中，優選地，所述氧化膜層的厚度比正常陽極氧化處理的所述金屬殼的氧化膜層的厚度大3μm～5μm。或者說，對于完全相同的金屬殼，本申請中陽極氧化處理的處理時長比現有正常的陽極氧化處理的處理時長要長，以使的本申請中金屬殼表面形成的氧化膜層的厚度比正常陽極氧化處理得到的氧化膜層的厚度大3μm～5μm，優選地，本申請中金屬殼表面形成的氧化膜層的厚度比正常陽極氧化處理得到的氧化膜層的厚度大3μm、4μm、5μm。通常情況下，現有正常的陽極氧化處理獲得的氧化膜層的厚度為8μm～20μm。如果對于要求完全相同的金屬殼，現有正常的陽極氧化處理獲得的氧化膜層的厚度為8μm，則本申請中對于該金屬殼，其氧化膜層的厚度為11μm～13μm。

上述技術方案中，優選地，所述對拉絲處理后的所述金屬殼的表面進行陽極氧化處理具體包括：對拉絲處理后的所述金屬殼的表面進行化學拋光處理。當然，也可采用電解拋光處理或機械拋光處理。

優選地，化學拋光處理是進行陽極氧化處理的前處理工藝，進行化學拋光處理的化學拋光槽(化拋槽)是進行陽極氧化處理的陽極槽的第一個槽。

上述技術方案中，優選地，化學拋光處理的處理時長為3s～7s。

優選地，對于相同的金屬殼，本申請中化學拋光處理的處理時長比正常化學拋光處理的處理時長縮短一半。化學拋光處理的處理時長可以為但不限于3s、4s、5s、6s、7s。

上述技術方案中，優選地，在對所述金屬殼的表面進行拉絲處理之前，還包括：對所述金屬殼的表面進行拋光處理。

相關技術中對金屬殼的表面處理的基本加工步驟依次為打磨、拉絲、陽極氧化處理或鍍膜處理。本申請中在進行拉絲處理前，對金屬殼的表面做拋光處理，提高金屬殼表面的光潔度和表面精度，當然，拋光處理可以為機械拋光或化學拋光。

上述技術方案中，優選地，所述對所述金屬殼的表面的進行拋光處理具體包括：對所述金屬殼的表面進行粗拋光處理；對粗拋光處理后的所述金屬殼的表面進行中拋光處理；對中拋光處理后的所述金屬殼的表面進行精拋光處理。

此處粗拋光處理也可以理解為對金屬殼的表面進行打磨處理。打磨處理具體為：采用平磨機加600#尼龍砂負重打磨。中拋光處理具體為：用平磨機加布輪耗材(拋光布輪)加拋光液(中拋液)負重拋光。精拋處理具體為：用平磨機加絨毯耗材加拋光液(精拋液)負重拋光。

在一個具體的實施例中，粗拋光處理、中拋光處理和精拋光處理中，有3個拋光盤，每一拋光盤上面方2片金屬殼，3個拋光盤的負重為75kg，每一跑光盤的負重為25kg，即每6片金屬殼負重75kg，當然，在實際應用中可以靈活調整負重的大小。粗拋光處理的加工時長為360s，拋光量為0.09mm，穴數為1×6，每片的處理時長為60s；中拋光處理的加工時長為600s，拋光量為0.02mm，穴數為1×6，每片的處理時長為100s；精拋光處理的加工時長為60s，拋光量小于0.01mm，穴數為1×6，每片的處理時長為10s；蠟拋處理的加工時長為40s，拋光量小于0.01mm，穴數為1×6，每片的處理時長為40s～120s，拋光量小于0.01mm，穴數為1×6，每片的處理時長為20s。

本發明第二個方面的實施例提供一種金屬殼，采用上述任一實施例所述的金屬殼的表面處理方法制成，因而具有上述任一實施例所述的金屬殼的表面處理方法的有益效果，在此不再贅述。

本發明第三個方面的實施例提供一種電子設備，包括上述金屬殼。

本發明的附加方面和優點將在下面的描述部分中變得明顯，或通過本發明的實踐了解到。

附圖說明

本發明的上述和/或附加的方面和優點從結合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是本發明的實施例一所述的金屬殼的表面處理方法的流程圖；

圖2是本發明的實施例二所述的金屬殼的表面處理方法的流程圖。

具體實施方式

為了能夠更清楚地理解本發明的上述目的、特征和優點，下面結合附圖和具體實施方式對本發明進行進一步的詳細描述。需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請的實施例及實施例中的特征可以相互組合。

在下面的描述中闡述了很多具體細節以便于充分理解本發明，但是，本發明還可以采用其他不同于在此描述的方式來實施，因此，本發明的保護范圍并不受下面公開的具體實施例的限制。

下面參照附圖描述根據本發明一些實施例的金屬殼及其表面處理方法。

實施例一：

如圖1所示，根據本發明一些實施例提供的一種金屬殼的表面處理方法，包括：

步驟s20，對金屬殼的表面進行拉絲處理；

步驟s40，對拉絲處理后的金屬殼的表面進行有蠟拋光處理。

對金屬殼的表面進行拉絲處理后，再對金屬殼的經過拉絲處理的表面進行蠟拋(有蠟拋光)，通過蠟拋工藝能夠顯著提高金屬殼表面的透亮度，進而提高金屬殼的高端感，避免金屬殼表面單純的絲感，將金屬殼的拉絲增加一種高亮通透的效果。優選地，蠟拋中采用平磨機加絨毯耗材加拋光液(精拋液體)對金屬殼的表面進行負重拋光。

實施例二：

如圖2所示，一種金屬殼的表面處理方法，包括：

步驟s10，對金屬殼的表面進行拋光處理。

優選地，步驟s10具體包括：

步驟s102，對金屬殼的表面進行粗拋光處理；

步驟s104，對粗拋光處理后的金屬殼的表面進行中拋光處理；

步驟s106，對中拋光處理后的金屬殼的表面進行精拋光處理。

此處步驟s102粗拋光處理也可以理解為對金屬殼的表面進行打磨處理。步驟s102具體為：采用平磨機加600#尼龍砂負重打磨。步驟s104具體為：用平磨機加布輪耗材(拋光布輪)加拋光液(中拋液)負重拋光。步驟s104具體為：用平磨機加絨毯耗材加拋光液(精拋液)負重拋光。

金屬殼的表面處理方法還包括：

步驟s20，對金屬殼的表面進行拉絲處理；

步驟s30，對拉絲處理后的金屬殼的表面進行陽極氧化處理，以在金屬殼的表面形成氧化膜層；

步驟s40，對拉絲處理后的金屬殼的表面進行有蠟拋光處理。

相關技術中對金屬殼的表面處理的基本加工步驟依次為打磨、拉絲、陽極氧化處理或鍍膜處理。本申請中在進行步驟s20拉絲處理前，對金屬殼的表面做步驟s10拋光處理，提高金屬殼表面的光潔度和表面精度，當然，拋光處理可以為機械拋光或化學拋光。

優選地，步驟s20中，采用拉絲帶對金屬殼的表面進行拉絲處理。

步驟s20中，沿第一方向對金屬殼的表面進行第一方向拉絲處理；沿第二方向對第一方向拉絲處理后的金屬殼的表面進行第二方向拉絲處理，其中，第二方向與第一方向相反。

步驟s20中，通過數控機床對金屬殼的表面進行拉絲處理。

拉絲工藝中，有別于采用傳統拉絲輪設備進行拉絲，本申請中采用拉絲帶進行拉絲，優選地，采用800#尼龍砂帶進行拉絲。優選地，拉絲工藝采用相應數控機臺正反各一次拉絲完成，這樣拉絲會更均勻、細膩，當然也可以沿第一方向或第二方向進行依次拉絲處理。

在金屬殼的表面通過步驟s30陽極氧化工藝形成氧化膜層，氧化膜層能夠改變金屬的表面狀態和性能，如表面著色，提高耐腐蝕性、耐磨性及硬度、保護金屬表面等。

優選地，步驟s30中，氧化膜層的厚度比正常陽極氧化處理的金屬殼的氧化膜層的厚度大3μm～5μm。或者說，對于相同的金屬殼，本申請中陽極氧化處理的處理時長比現有正常的陽極氧化處理的處理時長要長，以使的本申請中金屬殼表面形成的氧化膜層的厚度比正常陽極氧化處理得到的氧化膜層的厚度大3μm～5μm，優選地，本申請中金屬殼表面形成的氧化膜層的厚度比正常陽極氧化處理得到的氧化膜層的厚度大3μm、4μm、5μm。通常情況下，現有正常的陽極氧化處理獲得的氧化膜層的厚度為8μm～20μm。如果對于要求完全相同的金屬殼，現有正常的陽極氧化處理獲得的氧化膜層的厚度為8μm，則本申請中對于該金屬殼，其氧化膜層的厚度為11μm～13μm。

優選地，步驟s30具體包括：對拉絲處理后的金屬殼的表面進行化學拋光處理。當然，也可采用電解拋光處理或機械拋光處理。

優選地，化學拋光處理是進行陽極氧化處理的前處理工藝，進行化學拋光處理的化學拋光槽(化拋槽)是進行陽極氧化處理的陽極槽的第一個槽。

優選地，化學拋光處理的處理時長為3s～7s。

優選地，對于相同的金屬殼，本申請中化學拋光處理的處理時長比正常化學拋光處理的處理時長縮短一半。化學拋光處理的處理時長可以為但不限于3s、4s、5s、6s、7s。

優選地，為避免空氣中粉塵劃傷拋光面，步驟s40在密閉無塵環境中進行。

在一個具體的實施例中，粗拋光處理、中拋光處理和精拋光處理中，有3個拋光盤，每一拋光盤上面方2片金屬殼，3個拋光盤的負重為75kg，每一跑光盤的負重為25kg，即每6片金屬殼負重75kg，當然，在實際應用中可以靈活調整負重的大小。粗拋光處理的加工時長為360s，拋光量為0.09mm，穴數為1×6，每片的處理時長為60s；中拋光處理的加工時長為600s，拋光量為0.02mm，穴數為1×6，每片的處理時長為100s；精拋光處理的加工時長為60s，拋光量小于0.01mm，穴數為1×6，每片的處理時長為10s；蠟拋處理的加工時長為40s，拋光量小于0.01mm，穴數為1×6，每片的處理時長為40s～120s，拋光量小于0.01mm，穴數為1×6，每片的處理時長為20s。

在實施例二的基礎上省掉除步驟s20和步驟s40外的其它一個或多個步驟，可以得到其它實施例。

本發明第二個方面的實施例提供一種金屬殼，采用上述任一實施例的金屬殼的表面處理方法制成，因而具有上述任一實施例的金屬殼的表面處理方法的有益效果，在此不再贅述。

本發明第三個方面的實施例提供一種電子設備，包括上述金屬殼。

優選地，金屬殼用于手機等移動終端等電子設備。

綜上所述，本發明實施例提供的金屬殼的表面處理方法，打破了傳統金屬殼表面處理的加工思維，在對金屬殼的表面進行拉絲處理后，對該表面進行有蠟拋光處理，優化了拉絲的質感與美感，給金屬外殼增加了一大新的外觀工藝。此工藝既能滿足金屬手機殼的各項可靠性測試要求，也能達到id設計各種顏色追求，并且能正常批量生產，比較適合中高端手機的外觀設計。

在本發明的描述中，除非另有明確的規定和限定，術語“多個”是指兩個或兩個以上；除非另有規定或說明，術語“連接”、“固定”等均應做廣義理解，例如，“連接”可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接，或電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連。對于本領域的普通技術人員而言，可以根據具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。

本說明書的描述中，需要理解的是，術語“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或單元必須具有特定的方向、以特定的方位構造和操作，因此，不能理解為對本發明的限制。

在本說明書的描述中，術語“一個實施例”、“一些實施例”、“具體實施例”等的描述意指結合該實施例或示例描述的具體特征、結構、材料或特點包含于本發明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或實例。而且，描述的具體特征、結構、材料或特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結合。

以上所述僅為本發明的優選實施例而已，并不用于限制本發明，對于本領域的技術人員來說，本發明可以有各種更改和變化。凡在本發明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。