專利名稱：平面拋光模板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
平面拋光模板技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型屬于拋光的技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種平面拋光模板。
背景技術(shù)：
[0002]拋光是指利用機(jī)械、化學(xué)或電化學(xué)的作用，使工件表面粗糙度降低，以獲得光亮、 平整表面的加工方法；工作時(shí)，一般用附有磨料的布、皮革或木材等軟質(zhì)材料的輪子(或 者用砂布、金屬絲刷)高速旋轉(zhuǎn)以擦拭工件表面，提高其表面光潔度；對閥板和閥座之類 的小工件進(jìn)行拋光時(shí)，采用現(xiàn)有拋光設(shè)備，放入工件多則會(huì)引起工件間的磕碰，導(dǎo)致工件損 壞，放入工件少則拋光效率太低，造成資源浪費(fèi)。發(fā)明內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型的目的是提供一種平面拋光模板，結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉，維修方便，充 分利用拋光機(jī)的空間一次性拋光工件數(shù)量多，提高工作效率。[0004]本實(shí)用新型的的技術(shù)解決方案是該平面拋光模板包括環(huán)氧樹脂模板、閥板槽和 閥座槽，環(huán)氧樹脂模板直徑比拋光機(jī)圓盤直徑稍小，在環(huán)氧樹脂模板上分布若干閥板槽和 閥座槽。[0005]拋光時(shí)，把環(huán)氧樹脂模板放入拋光機(jī)的鐵制圓環(huán)內(nèi)并保留適當(dāng)?shù)拈g隙，將閥板、閥 座分別放入閥板槽和閥座槽中。[0006]本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)1、拋光時(shí)，閥板、閥座分別放入閥板槽和閥座槽中，避 免了各工件之間的碰撞，被加工的工件表面平整光滑，達(dá)到鏡面效果，有效降低了閥門的開 關(guān)力矩，顯著提高了閥門密封可靠性；2、在環(huán)氧樹脂模板上分布若干閥板槽和閥座槽，一次 性可以拋光多個(gè)工件，提高了生產(chǎn)效率，減輕了工人的勞動(dòng)強(qiáng)度。


[0007]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。[0008]圖中I環(huán)氧樹脂模板，2閥板槽，3閥座槽。
具體實(shí)施方式
[0009]
以下結(jié)合附圖進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案。[0010]如圖1所示，該平面拋光模板包括環(huán)氧樹脂模板1、閥板槽2和閥座槽3，環(huán)氧樹脂 模板I直徑比拋光機(jī)圓盤直徑稍小，在環(huán)氧樹脂模板I上分布若干閥板槽2和閥座槽3。[0011]拋光時(shí)，把環(huán)氧樹脂模板I放入拋光機(jī)的鐵制圓環(huán)內(nèi)并保留適當(dāng)?shù)拈g隙，將閥板、 閥座分別放入閥板槽2和閥座槽3中，再在工件上放置一塊重物促使工件和拋光板貼合 更緊密。在達(dá)到規(guī)定的拋光時(shí)間后，拋光件的粗糙度可達(dá)到RaO. 02-0. 04，平面度可達(dá)到 O. 0025mm。
權(quán)利要求1.平面拋光模板，其特征是該平面拋光模板包括環(huán)氧樹脂模板(I)、閥板槽(2)和閥座槽(3)，環(huán)氧樹脂模板(I)直徑比拋光機(jī)圓盤直徑稍小，在環(huán)氧樹脂模板(I)上分布若干閥板槽(2)和閥座槽(3)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種平面拋光模板，該平面拋光模板包括環(huán)氧樹脂模板(1)、閥板槽(2)和閥座槽(3)，環(huán)氧樹脂模板(1)直徑比拋光機(jī)圓盤直徑稍小，在環(huán)氧樹脂模板(1)上分布若干閥板槽(2)和閥座槽(3)。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，成本低廉，維修方便，一次性拋光工件數(shù)量多，充分利用了拋光機(jī)的空間，提高加工效率和成品率，減輕工人的勞動(dòng)強(qiáng)度。
文檔編號B24D3/28GK202825576SQ201220462199
公開日2013年3月27日 申請日期2012年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月12日
發(fā)明者季煒, 郭愛國 申請人:金湖縣賽歐電氣有限公司