技術總結
本發明提供了一種TiSiNiN納米復合涂層，是一種由界面相包裹TiN納米晶粒的復合結構，所述的界面相由化合物Si3N4和金屬Ni兩相組成。本發明還提供了上述涂層的制備方法，先對基體進行清洗，然后采用多靶磁控濺射儀，利用TiSiNi復合靶材在基體上進行磁控濺射反應沉積，所述TiSiNi復合靶材中，按原子比計算，Ti為80%，Si和Ni的總原子量為20%。該TiSiNiN納米復合涂層的最高硬度為可達48.643GPa，可用在干式、高速切削加工刀具以及在摩擦磨損條件服役的部件表面，從而提高刀具及部件表面性能和使用壽命。本發明的制備方法具有工藝簡單、沉積速度快、成本低、結合強度高等優點。

技術研發人員：李偉;劉平;杜浩明;張柯;馬鳳倉;劉新寬;陳小紅;何代華
受保護的技術使用者：上海理工大學
文檔號碼：201611153025
技術研發日：2016.12.14
技術公布日：2017.05.24