技術特征：
1.一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括底板，所述底板包括ITO面和連接面，所述底板上設有貫穿ITO面和連接面的蒸鍍孔，在所述連接面上設有至少一層掩模板層，各掩模板層設有開口，掩模板層的開口的尺寸隨著掩模板層與底板的距離擴大而擴大，所述蒸鍍孔與各掩模板層的開口相連通形成階梯形通孔，與ITO面距離最遠的掩模板層的平面為蒸鍍面，所述蒸鍍面上設有的納米層,所述蒸鍍孔的尺寸小于所述掩模板層的開口的尺寸。2.根據權利要求1所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括蒸鍍區和定位區，所述蒸鍍孔和所述階梯形通孔設在所述蒸鍍區內，所述定位區內設有定位孔。3.根據權利要求2所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述階梯形通孔的內壁設有所述納米層。4.根據權利要求2所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述ITO面設有所述納米層。5.根據權利要求2所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板采用不銹鋼、因瓦合金、純鎳或鎳合金材料制成。6.根據權利要求2所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述階梯形通孔在所述蒸鍍區上均勻設置多個，所述階梯形通孔之間設有連接部。7.根據權利要求1至6任一所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述掩模板層采用蝕刻或電鑄或激光切割工藝制備。8.根據權利要求7所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述納米層為碳化鈦膜。9.根據權利要求7所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述納米層為氮化鈦膜。10.根據權利要求7所述的一種用于蒸鍍OLED顯示面板的掩模板，其特征在于，所述納米層為氮化鉻膜。