技術總結
本實用新型公開了一種雙室磁控濺射電子束鍍膜機，包括磁控濺射鍍膜系統、電子束鍍膜系統、轉換系統和總控制柜，所述磁控濺射鍍膜系統的控制端、所述電子束鍍膜系統的控制端和所述轉換系統的控制端均與所述總控制柜連接；本實用新型一種雙室磁控濺射電子束鍍膜機將磁控濺射真空腔體、電子束真空腔體和轉換真空腔體連通，使在對鍍膜樣品進行鍍膜時，可以在不破壞真空環境的情況下實現磁控濺射鍍膜和電子束鍍膜，使多層鍍膜的膜層膜間的結合性更好、更牢固、更致密。

技術研發人員：何吉剛;馬寧;王小軍;蔣冰霜;魏瓊林;蒙志林;冉從軍
受保護的技術使用者：成都中科唯實儀器有限責任公司
文檔號碼：201620762959
技術研發日：2016.07.19
技術公布日：2016.12.14