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顯示面板、拼接顯示裝置、亮度補(bǔ)償方法和顯示方法與流程

文檔序號:41755262發(fā)布日期:2025-04-29 18:23閱讀:4來源:國知局
顯示面板、拼接顯示裝置、亮度補(bǔ)償方法和顯示方法與流程

本發(fā)明實(shí)施例涉及顯示,尤其涉及一種顯示面板、拼接顯示裝置、亮度補(bǔ)償方法和顯示方法。


背景技術(shù):

1、人們對大尺寸或者超大尺寸屏幕的顯示裝置的需求在增加。大尺寸或者超大尺寸屏幕受生產(chǎn)設(shè)備的硬件限制很大,從經(jīng)濟(jì)和可靠性角度出發(fā)可以通過拼接屏幕的方式來實(shí)現(xiàn)。

2、然而,拼接屏幕的拼接縫處受顯示面板邊緣的不發(fā)光區(qū)影響,往往亮度較低,從而影響拼接屏幕的顯示效果。此外,拼接屏幕由于拼接縫的寬度通常會大于顯示面板的像素單元之間的縫隙(gap)的寬度,造成拼接線可視性問題,進(jìn)一步影響拼接屏幕的顯示效果。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示面板、拼接顯示裝置、亮度補(bǔ)償方法和顯示方法,用于解決現(xiàn)有的拼接顯示裝置的拼接縫處亮度低且拼接縫可視,影響顯示效果的問題。

2、為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的:

3、第一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示面板,包括:

4、驅(qū)動背板以及設(shè)置于所述驅(qū)動背板上的像素層;

5、所述驅(qū)動背板包括:中部像素區(qū)域、邊緣像素區(qū)域和拼接縫區(qū)域,所述邊緣像素區(qū)域位于所述中部像素區(qū)域和所述拼接縫區(qū)域之間,所述拼接縫區(qū)域位于所述邊緣像素區(qū)域和所述顯示面板的邊緣拼接線之間;

6、所述像素層包括多個像素單元,所述多個像素單元包括位于所述中部像素區(qū)域的第一像素單元和位于所述邊緣像素區(qū)域的第二像素單元;

7、所述顯示面板還包括:墊斜層,所述墊斜層位于所述驅(qū)動背板和所述第二像素單元之間,所述墊斜層朝向所述第二像素單元的表面向所述拼接縫區(qū)域傾斜。

8、可選的,所述邊緣像素區(qū)域包括n1列所述第二像素單元,n1的取值為1~10。

9、可選的,所述墊斜層朝向所述第二像素單元的表面與所述驅(qū)動背板所在平面之間形成的傾斜角的大小,由所述拼接縫區(qū)域在所述第一方向上的寬度確定,所述第一方向與所述邊緣拼接線所在的方向垂直。

10、可選的,所述傾斜角滿足以下公式:

11、

12、其中,l1為所述拼接縫區(qū)域相對所述中部像素區(qū)域的相對亮度,b為所述像素單元在第一方向上的寬度,a為所述拼接縫區(qū)域在所述第一方向上的寬度,θ為所述傾斜角,所述第一方向與所述邊緣拼接線所在的方向垂直。

13、可選的,所述l1的數(shù)值位于0.8~1.2之間,所述傾斜角的介于44.5°

14、~61.8°之間。

15、可選的,2a與b的比值小于1.6,pitch的數(shù)值位于800~1000μm之間,其中,pitch=b+b,b為在所述第一方向上相鄰的所述像素單元之間的縫隙。

16、可選的,所述墊斜層包括至少一層有機(jī)層、至少一層無機(jī)層和/或至少一層金屬層。

17、可選的,所述墊斜層包括多層金屬層,所述金屬層的層數(shù)與所述像素單元在第一方向上的寬度相關(guān),所述金屬層的層數(shù)n2=tanθ*b/c,其中,b為所述像素單元在第一方向上的寬度,c為一層所述金屬層的厚度,所述第一方向與所述邊緣拼接線所在的方向垂直。

18、可選的,所述墊斜層包括多層有機(jī)層,所述有機(jī)層的層數(shù)與所述像素單元在第一方向上的寬度相關(guān),所述有機(jī)層的層數(shù)n3=tanθ*b/e,其中,b為所述像素單元在第一方向上的寬度,e為一層所述有機(jī)層的厚度,所述第一方向與所述邊緣拼接線所在的方向垂直。

19、第二方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種拼接顯示裝置,包括至少兩個如上述第一方面所述的顯示面板。

20、第三方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種亮度補(bǔ)償方法,應(yīng)用于如上述第二方面所述的拼接顯示裝置,所述拼接顯示裝置包括至少兩個顯示面板,所述方法包括:

21、拍攝步驟:拍攝所述拼接顯示裝置顯示亮度測試畫面時的光學(xué)圖像;

22、計算步驟:確定所述光學(xué)圖像中所述顯示面板的拼接縫區(qū)域與中部像素區(qū)域的亮度差異值;

23、判斷步驟:判斷所述亮度差異值是否在預(yù)設(shè)閾值范圍內(nèi);

24、補(bǔ)償步驟:當(dāng)所述亮度差異值不在所述預(yù)設(shè)閾值范圍內(nèi),根據(jù)所述亮度差異值對所述顯示面板的邊緣拼接線像素區(qū)域的第二像素單元進(jìn)行電流補(bǔ)償;

25、記錄步驟:重復(fù)執(zhí)行所述拍攝步驟、所述計算步驟、所述補(bǔ)償步驟和所述判斷步驟,直至所述光學(xué)圖像中所述顯示面板的拼接縫區(qū)域與中部像素區(qū)域的亮度差異值在預(yù)設(shè)閾值范圍內(nèi),并記錄當(dāng)前的電流補(bǔ)償值。

26、第四方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示方法,應(yīng)用于如上述第二方面所述的拼接顯示裝置,所述拼接顯示裝置包括至少兩個顯示面板,所述方法包括:

27、獲取待顯示圖像;

28、獲取記錄的所述顯示面板的邊緣拼接線像素區(qū)域的第二像素單元的電流補(bǔ)償值,根據(jù)所述電流補(bǔ)償值對所述待顯示圖像進(jìn)行亮度補(bǔ)償,并顯示亮度補(bǔ)償后的待顯示圖像。

29、在本發(fā)明實(shí)施例中,在顯示面板的邊緣像素區(qū)域的第二像素單元下方設(shè)置墊斜層,墊斜層朝向第二像素單元的表面向拼接縫區(qū)域傾斜,以使得第二像素單元發(fā)出的光線向拼接縫區(qū)域傾斜,從而提高拼接縫區(qū)域的亮度,提高了顯示面板的亮度均一性,并且提高拼接縫區(qū)域的亮度,還可以避免拼接線可視,提高了由多個顯示面板組成的拼接裝置的顯示效果。



技術(shù)特征:

1.一種顯示面板,其特征在于,包括:

2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述邊緣像素區(qū)域包括n1列所述第二像素單元,n1的取值為1~10。

3.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述墊斜層朝向所述第二像素單元的表面與所述驅(qū)動背板所在平面之間形成的傾斜角的大小,由所述拼接縫區(qū)域在第一方向上的寬度確定,所述第一方向與所述邊緣拼接線所在的方向垂直。

4.如權(quán)利要求3所述的顯示面板,其特征在于,所述傾斜角滿足以下公式:

5.如權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,所述l1的數(shù)值位于0.8~1.2之間,所述傾斜角的介于44.5°~61.8°之間。

6.如權(quán)利要求4所述的顯示面板,其特征在于,2a與b的比值小于1.6,pitch的數(shù)值位于800~1000μm之間,其中,pitch=b+b,b為在所述第一方向上相鄰的所述像素單元之間的縫隙。

7.如權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述墊斜層包括至少一層有機(jī)層、至少一層無機(jī)層和/或至少一層金屬層。

8.如權(quán)利要求6所述的顯示面板,其特征在于,所述墊斜層包括多層金屬層,所述金屬層的層數(shù)與所述像素單元在第一方向上的寬度相關(guān),所述金屬層的層數(shù)n2=tanθ*b/c,其中,b為所述像素單元在第一方向上的寬度,c為一層所述金屬層的厚度,所述第一方向與所述邊緣拼接線所在的方向垂直。

9.如權(quán)利要求6所述的顯示面板,其特征在于,所述墊斜層包括多層有機(jī)層,所述有機(jī)層的層數(shù)與所述像素單元在第一方向上的寬度相關(guān),所述有機(jī)層的層數(shù)n3=tanθ*b/e,其中,b為所述像素單元在第一方向上的寬度,e為一層所述有機(jī)層的厚度,所述第一方向與所述邊緣拼接線所在的方向垂直。

10.一種拼接顯示裝置,其特征在于,包括至少兩個如權(quán)利要求1~9任一項所述的顯示面板。

11.一種亮度補(bǔ)償方法,其特征在于,應(yīng)用于如權(quán)利要求10所述的拼接顯示裝置,所述拼接顯示裝置包括至少兩個顯示面板,所述方法包括:

12.一種顯示方法,其特征在于,應(yīng)用于如權(quán)利要求10所述的拼接顯示裝置,所述拼接顯示裝置包括至少兩個顯示面板,所述方法包括:


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種顯示面板、拼接顯示裝置、亮度補(bǔ)償方法和顯示方法,該顯示面板包括:驅(qū)動背板以及設(shè)置于驅(qū)動背板上的像素層;所述驅(qū)動背板包括:中部像素區(qū)域、邊緣像素區(qū)域和拼接縫區(qū)域,所述邊緣像素區(qū)域位于所述中部像素區(qū)域和所述拼接縫區(qū)域之間,所述拼接縫區(qū)域位于所述邊緣像素區(qū)域和所述顯示面板的邊緣拼接線之間;所述像素層包括多個像素單元,所述多個像素單元包括位于所述中部像素區(qū)域的第一像素單元和位于所述邊緣像素區(qū)域的第二像素單元;所述顯示面板還包括:墊斜層,所述墊斜層位于所述驅(qū)動背板和所述第二像素單元之間,所述墊斜層朝向所述第二像素單元的表面向所述拼接縫區(qū)域傾斜,以使得第二像素單元發(fā)出的光線向拼接縫區(qū)域傾斜。

技術(shù)研發(fā)人員:黎倩,黃建邦,王佳麗,高亞眉,楊成龍,唐偉
受保護(hù)的技術(shù)使用者:京東方科技集團(tuán)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/4/28
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