1.一種用于支撐基板于外延生長裝置內的基座，所述基座包括：
環形主體，所述環形主體從中心軸延伸至外部半徑，所述環形主體包括頂表面和與所述頂表面相對的底表面，所述頂表面包括：
凹入部分，所述凹入部分設置在所述中心軸處，并延伸至內部半徑，
非凹入部分，所述非凹入部分沿所述環形主體的周圍設置，以及
過渡部分，所述過渡部分將所述凹入部分連接至所述非凹入部分，所述過渡部分被配置成與所述基板形成鄰接并支撐所述基板，其中當所述頂表面面向上并且所述中心軸豎直設置時，所述過渡部分處于比所述凹入部分更高的高度并且處于比所述非凹入部分更低的高度；以及
多個通孔，所述多個通孔從所述頂表面延伸至所述底表面，其中所述多個通孔定位在所述凹入部分和所述非凹入部分內，其中在所述凹入部分和所述非凹入部分中的所述多個通孔的密度為每平方厘米有至少5.0個通孔。
2.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述凹入部分和所述非凹入部分設置成正交于所述中心軸。
3.根據權利要求2所述的基座，其特征在于，所述過渡部分正交于所述中心軸。
4.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，當所述頂表面面向上并且所述中心軸豎直設置時，所述過渡部分升至高于所述非凹入部分小于0.2毫米的位置處。
5.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，當所述頂表面面向上并且所述中心軸豎直設置時，所述過渡部分設置在高于所述非凹入部分至少半毫米的高度。
6.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述過渡部分并不具有所述多個通孔。
7.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述基座的厚度小于五(5)毫米。
8.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述基座包含碳石墨。
9.根據權利要求1所述的基座，進一步包括與所述基座的所述中心軸等距布置的升降桿孔。
10.根據權利要求9所述的基座，其特征在于，所述升降桿孔延伸到所述凹入部分中。
11.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述底表面包括不具有所述通孔的支撐位置，并且所述支撐位置中的每個支撐位置具有至少兩毫米寬乘至少五毫米長的尺寸。
12.根據權利要求11所述的基座，其特征在于，所述支撐位置設置成與所述非凹入部分直接相對。
13.根據權利要求11所述的基座，其特征在于，所述支撐位置與所述基座的所述中心軸等距地設置。
14.根據權利要求11所述的基座，其特征在于，所述支撐位置包括相應凹陷表面，當所述基座的所述頂表面面向上并且所述中心軸豎直設置時，所述凹陷表面從所述底表面的緊密包圍部分升高至少0.7毫米。
15.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述通孔的中心軸與所述基座的所述中心軸平行。
16.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述基座的外徑處于從兩百(200)毫米至三百(300)毫米的范圍內。
17.根據權利要求1所述的基座，其特征在于，所述凹入部分的直徑處于從一百(100)毫米至兩百(200)毫米的范圍內。
18.根據權利要求1所述的基座，進一步包括保持表面，所述保持表面被配置成防止所述基板在所述基座圍繞所述中心軸旋轉期間發生水平移動。
19.根據權利要求18所述的基座，其特征在于，所述保持表面正交于以下中的至少一者：所述頂表面的所述非凹入部分和所述凹入部分。
20.根據權利要求1所述的基座，其特征在于所述環形主體是一體形成的。