技術(shù)總結(jié)
公開了用于外延生長裝置的腔室部件。反應(yīng)腔室由頂板來界定和形成。反應(yīng)氣體在側(cè)壁中所設(shè)置的反應(yīng)氣體供應(yīng)路徑中整流，使得在所述反應(yīng)腔室中的所述反應(yīng)氣體的流動方向上的水平分量對應(yīng)于從所述反應(yīng)氣體供應(yīng)路徑的開口的中心延伸的方向上的水平分量。對所述外延生長裝置的上側(cè)壁、基座和整流板的改進已使得提高了基板上形成的外延層的均勻性和形成速度，從而使得產(chǎn)量更高并且缺陷更少。

技術(shù)研發(fā)人員：大木慎一;森義信
受保護的技術(shù)使用者：應(yīng)用材料公司
文檔號碼：201620240735
技術(shù)研發(fā)日：2016.03.25
技術(shù)公布日：2016.11.30