技術總結
本實用新型提供一種磁控濺射陰極座的磁場移動調節(jié)裝置及真空鍍膜設備，其中，所述磁場移動調節(jié)裝置包括：法蘭座、驅動螺桿、調節(jié)手輪、導向軸、直線軸承以及安裝板；所述法蘭座為至少兩個，所述驅動螺桿一端安裝有法蘭座，所述調節(jié)手輪螺接于所述驅動螺桿上，且所述調節(jié)手輪樞轉安裝于所述安裝板上，所述導向軸與所述驅動螺桿間隔且平行設置，所述導向軸一端安裝有法蘭座，所述導向軸通過直線軸承滑動地安裝于所述安裝板上。本實用新型的磁控濺射陰極座的磁場移動調節(jié)裝置可實現(xiàn)磁場的移動調節(jié)，從而改變靶材表面的磁力，使得后期被濺射的面積得到提高，向下燒蝕的速度變慢，濺射工作時間變長，進而可將靶材的利用率提高到39％～45％。

技術研發(fā)人員：陳軼
受保護的技術使用者：昆山迅立光電設備有限公司
文檔號碼：201620785714
技術研發(fā)日：2016.07.25
技術公布日：2016.12.14