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一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置的制作方法

文檔序號:41775134發(fā)布日期:2025-04-29 18:49閱讀:13來源:國知局
一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置的制作方法

本發(fā)明涉及氨法脫硫,特別是涉及一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置。


背景技術(shù):

1、氨法脫硫是一種高效低耗能的濕法脫硫方式,煙氣經(jīng)過除塵器去除粉塵后,進(jìn)入預(yù)處理系統(tǒng),降低煙氣的溫度,以提高脫硫效率。經(jīng)過預(yù)處理的煙氣進(jìn)入脫硫塔,脫硫塔內(nèi)設(shè)置了一系列噴淋器,噴灑氨水。煙氣經(jīng)過噴淋器與氨水充分接觸,發(fā)生反應(yīng),生成亞硫酸銨和硫酸銨,從脫硫塔底部排出的硫酸銨溶液,經(jīng)過過濾、干燥等工藝,最終得到固體硫酸銨結(jié)晶。

2、當(dāng)前氨法脫硫領(lǐng)域存在濃縮段固體磨損、氯離子累積腐蝕、產(chǎn)品中氯含量超標(biāo)等問題,究其原因,是煙氣與溶液100%進(jìn)行接觸混合,導(dǎo)致煙氣中氯離子全部進(jìn)入到濃縮段及產(chǎn)品中,造成濃縮段氯離子濃度升高以及產(chǎn)品不合格。當(dāng)前行業(yè)內(nèi)通常的解決方案包含:蒸發(fā)結(jié)晶、噴霧干燥,然而以上兩種理念均存在能耗高的問題,蒸發(fā)結(jié)晶蒸發(fā)1噸水耗低壓蒸汽1.1噸,噴霧干燥蒸發(fā)1噸水耗低壓蒸汽4.7噸,運(yùn)行能耗問題限制了降氯技術(shù)的推廣與應(yīng)用。為最大限制降低氯離子控制系統(tǒng)能耗,提出通過煙氣分流方式,利用部分原煙氣熱量降低脫硫系統(tǒng)與產(chǎn)品中氯離子,此工藝基本不增加蒸汽消耗。此外,從結(jié)晶降氯塔排出的硫酸銨結(jié)晶和溶液的混合物會通過管道抽入到后續(xù)的容器內(nèi)進(jìn)行固液分離,容器較高位置開設(shè)有出口,用于溶液排出,結(jié)晶和混合物流通的管道末端在容器內(nèi)的高度也需要注意,若高度較高,距離出口較近,混合物進(jìn)入容器內(nèi)后會因水流沖擊導(dǎo)致結(jié)晶朝著出口流動,不利于結(jié)晶的沉降;若高度較低,距離出口較遠(yuǎn),但是距離容器底部已經(jīng)沉降的結(jié)晶顆粒較近,混合物進(jìn)入后底部沉降的結(jié)晶受到水流沖擊會重新漂浮到溶液內(nèi),這樣也不利于結(jié)晶的沉降。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、基于此,有必要針對上述技術(shù)問題,提供一種能夠降低結(jié)晶中氯離子濃度以及使結(jié)晶顆粒可以快速沉降的濃縮結(jié)晶裝置。

2、本發(fā)明提供的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,包括:

3、脫硫塔,用于去除原煙氣內(nèi)的硫元素,通過管道與產(chǎn)生煙氣的設(shè)備相連;

4、結(jié)晶降氯塔,安裝在所述脫硫塔一側(cè)且與所述管道之間通過進(jìn)氣管相連;

5、風(fēng)機(jī),安裝在所述進(jìn)氣管內(nèi),用于將一部分原煙氣抽入到所述結(jié)晶降氯塔內(nèi);

6、結(jié)晶儲槽,安裝在所述結(jié)晶降氯塔一側(cè),兩者之間通過連接管相連;

7、回流管,一端貫穿所述結(jié)晶儲槽側(cè)壁,另一端貫穿所述結(jié)晶降氯塔側(cè)壁;

8、分離組件,設(shè)在所述結(jié)晶儲槽內(nèi),用于帶動結(jié)晶顆粒快速向所述結(jié)晶儲槽底部沉降。

9、在其中一個實(shí)施例中,所述分離組件包括升降桿,所述升降桿頂部活動貫穿所述結(jié)晶儲槽頂部,所述升降桿底部固定設(shè)置有固定架,所述固定架上轉(zhuǎn)動設(shè)置有轉(zhuǎn)動桿,所述轉(zhuǎn)動桿外側(cè)固定套設(shè)有升降板,所述升降板中心開設(shè)有槽口,所述槽口內(nèi)線性陣列設(shè)置有多個橫板,所述橫板內(nèi)開設(shè)有移動槽,所述移動槽內(nèi)活動設(shè)置有濾板,所述濾板上開設(shè)有多個濾孔。

10、在其中一個實(shí)施例中,所述固定架一側(cè)開設(shè)有豎槽,所述轉(zhuǎn)動桿活動貫穿所述豎槽,所述轉(zhuǎn)動桿位于所述豎槽內(nèi)部分外側(cè)活動卡接設(shè)置有驅(qū)動齒輪,所述驅(qū)動齒輪一側(cè)固定設(shè)置有圓環(huán),所述圓環(huán)上環(huán)形陣列開設(shè)有鋸齒槽,所述鋸齒槽內(nèi)活動卡接設(shè)置有鋸齒塊,所述鋸齒塊與所述轉(zhuǎn)動桿之間固定連接有定位彈簧。

11、在其中一個實(shí)施例中,所述豎槽內(nèi)位于所述驅(qū)動齒輪兩側(cè)均固定設(shè)置有驅(qū)動齒條,兩個所述驅(qū)動齒條設(shè)有齒條的一端剛好相反,一個位于頂部,一個位于底部,兩個所述驅(qū)動齒條一端均與所述結(jié)晶儲槽的內(nèi)壁固定連接,所述驅(qū)動齒條與所述驅(qū)動齒輪嚙合傳動。

12、在其中一個實(shí)施例中,所述升降板一側(cè)開設(shè)有凹槽,所述凹槽內(nèi)轉(zhuǎn)動設(shè)置有多個豎桿,所述豎桿的數(shù)量與所述橫板的數(shù)量相同,所述升降板位于所述凹槽內(nèi)壁上開設(shè)有滑動槽,所述滑動槽與所述移動槽相互連通,所述滑動槽內(nèi)滑動設(shè)置有滑動板,所述滑動板一端與所述濾板固定連接,另一端固定設(shè)置有連接齒條,所述凹槽內(nèi)活動設(shè)置有移動齒條,所述豎桿位于所述連接齒條和所述移動齒條中間且頂部固定設(shè)置有轉(zhuǎn)動齒輪,所述轉(zhuǎn)動齒輪與所述連接齒條和所述移動齒條嚙合傳動。

13、在其中一個實(shí)施例中,所述升降板位于所述移動槽上方開設(shè)有活動槽,所述活動槽內(nèi)活動設(shè)置有毛刷板,所述毛刷板一端固定設(shè)置有限位桿,所述限位桿與所述滑動槽活動連接,所述滑動板頂部固定設(shè)置有限位板,所述限位板上開設(shè)有波浪槽,所述限位桿與所述波浪槽活動連接,所述毛刷板頂部與所述活動槽內(nèi)壁之間通過復(fù)位彈簧連接。

14、在其中一個實(shí)施例中,所述凹槽內(nèi)橫向?qū)ΨQ轉(zhuǎn)動設(shè)置有橫桿,兩個所述橫桿位于所述轉(zhuǎn)動桿兩側(cè),所述橫桿一端固定設(shè)置有凸輪,所述凸輪外側(cè)活動套設(shè)有移動框,所述移動框兩側(cè)均固定設(shè)置有移動桿,所述移動桿外側(cè)活動套設(shè)有定位框,所述定位框與所述凹槽內(nèi)壁固定連接,其中一個所述移動桿與同側(cè)的所述移動齒條固定連接。

15、在其中一個實(shí)施例中,所述轉(zhuǎn)動桿外側(cè)活動套設(shè)有定位齒輪,所述定位齒輪一側(cè)固定設(shè)置有圓筒,所述圓筒活動套設(shè)在所述轉(zhuǎn)動桿外側(cè),所述圓筒遠(yuǎn)離所述定位齒輪一端活動貫穿所述升降板一側(cè)與所述固定架固定連接。

16、在其中一個實(shí)施例中,所述橫桿位于所述凸輪一側(cè)固定套設(shè)有從動齒輪,所述從動齒輪與所述定位齒輪嚙合傳動。

17、在其中一個實(shí)施例中,所述結(jié)晶儲槽頂部轉(zhuǎn)動設(shè)置有圓柱,所述圓柱上開設(shè)有曲線槽,所述曲線槽內(nèi)滑動貼合設(shè)置有定位桿,所述定位桿遠(yuǎn)離所述圓柱一端與所述升降桿固定連接。

18、上述一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,通過升降板、橫板、濾板等多個部件的配合實(shí)現(xiàn)了升降板向下移動過程中濾板位于移動槽外側(cè),能夠增大與結(jié)晶的接觸面積,帶動較多的結(jié)晶沉降到結(jié)晶儲槽底部;通過限位桿、波浪槽和毛刷板等多個部件的配合能夠?qū)V孔進(jìn)行清理,不會影響溶液的流通。



技術(shù)特征:

1.一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述分離組件包括升降桿,所述升降桿頂部活動貫穿所述結(jié)晶儲槽頂部,所述升降桿底部固定設(shè)置有固定架,所述固定架上轉(zhuǎn)動設(shè)置有轉(zhuǎn)動桿,所述轉(zhuǎn)動桿外側(cè)固定套設(shè)有升降板,所述升降板中心開設(shè)有槽口,所述槽口內(nèi)線性陣列設(shè)置有多個橫板,所述橫板內(nèi)開設(shè)有移動槽,所述移動槽內(nèi)活動設(shè)置有濾板,所述濾板上開設(shè)有多個濾孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述固定架一側(cè)開設(shè)有豎槽,所述轉(zhuǎn)動桿活動貫穿所述豎槽,所述轉(zhuǎn)動桿位于所述豎槽內(nèi)部分外側(cè)活動卡接設(shè)置有驅(qū)動齒輪,所述驅(qū)動齒輪一側(cè)固定設(shè)置有圓環(huán),所述圓環(huán)上環(huán)形陣列開設(shè)有鋸齒槽,所述鋸齒槽內(nèi)活動卡接設(shè)置有鋸齒塊,所述鋸齒塊與所述轉(zhuǎn)動桿之間固定連接有定位彈簧。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述豎槽內(nèi)位于所述驅(qū)動齒輪兩側(cè)均固定設(shè)置有驅(qū)動齒條,兩個所述驅(qū)動齒條設(shè)有齒條的一端剛好相反,一個位于頂部,一個位于底部,兩個所述驅(qū)動齒條一端均與所述結(jié)晶儲槽的內(nèi)壁固定連接,所述驅(qū)動齒條與所述驅(qū)動齒輪嚙合傳動。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述升降板一側(cè)開設(shè)有凹槽,所述凹槽內(nèi)轉(zhuǎn)動設(shè)置有多個豎桿,所述豎桿的數(shù)量與所述橫板的數(shù)量相同,所述升降板位于所述凹槽內(nèi)壁上開設(shè)有滑動槽,所述滑動槽與所述移動槽相互連通,所述滑動槽內(nèi)滑動設(shè)置有滑動板,所述滑動板一端與所述濾板固定連接,另一端固定設(shè)置有連接齒條,所述凹槽內(nèi)活動設(shè)置有移動齒條,所述豎桿位于所述連接齒條和所述移動齒條中間且頂部固定設(shè)置有轉(zhuǎn)動齒輪,所述轉(zhuǎn)動齒輪與所述連接齒條和所述移動齒條嚙合傳動。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述升降板位于所述移動槽上方開設(shè)有活動槽,所述活動槽內(nèi)活動設(shè)置有毛刷板,所述毛刷板一端固定設(shè)置有限位桿,所述限位桿與所述滑動槽活動連接,所述滑動板頂部固定設(shè)置有限位板,所述限位板上開設(shè)有波浪槽,所述限位桿與所述波浪槽活動連接,所述毛刷板頂部與所述活動槽內(nèi)壁之間通過復(fù)位彈簧連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述凹槽內(nèi)橫向?qū)ΨQ轉(zhuǎn)動設(shè)置有橫桿,兩個所述橫桿位于所述轉(zhuǎn)動桿兩側(cè),所述橫桿一端固定設(shè)置有凸輪,所述凸輪外側(cè)活動套設(shè)有移動框,所述移動框兩側(cè)均固定設(shè)置有移動桿,所述移動桿外側(cè)活動套設(shè)有定位框,所述定位框與所述凹槽內(nèi)壁固定連接,其中一個所述移動桿與同側(cè)的所述移動齒條固定連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述轉(zhuǎn)動桿外側(cè)活動套設(shè)有定位齒輪,所述定位齒輪一側(cè)固定設(shè)置有圓筒,所述圓筒活動套設(shè)在所述轉(zhuǎn)動桿外側(cè),所述圓筒遠(yuǎn)離所述定位齒輪一端活動貫穿所述升降板一側(cè)與所述固定架固定連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述橫桿位于所述凸輪一側(cè)固定套設(shè)有從動齒輪,所述從動齒輪與所述定位齒輪嚙合傳動。

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,其特征在于,所述結(jié)晶儲槽頂部轉(zhuǎn)動設(shè)置有圓柱,所述圓柱上開設(shè)有曲線槽,所述曲線槽內(nèi)滑動貼合設(shè)置有定位桿,所述定位桿遠(yuǎn)離所述圓柱一端與所述升降桿固定連接。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及氨法脫硫技術(shù)領(lǐng)域,具體是一種能夠降低氯離子濃度的濃縮結(jié)晶裝置,包括:脫硫塔,用于去除原煙氣內(nèi)的硫元素,通過管道與產(chǎn)生煙氣的設(shè)備相連;結(jié)晶降氯塔,安裝在脫硫塔一側(cè)且與管道之間通過進(jìn)氣管相連;風(fēng)機(jī),安裝在進(jìn)氣管內(nèi),用于將一部分原煙氣抽入到結(jié)晶降氯塔內(nèi);結(jié)晶儲槽,安裝在結(jié)晶降氯塔一側(cè),兩者之間通過連接管相連;分離組件,設(shè)在結(jié)晶儲槽內(nèi),用于帶動結(jié)晶顆粒快速向結(jié)晶儲槽底部沉降。本發(fā)明提供的濃縮結(jié)晶裝置通過煙氣分流的方式降低脫硫系統(tǒng)與硫銨產(chǎn)品中的氯離子,通過升降板、橫板、濾板等多個部件的配合實(shí)現(xiàn)了升降板向下移動過程中濾板位于移動槽外側(cè),帶動較多的結(jié)晶沉降到結(jié)晶儲槽底部。

技術(shù)研發(fā)人員:楊會修
受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海魯源控制設(shè)備有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/4/28
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